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[发明专利]一种纳米小晶粒ZSM-22分子筛的合成方法-CN202110650505.2有效
发明人：岳源源;叶颖辉;鲍晓军;王婵;王廷海;朱海波;王鹏照 -专利权人：福州大学
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C01B39/46 文献下载
摘要：本发明属于分子筛的合成领域，涉及一种纳米小晶粒ZSM‑22分子筛的合成方法。该方法是以天然硅藻土为合成分子筛所需的全部硅源和铝源，在无模板剂的条件下原位晶化得到纳米小晶粒ZSM‑22分子筛。本发明充分利用硅藻土的组成和骨架，在分子筛合成过程中硅藻土原有的孔道结构得以保留，并通过控制硅藻土的硅铝含量和初始凝胶的组成，实现产物分子筛硅铝比和晶粒尺寸的调控，以合成具有大外比表面积、硅铝比可调的高结晶度纳米小晶粒ZSM‑22分子筛。该方法合成过程简便高效、绿色环保、成本低，极具工业化前景。
一种纳米晶粒 zsm 22 分子筛合成方法

[实用新型]一种能够改善电解液的离子浓度的电镀装置-CN201920256214.3有效
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： C25D21/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种能够改善电解液的离子浓度的电镀装置，其包括电镀处理组件、电解液循环组件和控制单元，电解液循环组件与电镀处理组件连接用于向电镀处理组件中注入电解液，控制单元与电解液循环组件连接用于控制注入电镀处理组件中多个电镀槽中的电解液的电离子浓度一致，控制单元与电镀处理组件连接用于根据电解液循环组件中电解液的浓度调整铜膜在电镀过程中的走带速度和张力，这样，本实用新型采用电解液循环组件的集中控制和电镀处理组件的独立循环的控制模式，有效地控制了每个电镀槽里面的电解液的离子浓度的一致性。
一种能够改善电解液离子浓度电镀装置

[实用新型]一种用于电镀的走带装置-CN201920256979.7有效
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： C25D7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于电镀的走带装置，其与电镀装置配合用于向电镀槽输送铜膜，其包括放卷单元、至少一组走带单元、收卷单元、控制单元，所述放卷单元、至少一组走带单元、收卷单元依次排列，所述控制单元分别与放卷单元和收卷单元连接用于调整铜膜在电镀装置中的走带速度和张力值，这样，本实用新型通过控制单元、放卷单元和收卷单元，能够根据电镀槽中电解液的浓度，实时调整放卷单元和收卷单元，从而调整走带速度，从而获得厚度均匀的镀层。
一种用于电镀装置

[实用新型]一种超薄薄膜电化学沉积系统-CN201920274025.9有效
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C25D3/38 文献下载
摘要：一种超薄薄膜电化学沉积系统，放卷模块，用于放卷膜面；前处理模块，用于微蚀洗及清洁膜面的表面；第一沉积模块，用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层；第二沉积模块，用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层；清洗模块，用于对膜面进行清洗；保护层沉积模块，用于在清洗后的膜面上沉积保护层；后处理模块，用于对膜面进行清洁、烘干、切割；收卷模块，用于收卷膜面。采用本实用新型的超薄薄膜电化学沉积系统，可以快速进行超薄薄膜的电镀加工，一次即可完成双面电镀，加工效率高，并且机构设置合理，有效节约了生产成本，提高了生产效率，质量可控，张力控制精度高，超薄薄膜的外观性能好。
一种超薄薄膜电化学沉积系统

[实用新型]一种等距离收卷机构-CN201920256199.2有效
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B65H18/10 文献下载
摘要：一种等距离收卷机构，所述方法在检测到收卷辊卷料的卷面与过辊的正对所述卷面的外表面之间的间距小于预设距离时，控制所述过辊沿远离所述卷面的方向移动与所述间距相适应的距离，以使得移动后的收卷辊卷料的卷面与过辊的外表面之间的间距等于预设距离，使收卷辊卷料的卷面与过辊的外表面的间距维持恒定，从而有效的控制卷料在进入收卷前的最后一根过辊的包角在一定范围内，其作用是有效地防范因张力不均匀造成的收卷起皱现象。
一种等距离机构

[实用新型]一种旋转式等距离放卷机构-CN201920256977.8有效
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B65H23/26 文献下载
摘要：一种旋转式等距离放卷控制方法，步骤一，设定放卷辊卷料的卷面与过辊的外一种旋转式等距离放卷机构，包括过辊组件，用于传输放卷辊的卷料；放卷辊，用于将卷料放卷至过辊组件；摆架，用于固定过辊组件，摆架驱动机构，动态驱动摆架位移，调节过辊组件与放卷辊的间距。控制卷料的外卷卷面与放卷后的过辊的辊面的间距保持不变，其目的是为了有效的控制铜膜在放卷时与过辊的包角在一定范围内，其作用是有效地防范因张力不均匀造成的放卷起皱现象。
一种旋转等距离机构

[发明专利]一种等距离收卷控制方法及收卷机构-CN201910153355.7在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： B65H18/10 文献下载
摘要：一种等距离收卷控制方法及收卷机构，所述方法在检测到收卷辊卷料的卷面与过辊的正对所述卷面的外表面之间的间距小于预设距离时，控制所述过辊沿远离所述卷面的方向移动与所述间距相适应的距离，以使得移动后的收卷辊卷料的卷面与过辊的外表面之间的间距等于预设距离，使收卷辊卷料的卷面与过辊的外表面的间距维持恒定，从而有效的控制卷料在进入收卷前的最后一根过辊的包角在一定范围内，其作用是有效地防范因张力不均匀造成的收卷起皱现象。
卷料收卷辊卷面收卷机构收卷控制预设距离恒定方向移动间距维持不均匀有效地包角卷起收卷正对检测移动防范

[发明专利]一种高断裂延伸率的超薄薄膜电镀工艺-CN201910161805.7在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C25D3/38 文献下载
摘要：一种高断裂延伸率的超薄薄膜电镀工艺，包括配置电镀溶液，电镀溶液为硫酸铜和辅助溶剂混合的溶液，所述辅助溶剂包括盐酸，硫酸，光亮剂，溶液温度为20℃～50℃；将薄膜浸泡溶液中电镀，然后离开溶液进行烘烤，烘烤温度为140‑160℃，烘烤时时间20‑300s。使用上述工艺加工的超薄薄膜，具有极高的断裂延伸率，适用范围广，可广泛应用于储能单元，其应用上述工艺时，制得的超薄薄膜，不氧化。
超薄薄膜断裂延伸率烘烤电镀工艺电镀溶液辅助溶剂储能单元工艺加工浸泡溶液电镀光亮剂硫酸铜硫酸盐酸薄膜应用配置

[发明专利]一种旋转式等距离放卷控制方法及其放卷机构-CN201910153351.9在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B65H23/26 文献下载
摘要：一种旋转式等距离放卷控制方法，步骤一，设定放卷辊卷料的卷面与过辊的外表面的间距；步骤二、检测放卷辊卷料的卷面变小数据，驱动过辊依放卷辊卷料的卷面变小数据位移相适应的距离；步骤三、使放卷辊卷料的卷面与过辊的外表面的间距维持恒定。控制卷料的外卷卷面与放卷后的过辊的辊面的间距保持不变，其目的是为了有效的控制铜膜在放卷时与过辊的包角在一定范围内，其作用是有效地防范因张力不均匀造成的放卷起皱现象。
卷料卷面放卷辊放卷控制旋转式放卷恒定放卷机构间距保持间距维持不均匀小数据有效地包角变小卷起铜膜外卷驱动检测防范

[发明专利]一种超薄薄膜电化学沉积系统-CN201910161419.8在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： C25D3/38 文献下载
摘要：一种超薄薄膜电化学沉积系统，放卷模块，用于放卷膜面；前处理模块，用于微蚀洗及清洁膜面的表面；第一沉积模块，用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层；第二沉积模块，用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层；清洗模块，用于对膜面进行清洗；保护层沉积模块，用于在清洗后的膜面上沉积保护层；后处理模块，用于对膜面进行清洁、烘干、切割；收卷模块，用于收卷膜面。采用本发明的超薄薄膜电化学沉积系统，可以快速进行超薄薄膜的电镀加工，一次即可完成双面电镀，加工效率高，并且机构设置合理，有效节约了生产成本，提高了生产效率，质量可控，张力控制精度高，超薄薄膜的外观性能好。
超薄薄膜沉积电化学沉积系统复合铜膜面清洗保护层沉积后处理模块前处理模块沉积铜层放卷模块机构设置加工效率清洗模块生产效率双面电镀张力控制保护层放卷膜清洁膜收卷膜电镀烘干可控收卷微蚀预镀增厚生产成本切割清洁节约加工

[发明专利]能够改善电解液的离子浓度的电镀装置-CN201910152364.4在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： C25D21/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种能够改善电解液的离子浓度的电镀装置，其包括电镀处理组件、电解液循环组件和控制单元，电解液循环组件与电镀处理组件连接用于向电镀处理组件中注入电解液，控制单元与电解液循环组件连接用于控制注入电镀处理组件中多个电镀槽中的电解液的电离子浓度一致，控制单元与电镀处理组件连接用于根据电解液循环组件中电解液的浓度调整铜膜在电镀过程中的走带速度和张力，这样，本发明采用电解液循环组件的集中控制和电镀处理组件的独立循环的控制模式，有效地控制了每个电镀槽里面的电解液的离子浓度的一致性。
电镀处理电解液电解液循环组件连接离子电镀装置电镀槽有效地控制独立循环集中控制控制模式浓度调整电镀电离子铜膜

[发明专利]用于电镀的走带装置-CN201910158319.X在审
发明人： 叶颖辉 -专利权人：深圳市汇美新科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C25D7/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于电镀的走带装置，其与电镀装置配合用于向电镀槽输送铜膜，其包括放卷单元、至少一组走带单元、收卷单元、控制单元，所述放卷单元、至少一组走带单元、收卷单元依次排列，所述控制单元分别与放卷单元和收卷单元连接用于调整铜膜在电镀装置中的走带速度和张力值，这样，本发明通过控制单元、放卷单元和收卷单元，能够根据电镀槽中电解液的浓度，实时调整放卷单元和收卷单元，从而调整走带速度，从而获得厚度均匀的镀层。
放卷单元收卷单元电镀装置走带装置带单元电镀槽电镀铜膜厚度均匀实时调整依次排列电解液镀层配合

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