专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体元件的制造过程中进行自动缺陷筛选的系统-CN202010297703.0有效
  • 林志诚;庄少特 - 应用材料公司
  • 2017-08-11 - 2023-09-12 - H01L21/67
  • 一种利用自适应机器学习进行自动缺陷筛选的系统,包括了自适应模型控制器、缺陷/干扰点档案库以及用于执行资料模型化分析的模块。其中的自适应模型控制器具有前馈路径以及反馈路径,前馈路径接收晶圆检测中取得的多个候选缺陷,反馈路径接收晶圆检测后由一个以上的已知缺陷筛选模型筛选后的感兴趣缺陷。自适应模型控制器从所接收的资料中选择资料样本、与扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)介接以取得用于验证各个资料样本为真实缺陷或干扰点的对应的SEM结果,并且编整模型训练与验证资料。用于执行资料模型化分析的模块由自适应模型控制器适应地控制,藉此根据目标规格利用模型训练与验证资料产生并验证一个以上的更新缺陷筛选模型。
  • 半导体元件制造过程进行自动缺陷筛选系统
  • [发明专利]半导体元件的制造过程中进行自动缺陷筛选的系统-CN201710685984.5有效
  • 林志诚;庄少特 - 应用材料公司
  • 2017-08-11 - 2020-06-12 - H01L21/67
  • 一种利用自适应机器学习进行自动缺陷筛选的系统,包括了自适应模型控制器、缺陷/干扰点档案库以及用于执行资料模型化分析的模块。其中的自适应模型控制器具有前馈路径以及反馈路径,前馈路径接收晶圆检测中取得的多个候选缺陷,反馈路径接收晶圆检测后由一个以上的已知缺陷筛选模型筛选后的感兴趣缺陷。自适应模型控制器从所接收的资料中选择资料样本、与扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)介接以取得用于验证各个资料样本为真实缺陷或干扰点的对应的SEM结果,并且编整模型训练与验证资料。用于执行资料模型化分析的模块由自适应模型控制器适应地控制,藉此根据目标规格利用模型训练与验证资料产生并验证一个以上的更新缺陷筛选模型。
  • 半导体元件制造过程进行自动缺陷筛选系统
  • [发明专利]在芯片设计布局中发现未知问题图案的系统与方法-CN201510662107.7有效
  • 庄少特;林志诚 - 应用材料公司
  • 2015-10-15 - 2019-10-25 - G06F17/50
  • 本发明揭露了一种系统,其包括在半导体制程的芯片设计布局中用于储存关键特征数据库的关键特征资料库;一统计模型创建器,基于储存在关键特征数据库中的问题电路图案,并且基于与已知问题电路图案相关的实体测量值及仿真数据或设计数据之间的偏差所获得的目标规格创建统计模型。该系统进一步包括一基于统计模型的预测器,其藉由将统计模型应用于大量由随机布局产生器所产生的候选电路图案,或者,基于藉由延伸芯片设计布局的微影制程检测所判定的重要点区域从芯片设计布局中所撷取出来的候选电路图案,或者,藉由利用强烈敏感度设定对已制造芯片设计布局的晶圆进行检测所获得的候选电路图案,来预测并且发现未知问题电路图案。
  • 芯片设计布局发现未知问题图案系统方法

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