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[发明专利]用于硫族合金的抛光液-CN201110243540.9无效
发明人： 具滋澔;刘振东;K·沙旺特;K-A·K·雷迪 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2011-07-01 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：用于硫族合金的抛光液。本发明提供了一种用于化学机械抛光硫族相变合金基材的化学机械抛光组合物。该组合物包括，按重量百分比计，水、0.1-30的胶体二氧化硅研磨剂、至少一种抛光剂，抛光剂选自0.05-5的卤素化合物、0.05-5的邻苯二甲酸、0.05-5的邻苯二甲酸酐及其盐、衍生物和其混合物。该化学机械抛光组合物的pH为2-小于7。
用于合金抛光

[发明专利]抛光硫族合金的方法-CN201110243557.4无效
发明人： 具滋澔;刘振东;K·沙旺特;K-A·K·雷迪 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2011-07-01 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：抛光硫族合金的方法，本发明提供了一种用于化学机械抛光基底的方法。本发明包括提供一其中包括硫族相变合金的基底和提供一化学机械抛光组合物，其中该化学抛光组合物包括，按重量百分比计，水、0.1-30的研磨剂、至少一种抛光剂，抛光剂选自0.05-5的卤素化合物、0.05-5的邻苯二甲酸、0.05-5的邻苯二甲酸酐及其盐、衍生物和其混合物，其中该化学机械抛光组合物的pH为2-小于7。一化学机械抛光垫以该化学机械抛光垫和该化学机械抛光组合物抛光基底，达到从基底选择性地或非选择性地去除硫族相变合金。
抛光合金方法