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[发明专利]包括可压缩结构的成型装置-CN201711019019.0有效
发明人：何树泉;柯定福;丁佳培;苏建雄;拉加万德拉·拉温德拉 -专利权人：先进科技新加坡有限公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种成型装置，包括可操作以保持半导体衬底的第一模具部件和具有面向第一模具部件的主表面的第二模具部件。第一模具部件和第二模具部件能够在打开布置和闭合布置之间相对于彼此移动。主表面包括限定模腔的部分和至少部分地包围模腔的凹部。主表面还包括位于凹部内的可压缩结构，其中可压缩结构的至少一部分朝向第一模具部件从凹部延伸出，并且当可压缩结构以闭合布置接触半导体衬底时可压缩到凹部中。第二模具部件还包括一个或多个空气管道，其可操作以将压缩空气引入模腔中。
包括可压缩结构成型装置

[发明专利]压型机和压型机的压板-CN201510587638.4有效
发明人：苏建雄;柯定福;何树泉;丁佳培;拉加万德拉·拉温德拉 -专利权人：先进科技新加坡有限公司
申请日： 2015-09-15 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明一种用于密封在基板上的半导体模具的压型机的压板，所述压板包括：具有第一模具槽表面的第一模具槽；所述压板可与包含具有第二模具槽表面的第二模具槽的另一个压板有效配合以夹住基板，所述基板被保持到与所述第一或第二模具槽表面相关的面向基板的表面，在所述第一和第二模具槽表面之间限定相对于所述基板的至少一个模具腔；其中所述压板进一步包括旋转安装设备，所述第一或第二模具槽在所述旋转安装设备上可沿着穿过所述面向基板的表面的中心的至少一个轴旋转以调整所述第一和第二模具槽表面的相对位置。还公开了一种包括所述压板和与所述压板配合的所述另一个压板的压型机。
压板模具槽压型机基板面向基板旋转安装半导体模具夹住基板有效配合模具腔轴旋转密封穿过配合

[发明专利]用于化学气相沉积设备的馈通装置-CN201310233757.0有效
发明人：黎子兰;柯定福;帕拉尼潘·奇达巴拉姆;拉加万德拉·拉温德拉 -专利权人：先进科技新加坡有限公司
申请日： 2013-06-13 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置，该馈通装置包含有：i）馈通主体；ii）多个滑道单元以及iii）可相对于多个滑道单元旋转的馈通设备。滑道单元被提供在馈通主体的内部，而每个滑道单元包含有：流体输入通道，用于接收流体；延伸的滑道，其和流体输入通道进行流体互通，以接收来自流体输入通道的流体，该延伸的滑道螺旋式延展在该滑道单元的表面上。该馈通设备包含有多个馈通设备流体通道，馈通设备流体通道包含有用于接收来自相应的延伸的滑道的流体的馈通设备流体传送孔和用于将流体释放进入反应腔室的馈通设备流体排出孔。特别是，在馈通设备旋转期间每个馈通设备流体传送孔和相应的延伸的滑道进行流体互通，以接收来自相应的延伸的滑道的流体，而每个馈通设备流体排出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。
用于化学沉积设备装置

[发明专利]一种薄膜沉积装置-CN201210188760.0有效
发明人：柯定福;黎子兰;丁佳培;拉加万德拉·拉温德拉 -专利权人：先进科技新加坡有限公司
申请日： 2012-06-08 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种利用反应源气体G1、G2将薄膜沉积到衬底113的表面的装置101被公开。所述装置101包括：i）被配置为容纳所述衬底的支撑设备111；和ii）被放置为与所述支撑装置相邻的旋转器105。具体地，旋转器105包括用于连接到发动机的轴毂106，一个或多个连接到轴毂106的叶片201。特殊地，所述一个或多个叶片201是运行着的以在一个平面上围绕轴毂旋转以便驱动反应源气体G1、G2的流体流动，以便将所述反应源气体G1、G2分布在衬底113的表面。
一种薄膜沉积装置