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[发明专利]盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法-CN201210297407.6无效
发明人： 吉田勋;向井优一;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-08-20 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。一种光致抗蚀剂组合物，其包含在碱水溶液中难溶或不溶但是通过酸的作用可溶的树脂和由式(I)表示的盐，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L¹表示C1-C30三价脂族饱和烃基，其中氢原子可以用氟原子替换并且其中亚甲基可以用氧原子、-NR³-或羰基替换，其中R³表示氢原子或C1-C6烷基，W¹和W²各自独立地表示C3-C36脂环烃环，其中亚甲基可以用氧原子、硫原子、-NR⁴-、磺酰基或羰基替换，其中R⁴表示氢原子或C1-C6烷基，R¹和R²各自独立地表示羟基或C1-C6烷基，t¹和t²各自独立地表示0至2的整数，并且Z⁺表示有机阳离子。
光致抗蚀剂组合用于制备图案方法

[发明专利]盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法-CN201210274523.6无效
发明人：市川幸司;向井优一;吉田勋 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： C07C309/17 文献下载
摘要：本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示，其中：Q¹和Q²各自独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基；L¹表示C1-C20三价脂肪族饱和烃基，其中与脂肪族饱和烃链部分的亚甲基结合的氢原子可以被氟原子或羟基代替并且其中亚甲基可以被氧原子、-NR²-或羰基代替，其中R²表示氢原子或C1-C6烷基，L¹-OH的羟基位于L¹的脂肪族饱和烃链部分；W表示C3-C36脂环烃基，其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替，并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C3-C18脂环烃基或C6-C14芳香族烃基代替；和Z⁺表示有机阳离子。
光致抗蚀剂组合用于生产图案方法

[发明专利]化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法-CN201210152086.0无效
发明人：市川幸司;吉田勋 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-05-16 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： C07C69/757 文献下载
摘要：本发明提供化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述化合物是由式(I)表示的化合物，其中，T¹表示单键或C6-C14芳族烃基；L¹表示C1-C17二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；L²和L³各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；环W¹和环W²各自独立地表示C3-C36烃环；R¹和R²各自独立地表示氢原子、羟基或C1-C6烷基；R³和R⁴各自独立地表示羟基或C1-C6烷基；R⁵表示羟基或甲基；m表示0或1；并且t和u各自独立地表示0至2的整数。
化合物树脂光致抗蚀剂组合用于制备图案方法

[发明专利]盐，光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法-CN201210103577.6无效
发明人：市川幸司;吉田勋;山下裕子 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-04-10 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C07C309/17 文献下载
摘要：本发明提供一种盐、光致抗蚀剂组合物，以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L¹表示其中的亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C17二价饱和烃基，L²和L³各自表示单键或其中的亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C6二价饱和烷基，环W¹和环W²各自表示C3-C36烃环，R¹和R²各自表示氢原子或C1-C6烷基，R³表示C1-C6烷基，t表示0至2的整数，并且Z⁺表示有机抗衡离子。
光致抗蚀剂组合以及用于制备图案方法

[发明专利]盐以及用于制备酸生成剂的方法-CN201110038165.4无效
发明人： 吉田勋;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2011-02-12 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： C07D233/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种盐以及用于制备酸生成剂的方法，所述盐由式(I0)表示，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L¹表示其中一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替的二价C1-C17烃基，m表示1或2，Z^m+表示m价的有机或无机阳离子。
以及用于制备生成方法

[发明专利]光刻胶组合物-CN201010291997.2无效
发明人：山口训史;金淳信;吉田勋;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-21 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶组合物，其包含具有酸敏基团且不溶或难溶于碱性水溶液但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液中的树脂、产酸剂和式(I)表示的化合物：其中Z¹表示C7-C20亚烷基、C3-C20二价饱和环基或通过结合至少一个C1-C6亚烷基与至少一个C3-C20二价饱和环基而形成的二价基团。
光刻组合

[发明专利]化学增幅型抗蚀剂组合物及其所使用的盐-CN201010239691.2无效
发明人：市川幸司;吉田勋;山口训史 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-07-27 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明提供分辨率和光罩错误增强因子优异的化学增幅型抗蚀剂组合物。当在抗蚀剂组合物中使用式(A1)所示盐作为酸产生剂时，可以达成上述目的。[式(A1)中，Z⁺表示有机阳离子；Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或全氟烷基；R^a1表示2价的环式脂肪族烃基等；R^a2为式(II-1)或式(II-2)所示的离去基团；式(II-1)和式(II-2)中，R^a3和R^a4表示氢原子或脂肪族烃基；R^a5表示脂肪族烃基；R^a6表示2价的脂肪族烃基；R^a7表示脂肪族烃基。]
化学增幅型抗蚀剂组合及其使用

[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物-CN201010189458.8无效
发明人：市川幸司;吉田勋 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-05-25 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：一种以式(a)表示的盐，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子等，X¹表示单键等，X²表示单键等，Y¹表示C3-C36脂环族烃基等，条件是-X²-Y¹基团具有一个或多个氟原子，并且Z⁺表示有机抗衡阳离子，以及一种光致抗蚀剂组合物，其含有以式(a)表示的盐和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
以及含有光致抗蚀剂组合

[发明专利]化合物和化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN201010127644.9无效
发明人：秋田诚;吉田勋;桥本和彦 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-03-09 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： C07C69/54 文献下载
摘要：本发明公开化合物和化学放大型正性抗蚀剂组合物。本发明提供由式(I)表示的化合物；包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元的聚合物；和，包含所述聚合物、至少一种酸生成剂和至少一种溶剂的化学放大型正性抗蚀剂组合物，在式(I)中，R¹表示氢原子等，R²和R³各自独立地表示氢原子等，R⁴表示C1-C8二价烃基，R⁵表示单键等，并且R⁶表示未取代或取代的C6-C20芳族烃基。
化合物化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200810128882.4无效
发明人：秋田诚;吉田勋;原田由香子 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2008-06-24 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)由式(I)表示的盐：A^+－O₃S－R (I)，其中R表示9，10－蒽醌基，所述9，10－蒽醌基可以被选自下列基团中的至少一个基团取代：C1－C4烷基，C1－C4烷氧基和羟基，并且所述的C1－C4烷基和所述的C1－C4烷氧基可以是取代的，并且A⁺表示有机抗衡阳离子，和(B)树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。
化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200810128868.4无效
发明人：秋田诚;吉田勋;桥本和彦 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)树脂和(B)至少一种酸生成剂，所述的(A)树脂包含：(i)由式(I)表示的聚合单元，其中R⁷表示氢原子等，R⁸表示C1－C4烷基，p表示1至3的整数，q表示0至2的整数；(ii)选自由式(II)表示的聚合单元和由式(IV)表示的聚合单元中的至少一种聚合单元，在式(II)中，R¹表示氢原子等，R²表示C1－C8烷基，并且环X表示脂环烃基，在式(IV)中，R³表示氢原子等，R⁴和R⁵独立地表示氢原子等，R¹⁰表示C1－C6烷基等；以及(iii)由式(III)表示的聚合单元，其中R³、R⁴和R⁵与上述定义相同，E表示二价烃基，G表示单键等，Z表示羰基等，并且L表示蒽基等。
化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200710142634.0无效
发明人：重松淳二;吉田勋;原田由香子;末次益实 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2007-08-20 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： C07C321/12 文献下载
摘要：本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，X表示含有至少一个二价脂环族烃基的C3－C30二价基团，并且在所述C3－C30二价基团中的至少一个－CH₂－可以被－O－或－CO－取代；Y表示可以被选自C1－C6烷氧基、C1－C4全氟烷基、C1－C6羟烷基、羟基和氰基中的至少一个基团取代的C3－C30环烃基，并且在所述C3－C30环烃基中的至少一个－CH₂－可以被－O－或－CO－取代；Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，并且A⁺表示有机抗衡离子。
适合于生成以及含有化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200710140073.0无效
发明人： 吉田勋;原田由香子;宫川贵行 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2007-08-14 - 公布日： 2008-02-20 - 主分类号： C07C309/02 文献下载
摘要：一种式(I)表示的盐，其中，X表示C1－C12二价直链或支链烃基，Y表示可以被至少一个取代基取代的C1－C30烃基，并且在所述C1－C30烃基中的至少一个－CH₂－可以被－O－或－CO－取代，Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，并且A⁺表示有机抗衡离子。本发明还提供一种含有上述式(I)表示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
适合于生成以及含有化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200710138246.5无效
发明人：原田由香子;吉田勋;高田佳幸 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2007-07-31 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： C07C321/12 文献下载
摘要：本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，P¹、P²、P³、Q¹、Q²和R具有与权利要求书和说明书中定义的相同含义，并且还提供一种含有上述式(I)所示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
适合于生成以及含有化学大型正性抗蚀剂组合

[发明专利]适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物-CN200710108240.3无效
发明人：原田由香子;吉田勋;山口训史 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2007-06-04 - 公布日： 2007-12-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，X表示n－价连接基团，Y¹和Y²各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，n表示2或3，并且A⁺表示有机抗衡离子。本发明进一步提供一种含有上述式(I)表示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
适合于生成含有化学大型正性抗蚀剂组合

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