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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板检查装置及基板检查方法-CN202110505263.8有效
发明人：洪映周;洪德和;金玟奎;崔桢熏 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开的基板检查装置可以包括：第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像；处理器，其基于所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的一个区域；第二光源，其朝向所述一个区域照射激光；及第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据；所述处理器可以基于所述光干涉数据，导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。
检查装置方法

[发明专利]OCT系统、OCT影像生成方法及存储介质-CN202110948304.0在审
发明人：洪映周;崔桢熏;洪德和 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明作为三维影像补正方法，为了补正因光学系而生成的CGC(Coherence Gate Curvature、相干门弯曲)导致的影像失真，从干涉信号生成放置了测量对象物的样本支架的三维影像，基于三维影像中出现的样本支架的盖玻片的影像，生成CGC轮廓，从CGC轮廓生成CGC拟合曲线，利用CGC拟合曲线，补正干涉信号。本发明还涉及一种能够执行三维影像补正方法的OCT(相干断层扫描)系统。
oct 系统影像生成方法存储介质

[发明专利]OCT系统、OCT影像生成方法及存储介质-CN201910423460.8有效
发明人：洪映周;崔桢熏;洪德和 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明作为三维影像补正方法，为了补正因光学系而生成的CGC(Coherence Gate Curvature、相干门弯曲)导致的影像失真，从干涉信号生成放置了测量对象物的样本支架的三维影像，基于三维影像中出现的样本支架的盖玻片的影像，生成CGC轮廓，从CGC轮廓生成CGC拟合曲线，利用CGC拟合曲线，补正干涉信号。本发明还涉及一种能够执行三维影像补正方法的OCT(相干断层扫描)系统。
oct 系统影像生成方法存储介质

[发明专利]基板检查装置及基板检查方法-CN201811433244.3有效
发明人：洪映周;洪德和;金玟奎;崔桢熏 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开的基板检查装置可以包括：第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像；处理器，其基于所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的一个区域；第二光源，其朝向所述一个区域照射激光；及第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据；所述处理器可以基于所述光干涉数据，导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。
检查装置方法

[发明专利]基板检查装置及基板检查方法-CN201811434729.4有效
发明人：洪映周;洪德和;金玟奎;崔桢熏 -专利权人：株式会社高迎科技
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括：光源，其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光；光传感器，其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据；及处理器，其基于所述光干涉数据，导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。
检查装置方法

[实用新型]基板检查装置-CN201821975696.X有效
发明人：洪映周;洪德和;金玟奎;崔桢熏 -专利权人：株式会社高永科技
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括：光源，其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光；光传感器，其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据；及处理器，其基于所述光干涉数据，导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。
涂覆膜基板检查装置光干涉激光表面反射光传感器激光透过测量光基准光散射处理器导出基板涂覆光源照射干涉

[实用新型]基板检查装置-CN201821979651.X有效
发明人：洪映周;洪德和;金玟奎;崔桢熏 -专利权人：株式会社高永科技
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开的基板检查装置可以包括：第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像；处理器，其基于所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的一个区域；第二光源，其朝向所述一个区域照射激光；及第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据；所述处理器可以基于所述光干涉数据，导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。
涂覆膜基板基板检查装置二维图像光传感器光干涉处理器导出光源区域照射激光紫外线照射荧光染料荧光紫外线捕获照射激光

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