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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积掩模-CN202210922237.X在审
发明人：李德重;孙智熙;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-08-02 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及沉积掩模。该沉积掩模包括：树脂膜，该树脂膜包括第一孔；非树脂层，该非树脂层设置在树脂膜上并且包括对应于第一孔的第二孔；和保护层，该保护层设置在非树脂层上并且包括对应于第一孔的第三孔，其中保护层包括设置在非树脂层的顶部表面上的第一部分和覆盖非树脂层的第二孔的侧表面的第二部分。
沉积

[发明专利]掩模-CN202210842559.3在审
发明人：文英慜;金桢国;文敏浩;孙智熙;宋昇勇;李娥凛 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模。所述掩模包括：突出部，包含上表面、与所述上表面对向的下表面以及连接所述上表面和所述下表面并从所述下表面以预定的角度倾斜的侧表面，并且定义有沉积孔；周边部，包含从所述突出部的所述上表面延伸并定义与所述上表面相同的表面的第一表面以及与所述第一表面对向并与所述突出部的所述下表面具有阶梯差的第二表面，并且围绕所述突出部；以及涂覆膜，布置于所述突出部上。所述突出部包括从所述侧表面突出的突起以及从所述侧表面去除所述突出部的至少一部分而形成的槽中的至少一个，所述涂覆膜覆盖所述突起以及所述槽中的至少一个。
掩模

[发明专利]具有掩模组件的沉积装置-CN202210853290.9在审
发明人：文敏浩;文英慜;孙智熙;宋升勇 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及沉积装置。沉积装置包括室、掩模组件、沉积衬底以及沉积源，掩模组件设置在室中并且包括开口片、第一掩模和第二掩模，开口片包括第一区域和第二区域，第一区域中限定有第一沉积孔，第二区域中限定有与第一沉积孔间隔开的第二沉积孔，第一掩模包括与第一区域重叠的多个沉积开口，第二掩模包括与第二区域重叠的多个沉积开口；沉积衬底设置在掩模组件上；沉积源向掩模组件喷射沉积材料。
具有模组沉积装置

[发明专利]掩模-CN202210112682.X在审
发明人：文英慜;文敏浩;孙智熙;宋昇勇;任星淳;赵俊豪 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种掩模，所述掩模包括：掩模框，包括基体部和涂覆部，基体部中限定有单元开口，涂覆部围绕单元开口的边缘，覆盖基体部的上表面的至少一部分，并且包括与基体部的材料不同的材料；以及单位掩模，位于掩模框上，分别对应于单元开口，包括与涂覆部的材料不同的材料，并且单位掩模中限定有开口。
掩模

[实用新型]掩模-CN202220245708.3有效
发明人：文英慜;文敏浩;孙智熙;宋昇勇;任星淳;赵俊豪 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供了一种掩模，所述掩模包括：掩模框，包括基体部和涂覆部，基体部中限定有单元开口，涂覆部围绕单元开口的边缘，覆盖基体部的上表面的至少一部分；以及单位掩模，位于掩模框上，分别对应于单元开口，并且单位掩模中限定有开口。该掩模具有提高的可靠性并且可以降低工艺成本。
掩模

[发明专利]包括掩模的沉积装置-CN202111511396.2在审
发明人： 孙智熙;文英慜;金载运;宋升勇;任星淳;郑锺铉;赵炫珉 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及沉积装置。沉积装置包括腔室、设置在腔室中的沉积源、掩模组件、以及设置在掩模组件上的基础衬底。掩模组件包括具有框架开口的框架、设置在框架上并包括沉积孔的掩模、以及设置在掩模上的焊条。焊接槽沿着框架的边缘设置，并且在框架的厚度方向上具有深度。焊条与焊接槽重叠。
包括沉积装置

[发明专利]掩模、设置掩模的方法以及使用其设置显示面板的方法-CN202111313981.1在审
发明人：李璱;文敏浩;文英慜;孙智熙;宋升勇;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及设置沉积掩模的方法、设置显示面板的方法和沉积掩模。设置掩模的方法包括:设置面对第二掩模层的第一掩模层；在第二掩模层中,设置对应于掩模的沉积开口的第一开口；设置辅助层，辅助层面对第一掩模层且第二掩模层位于它们之间并且覆盖第一开口；在辅助层中，设置对应于第一开口并将第一掩模层暴露于辅助层外部的第二开口；在第一掩模层中，通过使用辅助层作为掩模，设置对应于第一开口和第二开口的第三开口；以及设置辅助层与第一掩模层和第二掩模层分离，以设置具有包含第三开口的第一掩模层和包含第一开口的第二掩模层的沉积掩模。
掩模设置方法以及使用显示面板

[发明专利]掩模、掩模制造方法及掩模组件-CN202111247421.0在审
发明人： 孙智熙;文敏浩;文英慜;宋昇勇;李璱;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在此公开了一种掩模、掩模组件和制造掩模的方法。所述掩模包括：聚合物膜，在其中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在聚合物膜上并且包括金属；无机层，设置在聚合物膜和导电层之间并且包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透聚合物膜、导电层和无机层并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。
掩模制造方法模组

[发明专利]沉积设备-CN202111043008.2在审
发明人： 孙智熙;文英慜;李德重;文敏浩;宋昇勇;李璱;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：实施例提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括掩模框架、开口片、沉积掩模和静电吸盘。在掩模框架中，限定有第一开口部。开口片设置在掩模框架上。在开口片中，限定有与第一开口部叠置的第二开口部。沉积掩模设置在开口片上。在沉积掩模中，限定有与第二开口部叠置的多个第三开口部。静电吸盘设置在沉积掩模上并且其上设置有基底。基底设置在静电吸盘的表面上，并且AC电力施加到沉积掩模。
沉积设备

[发明专利]沉积掩模以及设置沉积掩模的方法-CN202110922916.2在审
发明人：李德重;孙智熙;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-08-12 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种沉积掩模以及设置该沉积掩模的方法。该沉积掩模包括：掩模膜，包括聚合物；多个第一沉积开口，限定在掩模膜中；以及导电层，在掩模膜上并且接收电力。导电层包括沿着掩模膜彼此间隔开并且彼此电断开的第一导电图案和第二导电图案。导电层在第一导电图案和第二导电图案处接收电力，并且在第一导电图案和第二导电图案处电力的接收提供沉积掩模的静电吸盘功能。
沉积以及设置方法

[发明专利]掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法-CN202110096084.3在审
发明人：金泰圣;吕伦钟;赵炫珉;孙智熙;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-25 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法。其中，所述掩模的制造方法包括如下步骤：在掩模基板上形成有机物质层，在所述有机物质层上图案化硬掩模；蚀刻所述有机物质层而形成包括贯通孔的掩模片；去除布置在所述掩模片上的所述硬掩模；在所述掩模片上形成导电物质层；以及蚀刻所述导电物质层而形成导电层。
制造方法据此显示装置

[发明专利]掩模、用于制造掩模的方法及用于制造显示面板的方法-CN202011425033.2在审
发明人：郭珍午;任星淳;文英慜;孙智熙;宋升勇;李德重;秋惠容 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本申请提供了掩模，所述掩模具有多个单元区域，所述多个单元区域中的每一个具有限定在其中的多个贯穿部。所述掩模包括包含聚合物的掩模膜和设置在所述掩模膜的至少一个表面上并且包含导电金属或导电金属氧化物的导电层。因此，增强了沉积过程的精度，同时降低了所述掩模的制造过程中的过程时间和成本，并且因此改善了使用所述掩模制造显示面板的产率。因此，使用所述掩模制造的所述显示面板可以具有改善的可靠性。
掩模用于制造方法显示面板

[发明专利]掩模、制造所述掩模的方法及制造显示面板的方法-CN202011611069.X在审
发明人：任星淳;文英慜;孙智熙;文敏浩;宋升勇;李德重;李露 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本申请提供了掩模，所述掩模包括具有多个通孔部并且包括聚合物膜和分散在所述聚合物膜中的多个磁性颗粒的掩模主体，以及设置在所述掩模主体的外表面上的聚合物涂层。因此，减少了制造掩模的时间和成本，并且也改善了沉积过程的精度，使得使用所述掩模的显示面板的成品率得到改善并且使用所述掩模制造的显示面板具有改善的可靠性。
掩模制造述掩模方法显示面板

[发明专利]制造显示设备的方法-CN201980054769.2在审
发明人： 孙智熙;金圣哲;郑知泳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：一种制造显示设备的方法包括以下步骤：在其上形成有第一像素电极的基底上形成第一下剥离层、第一上剥离层和第一光致抗蚀剂层；部分地去除第一光致抗蚀剂层、第一上剥离层和第一下剥离层，以形成包括使第一像素电极暴露的第一光致抗蚀剂图案、第一上剥离图案和第一下剥离图案的第一掩模层；通过使用第一掩模层在第一像素电极上形成第一发光层和第一对电极；在第一对电极上形成第一钝化层；以及去除第一掩模层。
制造显示设备方法

[发明专利]显示设备-CN201811588804.2在审
发明人：文畯焕;权宁吉;李瑟;孙智熙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：提供一种显示设备。该显示设备包括：基板；像素电极，位于基板上；像素限定层，具有使像素电极的中心部分暴露的第一开口以及限定第一开口的阻挡部分；辅助电极，位于阻挡部分上；中间层，位于像素电极上；以及对电极，位于中间层上并且与辅助电极电接触。
显示设备像素电极辅助电极中间层基板开口阻挡像素限定层电接触对电极暴露

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