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- [发明专利]基板处理装置-CN202310746612.4在审
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南田纯也;小田奖;渡边尚
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东京毅力科创株式会社
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2017-08-24
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2023-09-01
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201710733225.1有效
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南田纯也;小田奖;渡边尚
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东京毅力科创株式会社
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2017-08-24
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2023-08-01
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H01L21/67
- 本发明提供一种谋求更加省空间化的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
- 处理装置
- [发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202210889984.8在审
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玉田纯;南田纯也
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东京毅力科创株式会社
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2022-07-27
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2023-04-07
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H01L21/67
- 本发明说明基片处理装置和基片处理方法，其在利用多种处理液的液处理部中进行基片处理时能够抑制从液处理部排出的排气流入与该排气所对应的独立排气管不同的独立排气管。基片处理装置包括：将种类不同的多个处理液分别供给到基片的表面的液处理部；和将从液处理部排出的排气排出到外部的排气部。排气部包括：包含第一部分和第二部分的主排气管；第一独立排气管；第二独立排气管；切换部；以及外气导入部。切换部包括：第一切换机构；第二切换机构；配置于主排气管中的第一部分与第二部分之间的第三切换机构；与第二部分连接以将外气导入第二部分的外气导入管；和配置于外气导入管的第四切换机构。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111295785.6在审
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饱本正巳;北野淳一;田中幸二;大塚贵久;南田纯也
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-03
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2022-05-27
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。一边控制基板周围的气氛一边进行批量式的液处理。基板处理装置包括：处理容器，其具有储存处理液的储存部和封闭储存部的上部的开口的盖部；基板保持部，其将多个基板以铅垂姿势在水平方向上空开间隔地保持；第1旋转轴，其自基板保持部贯穿处理容器的第1侧壁向外侧水平延伸；旋转驱动部，其设于处理容器的外部，使基板保持部旋转；处理流体喷嘴，其设于盖部，自比处理液的液位高的位置向基板或其周围的空间供给处理流体。当盖部位于封闭位置时，处理容器的内部形成密闭的内部空间。当盖部位于开放位置时，能够相对于基板保持部送入送出基板。以各基板的仅下侧部分浸渍于处理液的状态进行液处理。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111289481.9在审
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南田纯也;饱本正巳;北野淳一;田中幸二;大塚贵久
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-02
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2022-05-27
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H01L21/677
- 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。对于具备间距变换机构的基板处理装置削减基板的交接次数。基板处理装置包括：基板保持部，其将多个基板互相平行地以第1等间距保持；基板输送装置，其自基板收纳容器将以第2等间距收纳的多个基板一起取出；以及移载机构，其自基板输送装置接收以第2等间距排列的基板，并将间距转换成第1等间距，将间距转换完成的基板向基板保持部传递。移载机构具有：间距转换单元，其具有多个卡盘和将卡盘彼此之间的间隔在第1等间距与第2等间距之间变更的间距变换机构；以及移动机构，其使间距转换单元在基板输送装置与间距转换单元之间的基板交接位置和间距转换单元与基板保持部之间的基板交接位置之间移动。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202010019383.2在审
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青木大辅;南田纯也;丰田康典
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东京毅力科创株式会社
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2020-01-08
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2020-07-14
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置可靠地进行基板处理装置内的空间的气氛调整并且削减气氛调整用的气体的使用量。基板处理装置包括：控制基板处理区的处理区域内的气氛的第1气氛控制系统和控制基板处理区的基板输送区域内的气氛的第2气氛控制系统。第1气氛控制系统在利用各液体处理单元进行液体处理时，利用第1气体供给部向该液体处理单元供给气氛控制气体，并且利用第1气体排出部排出该液体处理单元内的气氛。第2气氛控制系统使气氛调整气体在属于该第2气氛控制系统的循环系统内循环，并且在液体处理单元中的至少一个液体处理单元于基板输送区域开放时，利用第2气体排出部排出第2气氛控制系统的循环系统内的气氛。
- 处理装置
- [实用新型]基板处理装置-CN201721067465.4有效
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南田纯也;滨本启佑
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东京毅力科创株式会社
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2017-08-24
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2018-05-01
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H01L21/67
- 本实用新型提供一种在层叠处理单元的同时也抑制装置的高度的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理部、处理流体供给管线以及框架构造体。多个处理部沿着水平方向排列配置，并使用处理流体来处理基板。处理流体供给管线具有水平地配置于多个处理部的下方的水平配管和从水平配管分支而与处理部分别连接的分支管。框架构造体具有多个柱部和多个梁部，并将多个处理部和处理流体供给管线收纳于由柱部和梁部形成的收纳空间。另外，梁部包括与多个处理部的排列方向平行地配置的第1梁部和第2梁部。另外，水平配管配置于第1梁部和第2梁部之间且是第1梁部的上表面与下表面之间，还跨多个处理部地配置。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201010535057.3有效
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南田纯也;上田一成
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东京毅力科创株式会社
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2010-11-04
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2011-05-11
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H01L21/00
- 本发明提供一种用于降低制造成本和消耗能量的基板处理装置。在本发明中，包括：用于交接被收容于搬运器(3)的基板(2)的基板搬入搬出部(基板交接室(12))；经由基板搬入搬出口(37(39))与上述基板搬入搬出部连通的基板输送室(14(25))；沿着上述基板输送室(14(25))配置的多个基板处理室(15～24(26～35))；收容在上述基板输送室(14(25))的内部并用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室(15～24(26～35))之间输送上述基板(2)的基板输送装置(36(38))；用于使清洁空气沿着上述基板输送室(14(25))流动的清洁空气流动部件(41(42))。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201010503730.5有效
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南田纯也;上田一成;长野泰博;黑田修;江岛和善;吉田正宽;守田聪
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东京毅力科创株式会社
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2010-09-30
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2011-04-27
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H01L21/677
- 本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。
- 处理装置
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