专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种铜酸钆薄膜的制备方法-CN201510143684.5有效
  • 涂溶;可望;章嵩;汪婷;张联盟 - 武汉理工大学
  • 2015-03-30 - 2017-03-22 - C23C16/30
  • 本发明涉及铜酸钆薄膜的制备方法,包括以下步骤(1)将钛酸锶基板放入化学气相沉积反应腔体内的基板座上;(2)称取钆源和铜源固体原料,将两种原料分别置于相应的原料罐中;(3)将基板座的温度升至1040~1120℃,将原料罐温度分别升至200~230℃和180~200℃;(4)将含有钆源和铜源的载流气以及氧化气通入反应腔体内反应;(5)停止通入气体,关闭加热系统,冷却至室温,即得到沉积在钛酸锶基板上的铜酸钆薄膜。与现有技术相比,本发明的有益效果是成膜速度快、反应时间短、生产效率高且组织结构可控。(001)取向的Gd2CuO4薄膜相比于无取向的Gd2CuO4薄膜具有特殊的晶体结构和物理性质。
  • 一种铜酸钆薄膜制备方法
  • [发明专利]一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜的方法-CN201610315954.0在审
  • 涂溶;汪婷;章嵩;可望;张联盟 - 武汉理工大学
  • 2016-05-12 - 2016-07-20 - C23C16/40
  • 本发明公开了一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜的方法,将基板放置于沉积腔内的基板台上;打开真空泵,将沉积腔体内的压强降至最低值;对加热室和原料载流气管及喷嘴进行预热达到设定的温度后,将原料罐推至加热室;打开激光发生器,将激光引入沉积腔体内,对基板加热至沉积温度;打开阀门,使带有原料气的载流气和氧化气体通入到沉积腔体内,调节流量计使载流气和氧化气的流量分别达到相应的设定值,原料气在基板表面形成沉积钐钡铜氧薄膜。基板升温速度快,薄膜沉积速率极快,在薄膜厚度方向上无温度梯度,薄膜成分均一,厚度均匀,大大降低了能耗,非常节能,无杂相生成,超导性能良好。
  • 一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜方法
  • [发明专利]一种钆钡铜氧薄膜的制备方法-CN201510308871.4在审
  • 涂溶;郑顶恒;章嵩;可望;汪婷;张联盟 - 武汉理工大学
  • 2015-06-08 - 2015-08-26 - C23C16/40
  • 本发明涉及一种钆钡铜氧薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)将基板置于化学气相沉积反应室内的基板座上,并将反应室抽至真空状态;2)称取适量的三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钆,双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钡和双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)铜,置于原料罐中;3)将基板加热,控制原料罐的温度;4)将先驱体原料以及氧化气通入反应室内;5)待反应时间结束后停止加热,将基板冷却至室温,即可。与现有技术相比,本发明的有益效果是:1)实现了钆钡铜氧薄膜的快速制备,提高了生产效率;2)提高钆钡铜氧薄膜的超导性能,为其应用提供相应的理论基础。
  • 一种钆钡铜氧薄膜制备方法

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