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[发明专利]光记录再现装置、光记录再现方法-CN201210065799.3无效
发明人：菊川隆;小须田敦子;丑田智树;井上素宏 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2012-03-09 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：提供光记录再现装置及光记录再现方法，即使在光记录介质中采用多层记录再现层，也能够抑制进行记录再现时的信号品质恶化。进而能够提高传送率。光记录再现装置(90)具有第一光学系统和第二光学系统，在通过照射光来对具有多个记录再现层(14)的光记录介质(10)进行信息记录再现时，第一光学系统通过对成为第一对象的记录再现层(14A～14E)照射第一光束(770A)来进行信息记录再现，第二光学系统通过对成为第二对象的所述记录再现层(14F～14J)照射第二光束(770B)来进行信息的记录再现，并且，所述记录再现层(14)是预先层叠形成或事后形成的。
记录再现装置方法

[发明专利]多层光记录介质-CN201210032933.X无效
发明人： 小须田敦子;菊川隆;丑田智树;井上素宏 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2012-02-09 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G11B7/242 文献下载
摘要：本发明的多层光记录介质能够使多层光记录介质的设计简单且增加叠层数量。在隔着中间层层叠有至少4层以上的能够通过照射光来再现信息的记录再现层的多层光记录介质(10)中，具有至少1个记录再现层组，该记录再现层组由沿着层叠顺序连续的多层记录再现层构成，并且从接近光入射面的外侧朝向里侧，该记录再现层组的叠层状态的反射率减小，使最外侧的记录再现层的单层反射率为0.2％以上且小于2.0％，对光入射面实施提高光透过率加工。
多层记录介质

[发明专利]光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法-CN201210028208.5无效
发明人：井上素宏;丑田智树;小须田敦子;菊川隆 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2012-02-03 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：提供光记录再现方法及装置、光记录介质及其制造方法。光记录介质包括：预先层叠而成或事后形成且不具有循轨控制用凹凸的记录再现层、形成有循轨控制用凹凸或沟槽的伺服层，而且一边利用该伺服层来进行循轨，一边对记录再现层进行信息记录。
记录再现方法装置介质及其制造

[发明专利]多层光记录介质-CN201110328437.4无效
发明人：菊川隆;井上素宏;小须田敦子;丑田智树 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-10-21 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种多层光记录介质，抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，也实现记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。在层积4层以上的记录再现层的多层光记录介质中，具有至少两组以上由以层积顺序连续的多个记录再现层构成的记录再现层组。在各记录再现层组内，特定的记录再现层的层积状态的反射率比与该记录再现层在光入射面侧连续的两个记录再现层的层积状态的反射率中的最大值更小。另外，在隔着中间层而相邻的记录再现层组中，与在外侧的记录再现层组中排列在最里侧的两个记录再现层的层积状态的反射率中的最大值相比较，在里侧的记录再现层组中位于最外侧的记录再现层的层积状态的反射率更高。
多层记录介质

[发明专利]多层光记录介质-CN201110328451.4无效
发明人：菊川隆;井上素宏;小须田敦子;丑田智树;平田秀树 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-10-21 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种多层光记录介质，能够抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。一种多层光记录介质(10)，隔着中间层层积至少3层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，中间层的膜厚具有两种以下，除了距光入射面最远的记录再现层之外的剩余的所有的记再现层的光学常数彼此实质上相同。
多层记录介质

[发明专利]多层光记录介质-CN201110328418.1无效
发明人：井上素宏;菊川隆;小须田敦子;丑田智树;平田秀树 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-10-21 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G11B7/242 文献下载
摘要：本发明提供一种多层光记录介质，抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，还实现记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。在层积8层以上的记录再现层的多层光记录介质中，具有至少2组以上的记录再现层组(13A、13B)。各记录再现层组(13A、13B)由以层积顺序连续的多个记录再现层构成，层积状态的反射率从接近光入射面的外侧向远离该光入射面的里侧减少。另外，在相邻的记录再现层组(13A、13B)中，与在光入射面侧的记录再现层组(13B)中位于最里侧的记录再现层(14E)的层积状态的反射率相比较，在里侧的记录再现层组(13A)中位于最外侧的记录再现层(14D)的层积状态的反射率高。
多层记录介质

[发明专利]光记录介质系列-CN201110043793.1无效
发明人：平田秀树;菊川隆;小须田敦子;井上素宏 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：提供一种光记录介质系列。通过导入多个光记录介质之间统一的概念，使光读写头侧的负担变轻。该光记录介质系列备有多个光记录介质(10、20、30)，该光记录介质包括不具有循轨控制用凹凸的平面结构的多层记录再现层、形成有循轨控制用凹凸的伺服层，其中，这些多个光记录介质(10、20、30)中的至少一个光记录介质具有多层记录再现层，记录再现层的层叠数目在这些光记录介质(10、20、30)之间互不相同，相对于光入射面的上述伺服层的位置在这些光记录介质之间彼此相等，进而，至少一层记录再现层相对于光入射面的位置彼此相等。
记录介质系列

[发明专利]光记录介质、光记录再现方法-CN201110043822.4无效
发明人： 小须田敦子;井上素宏;菊川隆;平田秀树 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：提供光记录介质、光记录再现方法。能够使具有伺服层和记录再现层的光记录介质的记录容量增大。该光记录介质(10)具有多层记录再现层(14)和伺服层(18)，其中，伺服层(18)上的凹槽及平台这两者构成为能够利用长波长的伺服用光束(270)来进行循轨控制，记录再现层(14)构成为能够利用波长比伺服用光束的波长短的记录再现用光束(170)来记录信息，而且，利用凹槽和平台这两者来进行循轨，以此在记录再现层(14)上形成记录标记。
记录介质再现方法

[发明专利]光记录介质系列-CN201110043832.8无效
发明人：平田秀树;菊川隆;小须田敦子;井上素宏 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：提供一种光记录介质系列。通过导入多个光记录介质之间统一的概念，使光读写头侧的负担变轻。该光记录介质系列备有光记录介质(10、20、30)，该光记录介质包括不具有循轨控制用凹凸的平面结构的多层记录再现层、形成有循轨控制用凹凸的伺服层，其中，记录再现层的层叠数目在多个光记录介质(10、20、30)之间互不相同，相对于光入射面的上述伺服层的位置，在多个上述光记录介质(10、20、30)之间彼此相等。
记录介质系列

[发明专利]光记录再现方法、光记录介质-CN201110043821.X无效
发明人：井上素宏;菊川隆;小须田敦子;平田秀树 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G11B7/125 文献下载
摘要：提供一种光记录再现方法及光记录介质，能够迅速获取必要的记录再现层的信息，从而能够缩短再现时及追加记录时的寻道时间。该光记录再现方法是对于具有多层记录再现层(14)和伺服层(18)的光记录介质的光记录再现方法，利用伺服用光束照射伺服层来进行循轨控制，同时利用记录再现用光束照射记录再现层(14)来进行信息的记录再现，当在记录再现层(14)上记录信息时，在伺服层(18)上记录对记录再现层(14)的下一次以后的记录再现所需的管理信息。当进行下一次以后的记录再现时，参照伺服层(18)上的管理信息，并对记录再现层(14)进行记录再现。
记录再现方法介质

[发明专利]全息记录材料及其制造方法以及全息记录媒体-CN200810095702.7有效
发明人： 小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2008-04-24 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息记录材料、其制造方法及全息记录媒体，所述全息记录材料不仅在使用绿色激光而且在使用了蓝色激光的全息存储记录中，也能够实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性。一种全息记录材料，其包含金属氧化物和光聚合性化合物，所述金属氧化物至少含有Si和Zr作为金属，并且在Zr上配位有芳香族羧酸化合物。所述芳香族羧酸化合物可以使用甲苯酸。一种全息记录媒体(11)，其具有全息记录材料层(21)。
全息记录材料及其制造方法以及媒体

[发明专利]全息记录材料、其制造方法及全息记录介质-CN200810009097.7有效
发明人： 小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2008-02-13 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息记录材料，其不仅在使用绿色激光器的全息照相存储器记录中，而且在使用青色激光器的全息照相存储器记录中，都能实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重度，适于体积型全息记录，本发明还提供上述全息记录材料的制造方法以及具有全息记录材料层(21)的全息记录介质(11)。本发明的全息记录材料含有金属氧化物和光聚合性化合物，其中的金属氧化物作为金属至少含有Si和Zr，并且在Zr上配位有β－二羰基化合物，在金属氧化物中，β－二羰基化合物与Zr原子的摩尔比(β－二羰基化合物/Zr)在2/1以上3/1以下，并且Si原子与Zr原子的摩尔比(Si/Zr)大于1/1而在1.15/1以下。
全息记录材料制造方法介质

[发明专利]含钛金属氧化物的制造方法、全息记录材料、其制造方法及全息记录介质-CN200710199487.0有效
发明人： 小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： C01G23/047 文献下载
摘要：本发明提供一种着色减少的含钛金属氧化物的制造方法。提供将着色减少的含钛金属氧化物用作金属氧化物基质，还适合用于利用蓝色激光器的全息照相存储器记录的全息记录材料、其制造方法以及全息记录介质。一种金属氧化物的制造方法，所述金属氧化物中作为金属元素至少包含Ti，所述制造方法包括：准备配位有偕二元醇及连位二元醇以外的二元醇的Ti的烷氧基化合物的工序；使配位有所述二元醇的Ti的烷氧基化合物水解，得到金属氧化物的前驱体的工序；使所述金属氧化物前驱体进行缩聚反应，形成金属氧化物的工序。
金属氧化物制造方法全息记录材料介质

[发明专利]全息记录材料及全息记录介质-CN200710154389.5有效
发明人：林田直树;小须田敦子;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-09-26 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在不仅使用绿色激光器还使用了蓝色激光器的全息照相存储器记录中，也实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的适于体积型全息记录的全息记录材料及全息记录介质。一种全息记录材料，包含金属氧化物基质和光聚合型化合物，其中，金属氧化物基质至少将Si及Ti作为金属元素含有，Ti来源于含钛氧化物微粒。全息记录介质(11)具有由全息记录材料构成的全息记录层(21)。
全息记录材料介质

[发明专利]全息记录介质-CN200710148362.5有效
发明人：吉成次郎;小须田敦子;林田直树 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在使用了蓝色激光的全息照相存储器记录中，实现了高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的全息记录介质。在至少包含全息记录材料层的全息记录介质中，全息记录材料层(21)至少包含：金属氧化物、和光聚合性化合物；记录介质为在波长405nm具有50％以上的透光率或者在波长405nm具有25％以上的光反射率的全息记录介质(11)。
全息记录介质

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