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- [发明专利]光记录介质和光记录介质的制造方法-CN201180039288.8无效
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柏木俊行;秋元义浩;齐藤公博;斋藤昭也
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索尼公司
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2011-08-11
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2013-04-24
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G11B7/24
- 本发明涉及光记录介质和光记录介质的制造方法,其能使合适的回放信号从光记录介质中属于条码形记录区域(BCA)的区域获取。从轨迹线方向看交替的高反射率区域和低反射率区域分别以连续状态在轨迹节距方向形成条码形反射图案,由此提供利用反射图案记录信息的记录区域(BCA)。在BCA中,低反射率区域由多行凹坑构成。另外,高反射率区域和低反射率区域形成为满足公式S+M/2≤0.6H,其中,从高反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“H”,从低反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“S”,从低反射率区域的反射束获取的回放信号的调制度表示为“M”。
- 记录介质制造方法
- [发明专利]曝光装置和曝光方法-CN201110038765.0无效
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斋藤昭也;铃木明俊;会田桐;林忍
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索尼公司;索尼信息技术股份有限公司
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2011-02-16
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2011-12-28
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G11B7/26
- 一种曝光装置包括:曝光单元,其利用通过透镜系统聚焦的第一激光束,在包括扫描方向上安排的凹坑和平台的图案中,选择性地对抗蚀层执行曝光;检测单元,其检测通过透镜系统施加到选择性地曝光给第一激光束的抗蚀层的第二激光束的反射,通过改变透镜系统的焦距产生所述第二激光束,使得防止抗蚀层对第二激光束产生响应;计算单元,其从检测结果计算表示分别从具有最小宽度和较大宽度的图案的第一部分和第二部分反射的束的信号波形的中心轴之间的位移;设置单元,其设置透镜系统的焦距为这样的值,使得该位移最大;以及控制单元,其控制曝光单元以将抗蚀层曝光给利用由设置单元设置的焦距聚焦的第一激光束。
- 曝光装置方法
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