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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]晶片检测方法-CN98115227.9有效
发明人：杨光磊;罗增锦 -专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 1998-06-24 - 公布日： 2002-08-07 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：一种自动晶片检测方法，首先提供第一组数据与第二组数据。接着，提供一自动程序，是提供一视介面，使用者只需修改其中简单的几个指令，即可方便检测各种不同的元件特性。执行此自动程序，载入第一组数据，并进行下列选择步骤选择一检测模件，其以电性连接与控制晶片上的多个测试键；再选择欲检测的元件特性，此时自动程序载入第二组数据。最后，自动程序将上述选择结果载入一工作站，然后进行并完成元件特性的检测动作。
晶片检测方法

[发明专利]化学机械研磨装置与方法-CN98119681.0有效
发明人：林必窕 -专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 1998-09-22 - 公布日： 2002-07-03 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种化学机械研磨装置，可应用于一化学研磨机台，此机台包括以固定方向旋转的一研磨台，且位于该研磨台上具有一研磨垫，该化学机械研磨装置至少包括一第一调节刷、一第二调节刷以及一第三调节刷，通过三组调节刷的研磨可以将研磨垫磨平并且清洗干净，上述三组可调节刷的各表面可以分别为钻石颗粒、钻石薄膜以及刷子等，并且通过一可编程的控制摸组件来控制这些调节刷，其可按顺序或同时对研磨垫研磨。#!
化学机械研磨装置方法

[发明专利]化学机械研磨机台-CN98116968.6有效
发明人：刘尹智 -专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 1998-08-28 - 公布日： 2002-03-13 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种化学机械研磨机台，有一履带式调节刷，其至少包括一长轴主体结构；一履带，其上分布有多个硬颗粒及多个滚轮，履带包覆于长轴主体外侧，以一固定速率转动，滚轮轴向均平行排列，其均位于履带内侧且与履带相接触，滚轮由履带带着转动，在履带上还有多个硬颗粒，其分布于履带的表面，用以刮平研磨垫的表面，去除残留在研磨垫上的杂质，在履带式调节刷上还包括一清洗装置。其可在调节刷刮平时，清洗残留在履带上的杂质。$#!
化学机械研磨机台

[发明专利]化学机械研磨机台-CN98118900.8有效
发明人：刘尹智;李森楠 -专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 1998-09-08 - 公布日： 2002-03-13 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种化学机械研磨机台，包括多个研磨台，呈同心圆环状配置，彼此以一间距相邻，设于旋转座上，并以同一方向旋转；在各研磨台上，装有形状相符的研磨垫；以及一分送管，置于研磨垫上方，分送管未与研磨垫相接触，分送管包括分送管柄与分送管面，分送管面上有多个孔洞，用以输送研浆至研磨垫上，各研磨台具有相同的切线速度，以提高晶片表面的研磨均匀度，各研磨垫材料之间可略有差异，包括材料密度、粗糙程度与化学成份方面。$#!
化学机械研磨机台

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