专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种变曲率沟槽球体加工设备的球体循环方法及装置-CN202011000217.4在审
  • 吕冰海;祝佳俊;李晓琪;周亚峰;段世祥;傅琳 - 浙江工业大学
  • 2020-09-22 - 2021-01-26 - B24B37/025
  • 一种变曲率沟槽球体加工设备的球体循环方法,实现该方法的装置包括入盘引导器、落球收集板、外部球体提升机构、入球滚道和出球滚道,轴承球从入球滚道落入落料桶,在漏斗形落料桶中集中于底部中心,后经弧形滚道的缓冲后落入下研磨盘的变曲率V形槽;轴承球在上研磨盘加压与下研磨盘转动的共同作用下,沿变曲率V形槽对轴承球进行研磨加工并使之逐渐移动至变曲率V形槽外圈,后由下研磨盘边沿掉落至落球板,最终经挡板出球口落向出球滚道。以及提供一种变曲率沟槽球体加工设备的球体循环装置。本发明实现变曲率沟槽球体加工设备球体循环加工功能、加工效率较高、加工路径控制准确性较好、加工一致性良好。
  • 一种曲率沟槽球体加工设备循环方法装置
  • [发明专利]一种氧化锆陶瓷半球化学辅助力流变抛光方法-CN202010756042.3在审
  • 吕冰海;柯明峰;邵琦;周亚峰;郭路广;祝佳俊 - 浙江工业大学
  • 2020-07-31 - 2020-12-18 - B24B31/116
  • 一种氧化锆陶瓷半球化学辅助力流变抛光方法,采用具有剪切增稠效应与化学腐蚀作用的力流变液作为基液,在化学基液中添加一定量一定规格的磨粒,制备化学辅助力流变抛光液;通过真空泵,使吸盘夹具端产生负压,工件的平面被大气压强牢牢固定在吸盘夹具上;抛光液中的化学试剂在氧化锆陶瓷表面从外向内形成质地均匀的软质层,当工件与化学辅助力流变抛光液的相对速度达到一定值时,力流变抛光液会在工件接触区形成柔性“类固着磨具”,包裹磨粒对软质层表面微凸峰进行切削去除。本发明将吸持夹紧工件的方法与化学辅助力流变抛光的方法相结合,提供一种高效、成本低、高质量的氧化锆陶瓷半球化学辅助力流变抛光加工方法。
  • 一种氧化锆陶瓷半球化学辅助流变抛光方法
  • [发明专利]基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨方法-CN202010729369.1在审
  • 吕冰海;周亚峰;邵琦;柯明峰;段世祥 - 浙江工业大学
  • 2020-07-27 - 2020-12-11 - B24B37/005
  • 一种基于氧化膜状态主动控制的ELID研磨方法,轴承滚子上料完成后上研磨盘下移,对轴承滚子实现稳定加压,同时下研磨盘旋转;轴承滚子研磨切削运动的主运动为滚子与研磨盘工作面的接触线绕滚子轴线的回转运动,用于形成轴承滚子表面;轴承滚子研磨切削运动的进给运动为接触线沿直线沟槽的直线运动,接触线沿直线沟槽的直线进给运动及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形;在研磨过程中,同时对沟槽进行可控电解,电解电流流经下研磨盘直线沟槽、电解液、上研磨盘形成回路,从而能对连接电源正极的直线沟槽实现电解,使磨粒持续可控露出,实现研磨沟槽在线修锐。本发明保证轴承滚子的加工过程稳定,表面质量高,批一致性好。
  • 基于氧化状态主动控制轴承滚子elid研磨方法
  • [发明专利]基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置-CN202010729373.8在审
  • 吕冰海;周亚峰;邵琦;柯明峰;傅琳 - 浙江工业大学
  • 2020-07-27 - 2020-11-20 - B24B37/005
  • 一种基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置,包括研磨盘模块、电源模块、反馈控制模块、电解液模块和轴承滚子,所述研磨盘模块中,上研磨盘可实现上下运动,对轴承滚子进行加压,吸附轴承滚子使其转动力矩大于摩擦阻力矩,从而实现轴承滚子接触恒定,摩擦恒定,使轴承滚子的连续稳定自转,实现研磨主运动,螺旋沟槽位于上研磨盘下表面,与轴承滚子接触,下研磨盘位于上研磨盘下方,与上研磨盘同轴线,直线沟槽位于下研磨盘上表面,直线沟槽表面为金属结合剂固着磨料磨具,沿直线沟槽的直线进给运动以及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形,轴承滚子出口位于下研磨盘中心。本发明高表面质量、高批一致性、高形位精度。
  • 基于氧化状态主动控制轴承滚子elid研磨装置

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