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- [发明专利]成像数据处理装置-CN201880093329.3有效
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2018-05-30
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2023-06-16
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G01N27/62
- 图像制作部(33)制作与相同的试样上的测定区域有关的每m/z的MS成像图像和光学图像，图像位置对准处理部(34)使分辨率一致并且进行图像位置对准。回归分析执行部(35)将基于MS成像数据的矩阵设为解释变量，将基于光学图像制作的以每个像素的亮度值为元素的矩阵设为被解释变量，执行PLS，来制作回归模型。图像制作部(33)将解释变量、即MS成像数据的各像素中的每个质荷比值的信号强度值应用于回归模型，来制作预测图像。显示处理部(39)将参照图像和预测图像显示在显示部(5)的画面上。由此，作业者能够确认MS成像图像与光学图像的分布的类似性的程度。其结果，能够评价所制作出的回归模型的准确性。
- 成像数据处理装置
- [发明专利]质谱分析方法和质谱分析装置-CN202180062144.8在审
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高桥秀典;山口真一
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株式会社岛津制作所
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2021-07-30
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2023-05-09
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G01N27/62
- 一种质谱分析装置(1)，具备：反应室(132)，其被导入源自试样分子的前体离子；碰撞气体供给部(4)，其向所述反应室供给碰撞气体；自由基供给部(5)，其向所述反应室供给氢自由基、氧自由基、氮自由基以及羟基自由基中的任意者；裂解操作控制部(63)，其通过控制所述碰撞气体供给部和所述自由基供给部的动作，来在所述反应室的内部使所述前体离子发生碰撞诱导裂解和自由基加成裂解从而生成产物离子；离子检测部(145)，其对从所述反应室放出的离子进行质量分离并进行检测；以及谱数据生成部(64)，其基于由所述离子检测部得到的检测结果来生成谱数据。
- 谱分析方法装置
- [发明专利]色谱质谱分析用数据解析装置-CN201680090726.6有效
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2016-11-09
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2022-02-25
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G01N27/62
- 多变量解析运算部(43)分别将由PDA检测器(2)获取到的数据中的特定波长rλ1下的色谱数据与由质谱仪(3)重复获取到的质谱数据进行矩阵化。然后，以基于质谱数据的二维矩阵为解释变量并以基于色谱数据的一维矩阵为被解释变量，来执行PLS的运算，从而算出回归系数矩阵。针对每个m/z值得到回归系数，回归系数大的m/z值表示特定波长下的色谱波形与提取离子色谱(XIC)类似的m/z值。因此，m/z值提取部(44)将回归系数与阈值进行比较来提取有意义的m/z值，XIC制作部(46)制作所提取出的m/z值下的XIC。通过事先指定操作员关注的部分化学结构特异性地吸收的波长λ1，不进行基于操作员手动作业的波形处理，就能够得到与包含该部分化学结构的分子种对应的XIC。
- 色谱谱分析数据解析装置
- [发明专利]分析装置-CN201980097569.5在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2019-09-13
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2022-01-28
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G01N27/626
- 本发明涉及分析装置，通过对试样分别进行规定的分析来收集数据并对该数据进行处理，该分析装置具备：解析处理部(23)，为了进行多个测量对象之间的差异的解析或者该多个测量对象的分类，执行基于收集到的数据的多变量解析处理；特征提取部(24)，根据多变量解析结果，按照规定的基准，提取被推测为以差异或分类为主进行关联的特征性的参数或要素；图像生成部(25)，生成与提取出的参数或要素对应的规定的二维范围的成像图像；显示处理部(26)，对在多变量解析结果上提取出的特征性参数或要素和与之对应生成的成像图像分配相同的视觉形态，并将它们显示在显示部(4)。
- 分析装置
- [发明专利]成像质量分析装置、以及成像质量分析方法-CN202110231139.7在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2021-03-02
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2021-12-17
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G06T7/11
- 本发明的成像质量分析装置具备：测量部，分别对设定在目标试样上的测量区域内的多个微小区域执行质量分析；降维处理部，对测量部得到的每个微小区域的质量分析数据进行利用了流形学习的非线性降维法的处理，得到将相当于m/z值的数量的维度降维为三维的每个微小区域的数据；显示颜色确定部，通过在以三维的各维度作为轴并将三原色分别分配至各轴的三维空间中配置与在降维处理部中的降维后的每个微小区域的数据对应的点，分别确定该多个点的颜色；分割图像生成部，通过将具有赋予三维空间内的各点的颜色的像素与该各点所对应的微小区域的测量区域内的位置相对应地配置在二维上，生成与该测量区域或其中一部分的区域相对应的分割图像。
- 成像质量分析装置以及方法
- [发明专利]成像质量分析方法以及成像质量分析装置-CN202110412074.6在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2021-04-16
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2021-12-17
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G01N27/62
- 本发明的一方案是用对同种多个试样分别进行成像质量分析的结果来解析该多个试样的成像质量分析装置，具备：测量部(1)，对试样上多个微小区域分别执行质量分析，获取质量分析数据；感兴趣区域设定部(32)，在解析对象的多个试样上分别设定感兴趣区域且将其分别分割为同数量的多个小区域使多个试样间该小区域所含的试样上的部位大致相同；独立指标值算出部(33)，对每个小区域使用由测量部对该小区域所含的微小区域得到的质量分析数据，算出反映多个试样间的每个m/z值表达程度的类似性或差异性的独立指标值；综合指标值算出部(34)，用针对多个小区域得到的每个m/z值的独立指标值，算出多个试样的感兴趣区域间的每个m/z值的综合指标值。
- 成像质量分析方法以及装置
- [发明专利]成像质量分析装置-CN201980093553.7在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2019-04-24
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2021-10-19
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G01N27/62
- 本发明的一方案的成像质量分析装置具备：分析执行部(1)，对于设定在试样(5)上的二维的测量区域(50)内的多个微小区域分别执行针对目标成分的MSn分析来收集数据；离子选择部(21)，基于由分析执行部(1)得到的数据的至少一部分，选择源自目标成分或者推定为源自目标成分的多种产物离子；分布图像创建部(22)，利用针对多种产物离子各自的测量区域内的各微小区域中的信号强度，推定在该测量区域之中这些多种产物离子均被检测出的小区域、或者所述多种产物离子共同源自所述目标成分的可靠性较高的小区域，创建将该小区域可视化的分布图像。由此，相比于使用1种产物离子的情况，能够创建精度较高的MS成像图像。
- 成像质量分析装置
- [发明专利]成像分析装置-CN201980093558.X在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2019-04-24
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2021-10-19
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G01N27/62
- 本发明的成像质量分析装置具备：分析执行部(1)，对设定在试样(50)上的二维或试样中的三维测量区域(50)内的多个微小区域执行规定的分析，收集数据；第1图像创建部(21)，用分析执行部(1)得到的数据创建分别反映试样(50)包含的特定的一个或多个成分分布的一个或多个第1分布图像；运算式存储部(23)，至少预先存储包含一个或多个特定成分作为要素的化学反应式、或包含该特定成分的量作为要素的计算式作为运算式；信号值计算部(25)，用根据用户指示从运算式存储部(23)获取的运算式，根据构成一个或多个第1分布图像的各微小区域的信号值，算出其他信号值；第2图像创建部(26)，基于计算结果创建第2分布图像。
- 成像分析装置
- [发明专利]成像质量分析装置-CN201980093554.1在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2019-04-24
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2021-10-15
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G01N27/64
- 本发明的一实施方式的成像质量分析装置具备：分析执行部(1)，对于设定在试样(3)上的二维的或者试样中的三维的测量区域(30)内的多个微小区域分别执行针对目标成分的MSn分析(n为2以上的整数)并收集数据；产物离子提取部(21)，基于通过该分析执行部得到的数据的至少一部分，提取在试样中观测到的多个产物离子；二维分布创建部(22)，基于针对MSn分析时的前体离子以及多个产物离子各自的数据，求出二维分布；分布关系性可视化部(23，25)，调查前体离子以及多个产物离子的二维分布的关系性，创建示出该二维分布的包含关系的图形或者图表，显示于显示部(4)。
- 成像质量分析装置
- [发明专利]成像数据解析装置-CN201880098461.3在审
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山口真一
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株式会社岛津制作所
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2018-11-20
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2021-05-14
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G01N27/62
- 本发明涉及成像数据解析装置，若用户在试样的显微观察图像上对差异解析的对象的多个组指定感兴趣区域，则m/z候选探索部(32)基于收集的质谱数据探索被推测为存在差异的m/z候选。强度直方图生成处理部(33)对每个m/z候选生成示出各组的感兴趣区域所含的测量点中的峰强度的频率分布的图表并显示。在该图表示出多峰性的情况下，由于是不符合统计假设检验的数据分布，因此强度范围确定部(34)根据用户的指示限定强度范围，ROI修正部(35)仅对具有限定强度范围所含的峰强度的测量点修正ROI。而且，检验处理部(36)使用与修正后ROI对应的数据进行统计假设检验。由此，即使由用户设定的开始的感兴趣区域不恰当，也能够进行可靠性高的差异解析。
- 成像数据解析装置
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