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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种新型干刻设备-CN202020556707.1有效
发明人：王金宝;陈飞;冷问竹 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： F04D29/70 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型干刻设备，其包括腔室、多个支柱、保护平台、压力控制器和分子泵，所述腔室底部设有排气口；多个所述支柱设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；所述保护平台固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；所述压力控制器设于所述腔室的排气口的下方；所述分子泵设于所述压力控制器的下方。由于保护平台固定于支柱上且覆盖住排气口，玻璃碎屑无法直接落入排气口，而是掉落在保护平台上或掉落在腔室底部，从而防止玻璃碎屑从排气口落入分子泵，从而保护设备不受损坏，也不影响排气。
一种新型设备

[实用新型]一种新型干刻设备-CN202020556721.1有效
发明人：王金宝;陈飞;冷问竹 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： F04D29/70 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型干刻设备，其包括压力控制器、第一排气通道、第二排气通道、分子泵、惰性无毒气体吹扫装置和排气装置，所述第一排气通道设于所述压力控制器的上方；所述第二排气通道设于所述压力控制器的下方；所述分子泵设于所述第二排气通道的下方且与所述第二排气通道导通；所述惰性无毒气体吹扫装置，其与所述第一排气通道导通；所述排气装置与所述第二排气通道或分子泵导通。通过惰性无毒气体吹扫装置对第一排气通道进行吹扫，惰性无毒气体经由第一排气通道、压力控制器、第二排气通道和分子泵，再通过排气装置排出，以使得有毒气体得以排出，排出气体后方可对压力控制器和分子泵进行更换，以避免有毒气体中毒的危险。
一种新型设备

[发明专利]一种干法刻蚀设备的上部电极及干法刻蚀设备-CN202010098825.7在审
发明人：王金宝;冷问竹;陈飞;李岩 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种干法刻蚀设备的上部电极及干法刻蚀设备，包括上部电极主体和用于套合所述上部电极主体的辅助装置；所述上部电极主体包括母材，所述母材上设有多个第一通气孔；所述辅助装置包括基板，所述基板上设有第二通气孔；所述基板覆盖所述母材表面，所述第二通气孔向外延伸至所述第一通气孔内，所述基板表面及所述第二通气孔表面具有绝缘膜。本发明中通过在上部电极主体上套合辅助装置，在干法刻蚀过程中消耗辅助装置上的绝缘膜，而对上部电极主体的母材没有损耗，可以使上部电极主体上的通气孔的孔径保持长久的稳定形态，保证干法刻蚀工艺稳定，确保了上部电极主体的反复使用性，延长了上部电极的使用寿命。
一种刻蚀设备上部电极

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