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[发明专利]一种通过模板控制残胶层厚度的衍射光学元件加工方法-CN202310721598.2在审
发明人：尹建军;李晓萱;蔡璐 -专利权人： 慕德微纳（杭州）科技有限公司
申请日： 2023-06-19 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种通过模板控制残胶层厚度的衍射光学元件加工方法，其包括以下步骤，建立模板与衍射光学元件之间的结构补偿关系，根据衍射光学元件不同分区的衍射光栅尺寸，确定残胶层刻蚀速率、以及模板表面的图案尺寸，并形成模板；使用模板将图案压印到可压印介质中，并将无机介质衬底压在可压印介质表面后，使可压印介质压印固化，脱模，检测最小占空比分区上的残胶层厚度；根据刻蚀时间和刻蚀速率，同步分区刻蚀可压印介质，以同时刻蚀完成残胶层。本发明通过控制模板来补偿残胶层结构，解决了现有压印转刻蚀方法在处理残胶层不一致的问题，能不同分区同时刻蚀完成残胶层，且不会改变结构区域线宽，加工可靠性高，适用于工业化应用。
一种通过模板控制残胶层厚度衍射光学元件加工方法

[发明专利]一种衍射光学元件的同步分区加工方法-CN202310721602.5在审
发明人：蔡璐;李晓萱;尹建军 -专利权人： 慕德微纳（杭州）科技有限公司
申请日： 2023-06-19 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种衍射光学元件的同步分区加工方法，其包括以下步骤，根据衍射光栅尺寸、刻蚀选择比、以及不同占空比情况下的负载效应，确定压印模板表面的图案尺寸、可压印介质衬底以及无机介质的刻蚀速率，并形成压印模板；使用压印模板将图案压印到可压印介质中，并将无机介质衬底压在可压印介质表面后，使可压印介质压印固化，脱模，检测残胶厚度；设定不同分区下的刻蚀时间，并同步分区刻蚀可压印介质和无机介质衬底，以在无机介质衬底表面形成衍射光栅。本发明通过控制压印模板的尺寸来控制残胶厚度，具有提高加工效率、降低加工成本、加工质量趋于一致的优点。
一种衍射光学元件同步分区加工方法

[实用新型]一种透射式衍射光栅-CN202320552379.1有效
发明人：蔡璐;李晓萱;尹建军 -专利权人： 慕德微纳（杭州）科技有限公司
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种透射式衍射光栅，其包括衬底、设置于所述衬底上的第一光栅层、以及设置于所述第一光栅层的栅齿上的第二光栅层；其中，所述第一光栅层的周期为550~600nm、刻蚀深度为1000~1200nm、栅齿宽度为250~300nm，所述第二光栅层的周期为550~600nm、刻蚀深度为300~400nm、栅齿宽度为200~300nm。本实用新型采用第一光栅层和第二光栅层在衬底上形成双层光栅结构，并通过对其栅齿和栅谷的结构和尺寸进一步优化，能将衍射效率从92%提升至98%以上，并对栅齿侧壁和栅谷底壁的粗糙度要求低，工艺容差较大，便于制备。
一种透射衍射光栅

[发明专利]一种窄带高反膜及增强现实镜片-CN202310245941.0在审
发明人：李晓萱;尹建军 -专利权人： 慕德微纳（杭州）科技有限公司
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种窄带高反膜及增强现实镜片，窄带高反膜，包括沿着厚度方向交错地排列并层叠设置的n+1个三氧化二铝膜层和n个二氧化钛膜层；增强现实镜片包括光学镜片和设置于所述光学镜片上的上述窄带高反膜。本发明的窄带高反膜具有在特定可见光波长下具有高反射率、而其他可见光波长下具有高透过率的特性，通过将衍射光波导出射光栅处部分被传输到非人眼方向的光线反射回光栅，具有改善AR镜片的显示效率、减少光波导过程中非人眼方向的光传播损失的优点，本发明的增强现实镜片，其解决了现有AR镜片显示亮度低、光利用率低、且部分光线朝向人眼反方向出射导致外部能够看见AR眼镜显示内容的问题，具有提高镜片的显示效率、同时保护隐私优点。
一种窄带高反膜增强现实镜片