“北晃治”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果9个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]树脂镀敷方法-CN201580036806.9有效
发明人：永峰伸吾;北晃治;大塚邦显 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C23C18/24 文献下载
摘要：在使用以锰为有效成分的蚀刻浴的树脂镀敷方法中，提供即使在连续使用时也能维持稳定的蚀刻性能的方法。一种树脂镀敷方法，其为将含有树脂材料的物品作为被处理物使用，包括利用含有锰的酸性蚀刻浴的蚀刻工序、使用钯作为催化剂金属的催化剂赋予工序、和无电镀工序的树脂镀敷方法，其特征在于，还包括将该酸性蚀刻浴中的钯浓度维持在100mg/L以下的工序。
树脂方法

[发明专利]无电解镀的前处理用组合物、无电解镀的前处理方法、无电解镀方法-CN202110654779.9在审
发明人：永峰伸吾;北晃治 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C23C18/20 文献下载
摘要：本发明提供不使用有害的铬酸及昂贵的钯而能够显示出很高的镀敷析出性且能够减少工序的无电解镀的前处理用组合物、前处理方法、及无电解镀方法。本发明提供一种无电解镀的前处理用组合物，其特征在于，含有10mg/L以上的锰离子和10mg/L以上的一价银离子。
电解处理组合方法

[发明专利]树脂材料蚀刻处理用组合物-CN201810130953.8有效
发明人：永峰伸吾;北晃治;大塚邦显 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2014-10-16 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23C18/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
树脂材料蚀刻处理组合

[发明专利]树脂材料蚀刻处理用组合物-CN201810130955.7有效
发明人：永峰伸吾;北晃治;大塚邦显 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2014-10-16 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
树脂材料蚀刻处理组合

[发明专利]无电解镀的前处理用组合物、无电解镀的前处理方法、无电解镀方法-CN201880028555.3在审
发明人：永峰伸吾;北晃治 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23C18/30 文献下载
摘要：本发明提供不使用有害的铬酸及昂贵的钯而能够显示出很高的镀敷析出性且能够减少工序的无电解镀的前处理用组合物、前处理方法、及无电解镀方法。本发明提供一种无电解镀的前处理用组合物，其特征在于，含有10mg/L以上的锰离子和10mg/L以上的一价银离子。
无电解镀前处理一价银离子锰离子析出性镀敷铬酸

[发明专利]树脂镀敷方法以及树脂镀敷用蚀刻浴的管理方法-CN201910680850.3在审
发明人：永峰伸吾;北晃治;大塚邦显 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C23C18/24 文献下载
摘要：本发明涉及树脂镀敷方法以及树脂镀敷用蚀刻浴的管理方法，在使用以锰为有效成分的蚀刻浴的树脂镀敷方法中，提供即使在连续使用时也能维持稳定的蚀刻性能的方法。一种树脂镀敷方法，其为将含有树脂材料的物品作为被处理物使用，包括利用含有锰的酸性蚀刻浴的蚀刻工序、使用钯作为催化剂金属的催化剂赋予工序、和无电镀工序的树脂镀敷方法，其特征在于，还包括将该酸性蚀刻浴中的钯浓度维持在100mg/L以下的工序。
树脂镀敷蚀刻酸性蚀刻催化剂金属被处理物浓度维持蚀刻性能树脂材料维持稳定无电镀催化剂管理赋予

[发明专利]夹具用电解剥离剂-CN201680002332.0有效
发明人：吉兼祐介;北晃治 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明提供一种夹具用电解剥离剂，其可以充分除去镀敷用夹具的通电部分附着的钯、还可以除去绝缘材料涂敷部分附着的钯，并且镀敷用夹具的通电部分的金属的浸蚀得到抑制。一种夹具用电解剥离剂，其含有下述(A)～(C)成分：(A)选自硝酸及其盐中的至少一种、(B)选自氨、铵盐、亚乙基胺化合物、烷基二胺化合物及氨基酸中的至少一种、(C)溴化物。
夹具用电剥离

[发明专利]导电膜形成浴-CN201480064153.0在审
发明人：竹内至哉;吉川纯二;北晃治 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2014-11-18 - 公布日： 2016-07-13 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种新颖的包含碱性水溶液的导电膜形成浴，其可以用于通过电镀在非导电塑料材料上形成膜，所述导电膜形成浴能够通过电镀形成具有优异外观并且不减少相对于非导电塑料材料的附着性的膜。本发明涉及一种导电膜形成浴，其含有水溶液，所述水溶液含有铜化合物、络合剂、碱金属氢氧化物和具有聚氧化烯结构的水溶性聚合物。
导电形成

[发明专利]树脂材料蚀刻处理用组合物-CN201480009111.7在审
发明人：永峰伸吾;北晃治;大塚邦显 -专利权人：奥野制药工业株式会社
申请日： 2014-10-16 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： C23C18/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
树脂材料蚀刻处理组合

1
共 9 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top