专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]单光子激光雷达三维成像系统和三维成像方法-CN202310672512.1有效
  • 徐飞虎;叶文龙;黎正平;戴晨;潘建伟 - 合肥国家实验室;中国科学技术大学
  • 2023-06-08 - 2023-09-12 - G01S17/894
  • 一种单光子激光雷达三维成像系统和三维成像方法,包括:激光器;扫描振镜;驱动器驱动扫描振镜改变角度使激光脉冲信号发射至待成像区域中的目标子区域、以及使扫描振镜接收从目标子区域反射的反射激光脉冲信号,且射向相邻的两个子区域的激光脉冲信号的脉冲周期不同;时序控制器,存储脉冲周期序列,脉冲周期序列包括与子区域一一对应的激光脉冲信号的脉冲周期,时序控制器根据来自于驱动器的触发信号和脉冲周期序列生成时序控制信号,激光器根据时序控制信号生成激光脉冲信号;单光子探测器接收反射激光脉冲信号并生成探测信号;时间数字转换器;处理器被构造成对待成像区域进行重构成像,得到待成像区域的三维图像。
  • 光子激光雷达三维成像系统方法
  • [发明专利]吸收式滤波器-CN202310979720.6在审
  • 聂美娟;龚明;朱晓波;彭承志;潘建伟 - 合肥国家实验室;中国科学技术大学
  • 2023-08-07 - 2023-09-05 - H01P1/20
  • 本公开提供一种吸收式滤波器,能够工作于1mK至4K温度区间,该吸收式滤波器包括:腔体,其内部沿腔体长轴方向设置有中间传输件;输入接头,设置于腔体的一端且与所述中间传输件的一端相连;输出接头,设置于腔体的另一端且与所述中间传输件的另一端相连;吸波材料,填充于所述腔体内部并包裹所述中间传输件;以及绝缘介质片,分别设置于腔体的两端且套设于所述中间传输件外,以支撑固定所述中间传输件。
  • 吸收滤波器
  • [发明专利]用于超导量子计算机系统的排线-CN202310969867.7在审
  • 龚明;聂美娟;朱晓波;彭承志;潘建伟 - 合肥国家实验室;中国科学技术大学
  • 2023-08-03 - 2023-09-05 - H05K1/16
  • 本申请提供了一种用于超导量子计算机系统的排线,包括:柔性的印刷电路板,其中,印刷电路板上阵列排布有多个信号传输线;多个滤波器,设置在印刷电路板内,且集成在多个信号传输线上;多个衰减器,设置在印刷电路板内,且集成在多个信号传输线上;至少一个连接件,安装在印刷电路板上,连接件用于将印刷电路板与外部的冷盘位置或量子芯片连接;其中,在排线与冷盘连接的情况下,排线将第一温度下的控制信号引入至第二温度的量子芯片上,在冷盘的降温作用下通过集成在信号传输线上的滤波器和衰减器对控制信号进行降温和降噪处理。
  • 用于超导量子计算机系统排线
  • [发明专利]一种雷达探测方法及相关装置-CN202310294511.8有效
  • 管建宇;刘尉悦;沈奇;侯磊;任继刚;彭承志;姜海峰;张强;潘建伟 - 合肥国家实验室
  • 2023-03-22 - 2023-06-16 - G01S17/58
  • 本申请提供了一种雷达探测方法及相关装置,该方法包括:获取原始参考光干涉图频谱和针对待测对象的原始反射光干涉图频谱;获取多个参考速度值和多个参考延时值,并组成多个参考数值对;根据参考数值对,对原始参考光干涉图频谱进行平移和缩放处理,得到第二缩放参考光干涉图频谱;确定第二缩放参考光干涉图频谱与原始反射光干涉图频谱的参考频域平移量;基于参考频域平移量,确定第二缩放参考光干涉图频谱与原始反射光干涉图频谱的相似度;将最大相似度对应的参考数值对中的参考速度值确定为待测对象的测量速度值,且根据对应的参考延时值确定待测对象的测量距离值。根据上述方法,能够准确探测大速度运动的待测对象的速度和距离。
  • 一种雷达探测方法相关装置
  • [发明专利]一种晶圆级阳极氧化系统及方法-CN202310091852.5在审
  • 王雪深;李劲劲;陈建;王振宇;李万;王仕建 - 合肥国家实验室;中国计量科学研究院
  • 2023-01-17 - 2023-05-26 - C25D11/32
  • 本申请提供一种晶圆级阳极氧化系统及方法,氧化系统包括控制模块、数字源表、阳极、阴极和电解槽,阳极为位于晶圆上的金属;控制模块与数字源表的第一端相连,用于控制数字源表输出电流;数字源表的第二端和第三端分别连接阳极和阴极,用于向阳极和阴极输入电流,以在阳极和阴极之间形成电场,对阳极金属氧化,数字源表用于测量阳极和阴极之间的电压,电压与阳极氧化形成的氧化膜的厚度基本成线性关系;电解槽中盛有电解液,阳极和阴极位于电解液中。观察阳极和阴极之间的电压变化可以确定阳极氧化膜的厚度,通过控制模块可以随时暂停或开启阳极氧化,实现可控厚度的晶圆级金属阳极氧化,具有稳定性。
  • 一种晶圆级阳极氧化系统方法

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