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[发明专利]真空处理装置和真空处理方法和存储介质-CN200810131931.X有效
发明人： 早川升;出口新悟 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2009-01-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以高的精度进行压力调整的真空处理装置和真空处理方法和存储介质的技术。在其内部对被处理体进行真空处理的处理容器(20)，与另一端侧连接有真空排气单元(52)的8个排气通路(51)连接，设置与上述8个排气通路(51)之中的4个排气通路(51)对应，基于处理容器(20)内的压力检测值和压力设定值，自动控制排气通路(51)的开度的压力控制阀AV，与设置有该压力控制阀AV的排气通路(51)以外的排气通路(51)对应，设置将排气通路(51)的开度固定在被选择的开度的闸阀GV。
真空处理装置方法存储介质

[发明专利]基板检测机构以及基板收纳容器-CN200710146611.7有效
发明人： 早川升;冈部星儿 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-22 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：本发明提供一种即便被支承部件支承的基板的挠曲量发生变化也能可靠并且容易地检测有无基板的基板检测机构。在收纳基板(G)的容器主体(102)内设置支承基板(G)的支承部件(54)、和检测被支承部件(54)支承着的基板的有无的基板检测机构。基板检测机构具有向容器内射出光并接受反射光的光传感器(108)；改变光传感器(108)的角度的致动器(109)；和控制部(130)，该控制部根据被支承部件(54)支承着的基板(G)的挠曲量控制凭借致动器(109)的光传感器(108)的角度。
检测机构以及收纳容器