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[发明专利]气体分析装置及气体分析方法-CN202180080365.8在审
发明人：坂口有平;南雅和;渋谷享司;高桥基延 -专利权人：株式会社堀场STEC;株式会社堀场制作所
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G01N21/3504 文献下载
摘要：本发明能够高精度地测定半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺所产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压，气体分析装置对半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺而产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压进行分析，并具备：气体池，其导入有材料气体或副生成气体；激光光源，其向气体池照射经波长调制的激光；光检测器，其检测透过气体池的激光；以及信号处理部，其使用由光检测器的输出信号所得的光吸收信号来计算出卤化物的浓度或分压，气体池减压至比大气压小的预定的压力，激光光源在包含卤化物的光吸收信号的特征部在内的波长调制范围对所述激光进行波长调制。
气体分析装置方法

[发明专利]气体分析装置和气体分析方法-CN202310071740.3在审
发明人：高桥基延;岸田创太郎;桒原朗;赤松武;坂口有平;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01N21/3504 文献下载
摘要：本发明提供一种气体分析装置，其具备：气室，其被导入气体；温度调节块，其对气室进行温度调节；以及压力传感器，其测定气室内部的压力，压力传感器内置于温度调节块和/或气室。
气体分析装置方法

[发明专利]光学测定用池及其制造方法、光学分析装置、窗形成部件-CN202310042152.7在审
发明人：中田嘉昭;南雅和;坂口有平;志水彻;赤松武 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G01N21/03 文献下载
摘要：本发明提供光学测定用池、光学分析装置、窗形成部件及光学测定用池的制造方法。在通过原子扩散接合制造满足气密性和/或耐热性等所要求的各种性能的光学测定用池的基础上，为了防止窗体构件的破裂，光学测定用池(2)具有供光透过的透光窗(W1、W2)，且在内部被导入试样，该光学测定用池(2)具备形成透光窗(W1、W2)的窗体构件(221)、以及隔着金属薄膜(M)接合有窗体构件(221)的法兰部件(222)，法兰部件(222)的热膨胀系数与窗体构件(221)的热膨胀系数的比率为0.5倍以上且1.5倍以下。
光学测定及其制造方法分析装置形成部件

[发明专利]DCR气体用吸光分析装置、方法及存储分析程序的存储介质-CN202210271897.6在审
发明人：古屋雄一;田中雅之;坂口有平;南雅和;志水彻 -专利权人：东京毅力科创株式会社;株式会社堀场STEC
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明提供一种即使是由吸收光谱重叠的DCR气体与CO气体构成的混合气体，也能够仅分离DCR气体的吸光度而计算出其浓度的DCR气体用吸光分析装置，DCR气体用吸光分析装置具备：DCR用滤光器(31)，其使包含DCR气体的吸收峰的第一波数范围的光透过；CO用滤光器(32)，其使处于CO气体的吸收波数范围且与所述第一波数范围不同的第二波数范围的光透过；以及DCR气体量计算器(4)，其基于利用透过了所述DCR用滤光器(31)的光而测定的第一吸光度(A1)、以及利用透过了所述CO用滤光器(32)的光而测定的第二吸光度(AC2)，计算出所述DCR气体的量。
dcr 体用分析装置方法存储程序介质

[发明专利]浓度控制装置和材料气体供给装置-CN201811093056.0有效
发明人：志水彻;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： F17D1/02 文献下载
摘要：本发明提供不降低维护性而能缩短配管、提高响应性的浓度控制装置。其向储存材料的储存罐导入载气，并对材料气体的浓度进行控制，材料气体作为与载气的混合气体而从储存罐被导出且由材料气化而成，具备：第一单元，控制向储存罐导入的载气的流量；第二单元，检测从储存罐导出的材料气体的浓度，第一单元具备：第一块部，在内部具有供载气流通的载气流路；第一流量传感器，检测在载气流路中流通的载气的流量；第一流量控制阀，基于第一流量传感器的检测值，控制在载气流路中流通的载气的流量，第二单元具备：第二块部，在内部具有供混合气体流通的混合气体流路，并与第一块部可拆装地连结；浓度检测器，检测在混合气体流路中流通的材料气体的浓度。
浓度控制装置材料气体供给

[发明专利]气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法-CN201810178323.8有效
发明人：坂口有平;志水徹;南雅和;林大介 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本发明涉及气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法，容易控制从容器导出的材料气体的总量。所述气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器(10)导出，该气体控制系统具有控制部(60)，所述控制部(60)控制所述载气的流量，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，该浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器(10)导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部(60)在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制，该第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。
气体控制系统装置存储介质控制方法

[发明专利]气体控制系统、具备该气体控制系统的成膜装置、检测方法以及存储介质-CN201780048644.X有效
发明人：西里洋;南雅和;坂口有平 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：在对载气的流量进行调节以对混合气体中的材料气体的流量进行控制的气体控制系统中，避免长时间置于所述控制极限状况下。气体控制系统向收容有材料的槽罐(10)内导入载气，并将该材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述槽罐(10)导出，其包括：流量控制部(71)，利用对导入所述槽罐(10)的载气的流量进行调节，从而对从所述槽罐(10)导出的材料气体的流量进行控制；以及控制极限检测部(72)，检测控制极限状况，并输出该意旨，该控制极限状况是无法利用该流量控制部(71)对载气的流量调节，来确保所述材料气体的规定性能下的流量控制的状况。
气体控制系统具备装置检测方法以及存储介质

[发明专利]吸光分析系统、程序存储介质以及吸光度测量方法-CN202010371573.0在审
发明人：志水彻;坂口有平;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：提供一种吸光分析系统，具备：检测器，对透过了气体的光的强度进行检测；总压传感器，测量气体的总压；干扰气体分压‑吸光度关系存储部，存储干扰气体分压‑吸光度关系数据；干扰气体分压推定部，基于由总压传感器测量出的总压来推定干扰气体的分压；干扰气体吸光度转换部，基于干扰气体分压‑吸光度关系数据，将由干扰气体分压推定部推定出的干扰气体推定分压转换为干扰气体的吸光度；测量对象气体吸光度计算部，基于检测器的输出值和由干扰气体吸光度转换部转换而得的干扰气体吸光度，来计算测量对象气体的吸光度。
分析系统程序存储介质以及光度测量方法

[发明专利]吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质-CN202010206450.1在审
发明人：志水彻;坂口有平;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：提供吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质。吸光分析装置具备检测器；总压传感器；吸光度计算部，基于检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度；分压‑吸光度关系存储部，存储表示调零时存在于检测器测定区域的干涉气体的分压与吸光度计算部算出的吸光度之间关系的分压‑吸光度关系数据；分压计算部，在已知浓度的干涉气体存在于测定区域的已知浓度状态下，基于由总压传感器测定的总压和浓度计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压；吸光度推断部，基于干涉气体分压和分压‑吸光度关系数据推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度；校正部，基于干涉气体吸光度和在已知浓度状态下的检测器的输出值进行更新零基准值的调零。
分析装置记录程序介质

[发明专利]浓度控制装置、原料消耗量推定方法以及程序存储介质-CN202010150050.3在审
发明人：志水彻;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2020-03-06 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：用于提供在不增设新的传感器等的情况下，准确地推定汽化罐内的原料的消耗量，且能够进行与原料的剩余量对应的高精度的浓度控制的浓度控制装置，其在汽化器中对原料气体的浓度进行控制，汽化器至少具备：容纳液体或固体的原料的汽化罐、向汽化罐供给载气的载气供给通路、以及供由原料汽化而从汽化罐导出的原料气体流通的原料气体导出通路，浓度控制装置具备：浓度监测器，其设置于原料气体导出通路，输出与原料气体的浓度对应的输出信号；浓度计算部，其基于来自浓度监测器的输出信号，来计算原料气体的浓度；以及原料消耗量计算器，其基于计算浓度和载气的流量，来计算作为原料气体而导出到原料气体导出通路的原料的消耗量。
浓度控制装置原料消耗量推定方法以及程序存储介质

[发明专利]气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法-CN202010080528.X在审
发明人：志水彻;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：提供气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法。气化装置具备气化罐、载气供给路径、材料气体导出路径、浓度监测器和浓度控制机构，上述浓度控制机构具备：浓度计算部，基于来自上述浓度监测器的输出信号计算上述材料气体的实际浓度；浓度控制部，在供给上述材料气体的供给期间，进行以使构成上述浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设定的初始设定值的方式进行控制的第一控制后，进行以通过控制该流体控制设备而使上述实际浓度接近预先设定的目标值的方式进行反馈控制的第二控制；以及控制切换部，基于上述浓度控制部开始上述第一控制后的上述实际浓度的经时变化，将上述浓度控制部的控制状态从上述第一控制切换到上述第二控制。
气化装置程序记录介质浓度控制方法

[发明专利]浓度控制装置、零点调整方法以及程序存储介质-CN202010059308.9在审
发明人：志水彻;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G05D11/13 文献下载
摘要：用于提供一种能够在不中断半导体制造工艺的情况下适当地实施浓度检测机构的调零的浓度控制装置，浓度控制装置具备：控制阀，其控制在导出流路中流动的气体；浓度检测机构，其对在该导出流路中流动的气体中所含的材料气体的浓度进行检测；浓度控制器，其以使由上述浓度检测机构检测出的检测浓度与预先设定的设定浓度之间的偏差变小的方式控制上述控制阀；基准时刻判定部，其对存在于通过上述浓度检测机构进行浓度检测的检测部的气体已被替换为其他气体的时刻即基准时刻进行判定；以及调零部，其在基准时刻以后进行上述浓度检测机构的调零。
浓度控制装置零点调整方法以及程序存储介质

[发明专利]基板处理装置及程序介质-CN201910308983.8在审
发明人：林大介;南雅和 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及程序介质，为了不依赖于操作员的经验而能够高速且高精度地使腔室内的二维浓度分布或二维温度分布均匀，所述基板处理装置具备：收纳基板且被供给材料气体的腔室；从腔室的周围的多个地方朝向形成于腔室的周壁的入射窗射出激光的激光射出机构；对从多个地方射出而通过腔室内且从形成于腔室的周壁的射出窗射出的各激光进行检测的激光检测机构；以及控制装置，获取由激光检测机构检测到的各激光的光强度信号，并且基于该光强度信号，计算出腔室内的材料气体的二维浓度分布或腔室内的二维温度分布，基于该二维浓度分布或该二维温度分布控制流体控制设备。
二维激光腔室基板处理装置浓度分布射出室内光强度信号程序介质温度分布周壁温度分布均匀收纳材料气体供给材料控制流体控制设备控制装置射出机构入射窗检测出腔窗射基板

[发明专利]吸光光度计和使用该吸光光度计的半导体制造装置-CN201780056159.7在审
发明人：西里洋;南雅和;坂口有平 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2017-09-14 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G01N21/59 文献下载
摘要：得到一种吸光光度计，该吸光光度计在检测高温的样品气体的情况下，即使不延长从光源部至光接收部为止的距离，也能够保护光源部和/或光接收部免受样品气体的热的侵害，能够保持高检测精度。其具备：具有容纳样品气体的容纳空间(11)的样品容纳部(10)、将光照射到容纳空间(11)内的光源部(20)、接收从容纳空间(11)内射出的光的光接收部(30)、与样品容纳部(10)的光源部(20)侧邻接而设置的第一隔热部(40a)和与样品容纳部(10)的光接收部(30)侧邻接而设置的第二隔热部(40b)、以及与第一隔热部(40a)邻接而设置的第一冷却部(50a)和与第二隔热部(40b)邻接而设置的第二冷却部(50b)。
吸光光度计光接收部邻接隔热部光源部容纳空间样品气体样品容纳冷却部半导体制造装置光照射检测射出容纳

[发明专利]气体控制系统以及用于气体控制系统的控制方法-CN201610892358.9在审
发明人：西里洋;泷尻兴太郎;南雅和;寺岡温子 -专利权人：株式会社堀场STEC
申请日： 2016-10-13 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： F17D1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种气体控制系统，其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响，以预先设定的浓度或流量供给混合气体。该气体控制系统包括第一阀，其设置在所述载气管线上或设置在所述供气管线上；流量控制机构，其设于稀释气体管线上，具有流量传感器及第二阀；非接触式的第一浓度传感器；第一阀控制部；稀释气体设定流量计算部，其基于预先设定的所述稀释后混合气体的总设定流量以及所述稀释后测定浓度，计算应该在所述稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设定流量；第二阀控制部，其为使所述稀释气体设定流量与所述流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制所述第二阀的开度。
气体控制系统以及用于控制方法

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