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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种锗单晶生长炉-CN202321336264.5有效
发明人：张建;李怀宇;吴建成;马敬涛;徐建雷;裴光华 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种锗单晶生长炉，包括：炉体，炉体固接在底座上；保温炉，安装在炉体内，保温炉外侧壁底部设置有加热管，保温炉与炉体之间设置有散热通道，保温炉顶端开设有开口，开口内滑接有籽晶；散热件，散热件包括与开口对应设置的散热扇，散热扇与炉体滑接，散热扇上设置有锁紧件，散热扇通过锁紧件相对于保温炉固定；固定件，设置在底座内，固定件包括与底座滑接的两夹块，夹块的一端传动连接有驱动件，两夹块通过驱动件相向或相反运动，夹块用于稳固可升降的坩埚。本实用新型能够实现有效提高生长炉的散热效果，加快锗单晶生产效率，减小位错密度，提高晶体完整性。
一种锗单晶生长

[发明专利]一种制备锗单晶的单晶炉及其工艺-CN202310622307.4在审
发明人：张建;李怀宇;吴建成;马敬涛;徐建雷;裴光华 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本发明公开一种制备锗单晶的单晶炉及其工艺，包括提升部，提升部包括底板，底板的顶面一侧设置有导向装置，导向装置上传动连接有转向装置；熔融部，熔融部设置在提升部的一侧，熔融部包括支架，支架固接在底板的顶面另一侧，支架的顶部固接有熔融装置，熔融装置的顶部一侧设置有进料装置，熔融装置内设置有石英坩埚，石英坩埚的底部通过转动轴传动连接有传动装置，且传动装置设置在熔融装置的底部，进料装置的出料端位于石英坩埚的上方；生成部，生成部设置在熔融装置的顶部，生成部的侧壁与转向装置固接，生成部内腔设置有生成装置，本发明便于工作人员将锗单晶取出，提高工作效率。
一种制备锗单晶单晶炉及其工艺

[实用新型]一种锗单晶片用双面镀膜设备-CN202121367836.7有效
发明人：裴洁;裴泽轩;刘怀成;李怀宇 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2021-06-19 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B05B13/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种锗单晶片用双面镀膜设备，顶板放置喷涂机构，顶板内部有滚动机构，底板上有夹持机构，夹持机构的中部有锗单晶片；喷涂管设置有两根，安装在滚动机构上，喷头安装在喷涂管的底部侧面；滚动带设置有两条，两个滚动齿轮分别连接正向喷涂管与反向喷涂管；电机与动力齿轮连接，滚动带上下并列放置在顶板的内部。本实用新型的一种锗单晶片用双面镀膜设备，通过电机为动力齿轮提供驱动力带动齿条与滚动齿轮的转动，喷涂管随着滚动齿轮的移动，从而完成左右移动喷涂镀膜的工作；喷涂管上带有喷头的的一侧分别朝向锗单晶片的两侧，安装在两个滚动齿轮的侧面；两根喷涂管可同时左右进行喷涂镀膜，提高工作效率，节省工作时间。
一种晶片双面镀膜设备

[实用新型]一种锗透镜加工用切削抛光设备-CN202121368071.9有效
发明人：李怀宇;裴洁;裴泽轩;刘怀成 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2021-06-19 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种锗透镜加工用切削抛光设备，包括L形支撑架、工作台、伸缩抛光机构和固定座，L形支撑架与工作台的表面固定连接，工作台的表面安装有固定座，固定座的内部设有旋转电机，旋转电机的顶部设有连接轴，连接轴远离旋转电机的一端固定连接有固定板，固定板的上方设有夹持机构，夹持机构的正中心夹持有锗透镜片，L形支撑架与伸缩抛光机构连接，固定座的左侧设有移动机构，移动机构的上方设有切削机构。本实用新型的锗透镜加工用切削抛光设备，切削机构和伸缩抛光机构的设置使得锗透镜片的切削和抛光工作可在同一设备上进行，提高了工作效率，夹持机构的设置，使得加工过程中无需人工辅助操作，更安全高效。
一种透镜工用切削抛光设备

[实用新型]一种锗单晶片用双面清洗设备-CN202121184212.1有效
发明人：裴泽轩;刘怀成;李怀宇;裴洁 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种锗单晶片用双面清洗设备，包括操作箱、隔板、传送带、固料夹、锗单晶片和升降机构，操作箱的底面的四角上固定安装有四个支柱，操作箱下方还设有置物板，操作箱内部固定安装有隔板，操作箱对应的两边侧壁上和隔板上均设有进出孔，传送带通过进出孔穿过操作箱，操作箱的内部上方设有连接柱，传送带与连接柱连接，传送带上固定若干固料夹，固料夹夹持锗单晶片的顶端。本实用新型的锗单晶片用双面清洗设备，隔板将操作箱的内部依次分为第一清洗室、第二清洗室和风干室，可以实现在同一设备上完成对锗单晶片的清洗工作，通过传送带进行传送，不需要人工操作，减少了劳动力的支出，提高了工作效率。
一种晶片双面清洗设备

[实用新型]一种锗晶体退火设备-CN202121182992.6有效
发明人：刘怀成;李怀宇;裴洁;裴泽轩 -专利权人： 保定晶泽光电技术有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C30B33/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种锗晶体退火设备，包括退火箱体，所述退火箱体的顶部通过铰链活动连接有箱盖，退火箱体的内部设有退火坩埚，退火坩埚的外部设有内保温层，内保温层远离退火坩埚的一侧设有加热圆筒，加热圆筒与内保温层之间设有第一传热间隙，加热圆筒远离内保温层的一侧设有外保温层，加热圆筒的底部设有加热底盘，加热底盘和内保温层之间设有第二传热间隙。本锗晶体退火设备，可以减慢加热圆筒直接对退火坩埚的热传递，可使加热圆筒外壁向退火坩埚传热时更均匀，更稳定，有效减少了退火坩埚内的径向温度梯度，使得晶体退火后，晶体各项性能在径向上的差异减小，使得炉内各点温度趋于一致，退火后的锗晶体在切割过程中的合格率更高。
一种晶体退火设备

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