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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种建筑物通风的消声装置-CN202321224522.0有效
  • 吕景元 - 吕景元
  • 2023-05-19 - 2023-09-22 - F24F13/24
  • 本实用新型涉及一种建筑物通风的消声装置，包括建筑主体，所述建筑主体的一侧外壁固定连接有安装架，所述安装架的顶部外壁安装有机箱，所述机箱上滑动安装有延伸框，所述延伸框远离收纳槽的一侧安装有百叶框，所述机箱上设置有定位组件，所述定位组件用于对延伸框的位置进行固定，所述机箱的内部设置有消音组件。本实用新型，通过设置有消音组件，当机箱中的风机启动时，通过消音组件对风机运行时产生的噪音进行吸收，进而达到减少噪音的效果。
  • 一种建筑物通风消声装置
  • [发明专利]晶片的标记方法、晶圆及晶片-CN201910058383.0在审
  • 车行远;吕景元;吕美蓉 - 力晶科技股份有限公司
  • 2019-01-22 - 2020-07-14 - H01L21/67
  • 一种晶片的标记方法，包括以下步骤。提供晶圆，其中晶圆包括多个晶片。在晶圆上划分出多个曝光区，其中每个曝光区对应到多个晶片中的至少一个。利用第一掩膜形成每个晶片中的第一坐标轴上的多个第一符号与第二坐标轴上的多个第二符号。利用第二掩膜与重迭偏移的曝光方式形成每个曝光区的每个晶片中的代表曝光区坐标的坐标符号，其中不同曝光区中的不同坐标符号在由第一坐标轴与第二坐标轴所形成的坐标系中具有不同坐标。
  • 晶片标记方法
  • [发明专利]偏光板以及其制造方法-CN200410059066.4无效
  • 吕景元;简榕震;刘启宏 - 力特光电科技股份有限公司
  • 2004-07-29 - 2006-02-01 - G02F1/1335
  • 本发明涉及了一种偏光板及其制造方法，该偏光板包含：一第一保护层，其中该第一保护层的材质选自于由环烯烃共聚物以及环烯烃聚合物所组成的群组；一线性偏光层，位于该第一保护层之上；以及一第二保护层，位于该线性偏光层之上，其中该第二保护层的材质与该第一保护层的材质相同。该偏光板的制造方法包含：提供一第一保护层，其中该第一保护层的材质选自于由环烯烃共聚物以及环烯烃聚合物所组成的群组；以一第一黏着层黏合一线性偏光层于该第一保护层之上；以及以一第二黏着层黏合一第二保护层于该线性偏光层之上，其中该第二保护层的材质与该第一保护层的材质相同。
  • 偏光及其制造方法
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  • 共 4 条
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