专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]装载腔体及其清洗方法、及半导体设备-CN202211730410.2在审
  • 周仁;石帅;吴刘兴 - 江苏微导纳米科技股份有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-04 - H01L21/67
  • 本申请涉及一种装载腔体及其清洗方法、及半导体设备,包括腔本体。腔本体内部构造有至少一个装载腔,且具有连通各装载腔的进气部和出气部。其中,腔本体具有至少一个分散部,每一分散部对应一装载腔布置,各分散部包括独立设置的多个分散孔,各个分散孔均连通进气部与对应的装载腔,并用于分散进入对应装载腔内的气流。与现有技术相比,本申请能够分散气流并降低气流速度,有效避免气流集中形成涡流,装载腔内气体分布更加均匀,气流与装载腔内壁的接触几率大大增加,提高了气流清除装载腔内壁附着的微粒粉尘效果,可以延长装载腔体的维护周期,降低维护成本,也可帮助提高基片的良品率。
  • 装载及其清洗方法半导体设备
  • [发明专利]半导体加工设备及晶圆传输平台-CN202211084311.1在审
  • 周仁;吴飚;石帅;吴刘兴 - 江苏微导纳米科技股份有限公司
  • 2022-09-06 - 2023-02-03 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种半导体加工设备及其晶圆传输平台,晶圆传输平台包括:平台本体,所述平台本体上设置有用于晶圆抓取的机械手;拓展腔,所述拓展腔为至少一个,且所述拓展腔位于所述平台本体的旁侧,并通过连接件可拆卸地安装于所述平台本体,所述拓展腔与所述平台本体构成平台区;反应腔组,所述反应腔组为多组,且各反应腔组分设于所述平台区的外周。在某个或者某些反应腔出现故障时,可以选择与之并列的其他反应腔完成工作,而无需停机,不仅提高了晶圆加工效率,且降低了设备维护成本。
  • 半导体加工设备传输平台
  • [发明专利]一种晶圆厚度检测设备-CN201910558941.X在审
  • 陆敏杰;吴刘兴 - 无锡纵合创星科技有限公司
  • 2019-06-26 - 2020-12-29 - G01B11/06
  • 本发明提供一种晶圆厚度检测设备,包括壳体、晶元传送盒、计算机、预对准装置、机械手、运动台电控箱和气浮厚度检测台,晶元传送盒安装在壳体内置的预对准装置的晶元入口处,位于晶元传送盒和预对准装置之间设置有机械手,位于预对准装置的出料口设置有气浮厚度检测台和光谱共焦传感器,光谱共焦传感器数据连接至计算机。本发明避免了接触式检测的低效和晶圆表面划伤的风险,避免晶圆片被污染,采用FFU顶置保证整个检测设备空间里的洁净度,提高测量精度。
  • 一种厚度检测设备
  • [实用新型]一种晶圆厚度检测设备-CN201920980332.9有效
  • 陆敏杰;吴刘兴 - 无锡纵合创星科技有限公司
  • 2019-06-26 - 2020-03-03 - G01B11/06
  • 本实用新型提供一种晶圆厚度检测设备,包括壳体、晶元传送盒、计算机、预对准装置、机械手、运动台电控箱和气浮厚度检测台,晶元传送盒安装在壳体内置的预对准装置的晶元入口处,位于晶元传送盒和预对准装置之间设置有机械手,位于预对准装置的出料口设置有气浮厚度检测台和光谱共焦传感器,光谱共焦传感器数据连接至计算机。本实用新型避免了接触式检测的低效和晶圆表面划伤的风险,避免晶圆片被污染,采用FFU顶置保证整个检测设备空间里的洁净度,提高测量精度。
  • 一种厚度检测设备

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