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- [发明专利]缓冲器-CN202180065681.8在审
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小谷崇将
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日立安斯泰莫株式会社
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2021-09-21
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2023-06-02
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F16F9/32
- 具有：第一通路，其设置在活塞，通过活塞的移动使工作流体从缸内的成为上游侧的室向成为下游侧的室移动；第一衰减力产生机构，其设置在第一通路，产生衰减力；第二通路(141)，其设置在活塞杆(21)；固定部件，其固定在活塞杆(21)而形成第二通路(141)；第二衰减力产生机构，其设置在第二通路(141)，产生衰减力；具备节流部件(161)，该节流部件(161)设置在第二衰减力产生机构，在周向上大致等间隔地具有多个切口部(171)，并且通过切口部(171)在第二通路形成节流流路(76)，且形成为，无论圆周方向的安装位置如何，节流流路(76)的流路面积都为恒定。
- 缓冲器
- [发明专利]缓冲器-CN202180059862.X在审
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小谷崇将
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日立安斯泰莫株式会社
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2021-07-14
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2023-05-26
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F16F9/34
- 该缓冲器具备：第一通路(92)，所述第一通路(92)通过活塞(21)的移动而使工作流体从成为上游侧的室向成为下游侧的室(23)流出；第一衰减力产生机构(41)，所述第一衰减力产生机构(41)设置于第一通路(92)，产生衰减力；第二通路(182)，所述第二通路(182)与第一通路(92)分开设置；第二衰减力产生机构(183)，所述第二衰减力产生机构(183)设置于第二通路(182)，在活塞速度比第一衰减力产生机构(41)低时开阀而产生衰减力；第三通路(512)，所述第三通路(512)与第二通路(182)分开设置；体积可变机构(186)，所述体积可变机构(186)设置于第三通路(512)；第四通路(521)，所述第四通路(521)与第三通路(512)分开设置；以及溢流机构(522)，所述溢流机构(522)设置于第四通路(521)，在第二衰减力产生机构(183)开阀之后开阀。
- 缓冲器
- [发明专利]缓冲器-CN202180059027.6在审
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小谷崇将;山田健太郎;山下干郎
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日立安斯泰莫株式会社
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2021-07-14
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2023-05-16
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F16F9/34
- 该缓冲器具有设置于活塞(21)的通路(72、92)的第一衰减力产生机构(41、42)和设置于活塞杆(25)的第二衰减力产生机构(173、183)。第二衰减力产生机构(173、183)具备阀座部件(109)、设置于阀座部件(109)的副阀(107、110)及覆盖第二衰减力产生机构(173)的一端侧和阀座部件(109)的外周的至少一部分的盖部件(305)。在盖部件(305)的一端侧形成有连通路(148、302)。配置有以使一端面侧与盖部件(305)的比连通路(148、302)靠外周侧处抵接的方式设置的施力部件(116、117)和以供施力部件(116、117)的另一端面侧抵接的方式设置的能够挠曲的挠性盘(100)。
- 缓冲器
- [发明专利]缓冲器-CN202180059272.7在审
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山下干郎;小谷崇将
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日立安斯泰莫株式会社
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2021-07-14
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2023-05-16
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F16F9/34
- 该缓冲器具有：设置于活塞(21)的通路(92)的第一阻尼力产生机构(41)、设置于活塞杆(25)的第二阻尼力产生机构(183)、和设置于活塞杆(25)的流体储存机构(190)。流体储存机构(190)具有：在第二阻尼力产生机构(183)开阀之前变形的挠性盘(100)、在内周端部到外周端部之间具有孔部(415)并且内周端部形成为能够插入活塞杆(25)的板状的施力部件(116、117)。
- 缓冲器
- [发明专利]缓冲器-CN202080046696.5在审
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山下干郎;小谷崇将
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日立安斯泰莫株式会社
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2020-03-25
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2022-02-18
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F16F9/32
- 具有：缸，其供工作流体封入；活塞，其可滑动地设置在所述缸内，并将该缸内划分为两个室；活塞杆，其与所述活塞连结并且延伸到所述缸的外部；第一通路以及第二通路，其通过所述活塞的移动使工作流体流出；第一衰减力产生机构，其设置在所述第一通路上，产生衰减力；第二衰减力产生机构，其设置在所述第二通路上，产生衰减力。所述第二衰减力产生机构具有：副阀，其设置在所述第二通路的一侧；体积可变机构，其变更与所述第二通路并联地设置的体积室的体积。
- 缓冲器
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