“有泉久美子”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果22个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210269938.4在审
发明人：樱井英章;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和氧化铝（Al2O3）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与氧化铝（Al2O3）的摩尔比为50：50～95：5。
溅射及其制法利用得到薄膜层叠

[发明专利]溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210270117.2在审
发明人：樱井英章;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和一氧化硅（SiO）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与一氧化硅（SiO）的摩尔比为40：60～95：5。
溅射及其制法利用得到薄膜层叠

[发明专利]溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210270076.7有效
发明人：樱井英章;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和二氧化硅（SiO2）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与二氧化硅（SiO2）的摩尔比为40：60～95：5。
溅射及其制法利用得到薄膜层叠

[发明专利]溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210269939.9无效
发明人：樱井英章;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和二氧化锡（SnO2）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与二氧化锡（SnO2）的摩尔比为15：85～90：10。
溅射及其制法利用得到薄膜层叠

[发明专利]薄膜的制法及共蒸镀用蒸镀材、薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210008345.2有效
发明人： 有泉久美子;吉田勇气;樱井英章 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-01-12 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种透明性及气体遮断性优异的薄膜的制造方法、适合形成该薄膜的共蒸镀用蒸镀材、通过该方法得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片及层叠片。本发明的薄膜的制造方法，其特征在于，使用由第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由与该第1氧化物不同种类的第2氧化物构成的升华性蒸镀材，利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法，在基材上形成由第1氧化物和第2氧化物构成的氧化物薄膜。
薄膜制法共蒸镀用蒸镀材层叠

[发明专利]薄膜的制法及共蒸镀用蒸镀材、薄膜、薄膜片及层叠片-CN201210008509.1无效
发明人： 有泉久美子;吉田勇气;樱井英章 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2012-01-12 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供一种透明性及气体遮断性优异的薄膜的制造方法、适合形成该薄膜的共蒸镀用蒸镀材、通过该方法得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片及层叠片。本发明的薄膜的制造方法，其特征在于，使用由第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由第2氧化物构成的熔融性蒸镀材，利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法，在基材上形成由第1氧化物和第2氧化物构成的氧化物薄膜。
薄膜制法共蒸镀用蒸镀材层叠

[发明专利]水蒸气阻挡膜-CN201110427162.X有效
发明人：吉田勇气;有泉久美子;樱井英章;黛良享 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种显示较高的水蒸气阻挡性的水蒸气阻挡膜。一种水蒸气阻挡膜，使用由第1氧化物(X)构成的蒸镀材和由第2氧化物(Y)构成的蒸镀材，利用通过反应性等离子体蒸镀法同时蒸镀的共蒸镀法成膜，且由2种氧化物构成，其特征在于，当阻挡膜的膜厚在30～500nm范围内时，满足θ×ΔB≥50(其中，50°≤θ≤125°，ΔB＞0.4)。另外，θ表示成膜后在温度25℃、相对湿度50％RH的条件下至少保持一天的水蒸气阻挡膜的水滴接触角，ΔB表示第1氧化物(X)的碱度BX与第2氧化物(Y)的碱度BY之差的绝对值。并且，将在水蒸气阻挡膜中的第1氧化物(X)的含有比例设为x摩尔、第2氧化物(Y)的含有比例设为y摩尔时，x及y满足0.05≤x/(x+y)≤0.95。
水蒸气阻挡

[发明专利]水蒸气阻挡性的评价方法-CN201110427069.9无效
发明人：吉田勇气;有泉久美子;樱井英章;黛良享 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： G01N15/08 文献下载
摘要：本发明提供水蒸气阻挡性的评价方法，该方法无需实际测定水蒸气透过率，就能够轻松评价水蒸气阻挡膜的水蒸气阻挡性。使用由第1氧化物(X)构成的蒸镀材和由第2氧化物(Y)构成的蒸镀材、或包含第1氧化物(X)及第2氧化物(Y)双方的蒸镀材，对通过真空成膜法成膜的水蒸气阻挡膜的水蒸气阻挡性进行评价的方法，其特征在于，将由下述公式(1)计算的S1的值当作在温度40℃、相对湿度90％RH的条件下放置1小时后以温度40℃、相对湿度90％RH的条件测定的水蒸气阻挡膜的水蒸气透过率S(g/m2·天)进行评价。公式(1)：log10S1＝-0.015×(θ×ΔB)-0.25，公式(1)中，θ表示水滴接触角，ΔB表示第1氧化物(X)的碱度Bx与第2氧化物(Y)的碱度By之差的绝对值。
水蒸气阻挡评价方法

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110299927.6有效
发明人：黛良享;有泉久美子;吉田勇气;樱井英章 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-09-28 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，上述第一氧化物粉末为MgO粉末，第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，上述第二氧化物粉末为CaO和ZnO的混合粉末，第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粉末和第二氧化物粉末的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的摩尔比为5～90∶95～10，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110285639.5无效
发明人：黛良享;有泉久美子;吉田勇气;樱井英章 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-09-23 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，上述第一氧化物粉末为MgO粉末，第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，上述第二氧化物粉末为CaO粉末，第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粉末和第二氧化物粉末的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的摩尔比为5～99∶95～1，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110281125.2无效
发明人：黛良享;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-09-21 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，上述第一氧化物粉末为Y2O3粉末，该第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，上述第二氧化物粉末为选自ZnO、MgO和CaO中的一种粉末或两种以上的混合粉末，该第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粉末和第二氧化物粉末的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的比例为5～85∶95～15，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110235041.5有效
发明人：黛良享;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-08-11 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，上述第一氧化物粉末为ZnO粉末，该第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，上述第二氧化物粉末为CaO粉末，该第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粉末和第二氧化物粉末的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的比例为5～85∶95～15，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

[发明专利]薄膜形成用蒸镀材及具备该薄膜的薄膜片以及层叠片-CN201110179523.3有效
发明人：黛良享;有泉久美子 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-06-22 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种薄膜形成用蒸镀材及具备该薄膜的薄膜片以及层叠片，所述蒸镀材适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜。一种混合第1氧化物粉末和第2氧化物粉末而成的蒸镀材，其特征在于，第1氧化物粉末为MgO粉末，第1氧化物粉末的第1氧化物纯度为98％以上，第2氧化物粉末为ZnO粉末，第2氧化物粉末的第2氧化物纯度为98％以上，蒸镀材由含有第1氧化物粉末和第2氧化物粉末的颗粒构成，蒸镀材中的第1氧化物与第2氧化物的比率为5～85∶95～15，而且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用蒸镀材具备以及层叠

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110065635.6有效
发明人：黛良享;有泉久美子;黑光祥郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-03-14 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，第一氧化物粉末为CeO2粉末，第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，第二氧化物粉末为MgO或CaO中的任意一种粉末，或者选自ZnO、MgO和CaO中的两种以上的混合粉末，第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粒子和第二氧化物粒子的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的比例为5～85∶95～15，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

[发明专利]薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材-CN201110045965.9无效
发明人：黛良享;有泉久美子;黑光祥郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2011-02-23 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明提供适合形成透明性和阻气性优异的薄膜的气相沉积材和具备该薄膜的薄膜片材以及层压片材。本发明的气相沉积材为混合第一氧化物粉末和第二氧化物粉末而制作的气相沉积材，其特征在于，第一氧化物粉末为SnO2粉末，第一氧化物粉末的第一氧化物纯度为98％以上，第二氧化物粉末为选自ZnO、MgO和CaO中的一种粉末或两种以上的混合粉末，第二氧化物粉末的第二氧化物纯度为98％以上，气相沉积材由含有第一氧化物粒子和第二氧化物粒子的颗粒构成，气相沉积材中的第一氧化物与第二氧化物的摩尔比为5～85∶95～15，且颗粒的碱度为0.1以上。
薄膜形成用气相沉积具备压片

1
2
下一页»
尾页
共 22 条