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[发明专利]双连续型微乳状液组合物及化妆品-CN201811434855.X有效
发明人： 作田晃司;安部拓矢 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： A61K8/894 文献下载
摘要：本发明提供一种不需要阴离子系或阳离子系的表面活性剂、水溶性醇等的透明的双连续型微乳状液组合物及使用感优异的化妆品，该组合物由(A)下述通式(1)所示的含聚甘油基的有机(聚)硅氧烷、(B)油剂及(C)水组成。式中，R1彼此独立地为碳原子数为1～10的烷基、或苯基，R2为具有下述式(2)或下述式(3)所示的结构的基团，R3彼此独立地为R1或R2，a为0～6，b为0～4，a+b为0～10。其中，b为0时，R3中的一个以上为R2。式中，R4为碳原子数为2～10的亚烷基或碳原子数为7～10的亚芳烷基，c为0～10，d为2～6。
双连续型微乳状液组合化妆品

[发明专利]免冲洗护发化妆品-CN201880070957.X有效
发明人： 作田晃司;安部拓矢 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： A61K8/894 文献下载
摘要：本发明为一种免冲洗护发化妆品，其特征在于，其含有聚氧化烯改性有机聚硅氧烷化合物，该化合物在末端键合有式(1)所表示的具有聚氧化烯基的硅氧烷链，且在分子内具有50个以上式(2)所表示的结构单元，该化合物在25℃下的粘度为50,000mPa·s以上，HLB为1～7。由此，提供一种毛发的保护特性优异，在具有耐水性的同时能够在使用后易于通过洗发等而去除的免冲洗护发化妆品。[化学式1]上述式中，R1为烷基或苯基，A为式(3)或式(4)所表示的、具有聚氧化烯基的一价基团。[化学式2]
冲洗护发化妆品

[发明专利]含异氰酸酯基的有机硅化合物及含异氰酸酯基的有机硅化合物的制备方法-CN202180019374.6在审
发明人： 作田晃司 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-02-01 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种含异氰酸酯基的有机硅化合物，其为下述通式(1)所表示的含异氰酸酯基的有机硅化合物，其特征在于，在一分子中具有3个以上的R2基，且25℃下的粘度为100mm2/s以下。由此，可提供一种适合作为交联剂的一分子中具有3个以上的异氰酸酯基、低粘度且操作性优异的有机硅化合物。R1aR2bSiO(4‑a‑b)/2(1)式(1)中，R1为不具有脂肪族不饱和基团的同种或不同种的、碳原子数为1～10的一价烷基、氟取代烷基、碳原子数为6～10的一价芳基或碳原子数为7～10的一价芳烷基，R2为式‑CH2CH2Si(CH3)2OSi(CH3)2CH2CH2CH2NCO所表示的有机基团。
氰酸有机硅化合物制备方法

[发明专利]氢化硅烷化反应、氢化反应和氢硅烷还原反应用催化剂-CN201880014176.9有效
发明人：永岛英夫;真川敦嗣;川端将真;野田大辅;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B01J31/22 文献下载
摘要：催化剂，其包含式(1)的化合物，对选自对于脂肪族不饱和键的氢化硅烷化反应或氢化反应、或者对于碳‑氧不饱和键或碳‑氮不饱和键的氢硅烷还原反应中的至少一种反应具有活性。Mn(L)m(1){M表示氧化数为0价的Fe、Co或Ni，L表示由下述式(2)表示的异腈配体，n表示1～8的整数，m表示2～12的整数。(CN)x‑R1(2)(R1表示可被卤素原子取代、1个以上选自O、N、S和Si中的原子可介于其间的、碳原子数1～30的1～3价的有机基，x表示1～3的整数。)}。
氢化硅烷反应应和还原应用催化剂

[发明专利]含有异氰酸酯基的有机硅化合物及含有异氰酸酯基的有机硅化合物的制备方法-CN202180016123.2在审
发明人： 作田晃司 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明为一种含有异氰酸酯基的有机硅化合物，其特征在于，其由下述通式(1)所表示。由此本发明提供一种在分子内仅具有一个反应性高的异氰酸酯基且在一分子中具有两个或三个有机聚硅氧烷基的有机硅化合物。在式(1)中，R1为不具有脂肪族不饱和基团的同种或不同种的、碳原子数为1～10的一价烷基、或苯基，R2为不具有脂肪族不饱和基团的同种或不同种的、碳原子数为1～10的一价烷基、氟取代烷基、碳原子数为6～10的一价芳基、或碳原子数为7～10的一价芳烷基，a为0或1，b为0～300的整数。
含有氰酸有机硅化合物制备方法

[发明专利]过渡金属-异腈化物络合物的制造方法-CN201880014175.4有效
发明人：永岛英夫;真川敦嗣;野田大辅;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：式(2)的过渡金属络合物的制造方法，其中，在负载于不溶于有机溶剂的固体物质的碱金属的存在下使包含选自V、Cr、Mo、W、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd和Pt中的过渡金属的化合物与式(1)的异腈化物化合物反应。根据该制造方法，在没有使用对人体有害的化合物的情况下能够简便且有效率地制造具有相同或不同的异腈化物化合物的、由氧化数为0价的规定的过渡金属构成的过渡金属络合物。(CN)x‑R1 (1){R1表示碳原子数1～30的1～3价的有机基团，x为1～3的整数。}M1a(L)b (2){M1为V、Cr、Mo、W、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd或Pt，为0价的过渡金属，L为式(1)的异腈化物化合物，M1、L可以各自相同或不同，a表示1～8的整数，b表示2～12的整数}。
过渡金属异腈化物络合物制造方法

[发明专利]有机聚硅氧烷组合物-CN201880073693.3有效
发明人：野田大辅;作田晃司 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C08L83/07 文献下载
摘要：有机聚硅氧烷组合物，其含有：(A)在1分子中具有至少2个与硅原子结合的烯基的有机聚硅氧烷、(B)在1分子中具有至少2个与硅原子结合的氢原子的有机氢聚硅氧烷、(C)铂催化剂和(D)特定的异腈化合物。
有机聚硅氧烷组合

[发明专利]氢化硅烷化反应催化剂-CN201680041353.3有效
发明人：永岛英夫;砂田祐辅;田原淳士;野田大辅;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2016-07-06 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： B01J31/22 文献下载
摘要：氢化硅烷化反应催化剂可在温和的条件下进行氢化硅烷化反应的同时，处理性和保存性优异，氢化硅烷化反应催化剂由如下成分制备而成：例如新戊酸铁、新戊酸钴、乙酸铁、乙酸钴、乙酸镍等规定的过渡金属化合物、包括叔丁基异腈等异腈化合物的配体、和硼化合物、格氏试剂、烷氧基硅烷等规定的助催化剂。
氢化硅烷反应催化剂

[发明专利]新型异腈化合物和氢化硅烷化反应催化剂-CN201780007486.3有效
发明人： 作田晃司;永岛英夫;砂田祐辅;野田大辅 -专利权人：信越化学工业株式会社;国立大学法人九州大学
申请日： 2017-01-18 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明提供新型的异腈化合物、通过使用其从而可在温和的条件下进行氢化硅烷化反应的、处置性和保存性优异的氢化硅烷化反应催化剂和使用了其的采用氢化硅烷化反应的加成化合物的制造方法。氢化硅烷化反应催化剂，其由包含铁羧酸盐、钴羧酸盐、镍羧酸盐等不包括铂的周期表第8族、第9族、第10族的过渡金属化合物的催化剂前体和包含具有有机硅氧烷基的异腈化合物的配体制备。
新型化合物氢化硅烷反应催化剂

[发明专利]单核铁络合物和使用了其的有机合成反应-CN201680014488.0有效
发明人：永岛英夫;砂田祐辅;泽野美菜;野田大辅;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2016-03-08 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： C07F19/00 文献下载
摘要：由式(1)表示的具有铁‑硅键的单核铁二价络合物对于氢化硅烷化反应、氢化反应和羰基化合物的还原反应这三个反应的至少1个反应可发挥优异的催化活性。(式中，R1～R6相互独立地表示氢原子、可被X取代的烷基等，X表示卤素原子等，L1表示选自异腈、胺、亚胺、含氮杂环、膦、亚磷酸酯和硫醚中的至少1种的二电子配体，存在多个L1的情况下，2个L1可相互结合，L2表示CO配体和上述L1以外的二电子配体，存在多个L2的情况下，2个L2可相互结合，m1表示1～4的整数，m2表示0～3的整数，但m1+m2满足3或4。)
单核络合物使用有机合成反应

[发明专利]钴络合物、其制造方法和氢化硅烷化反应用催化剂-CN201880062155.4在审
发明人：永岛英夫;真川敦嗣;野田大辅;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： C07F19/00 文献下载
摘要：由式(1)表示的钴络合物在氢化硅烷化反应中发挥优异的催化活性，进而处理性、对于有机硅的溶解性优异。{R1～R3相互独立地表示氢原子、或者可被卤素原子取代、1个以上选自氧、氮和硅中的原子可介于其间的、碳原子数1～30的1价有机基团，这些R1～R3中的至少一组可一起形成1个以上选自氧、氮和硅中的原子可介于其间的碳原子数1～30的桥连取代基，L相互独立地表示由式(2)CN‑R4 (2)(R4表示可被卤素原子取代、1个以上选自氧、氮、硫和硅中的原子可介于其间的、碳原子数1～30的1价有机基团。)表示的异腈配体，n为4。}
络合物制造方法氢化硅烷应用催化剂

[发明专利]单核钌络合物和使用了其的有机合成反应-CN201580012923.1有效
发明人：永岛英夫;砂田祐辅;大串元;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2015-03-03 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C07F19/00 文献下载
摘要：由式(1)表示的中性或阳离子性单核钌二价络合物在氢化硅烷化反应、氢化反应和羰基化合物的还原反应的至少1个反应中可发挥优异的催化剂活性。(式中，R¹～R⁶相互独立地表示氢原子、可被X取代的、烷基、芳基、芳烷基、有机氧基、单有机氨基、二有机氨基、单有机膦基、二有机膦基、单有机甲硅烷基、二有机甲硅烷基、三有机甲硅烷基、或有机硫代基，或者表示R¹～R³的任一个与R⁴～R⁶的任一个的至少1组在一起的交联取代基，X表示卤素原子、有机氧基、单有机氨基、二有机氨基、或有机硫代基，L相互独立地表示CO和硫脲配体以外的二电子配体，2个L可相互结合，m表示3或4的整数。)。
单核络合物使用有机合成反应

[发明专利]单核钌络合物和使用了该单核钌络合物的有机合成反应-CN201480011637.9有效
发明人：永岛英夫;砂田祐辅;堤大典;桥本彻;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2014-02-26 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C07F19/00 文献下载
摘要：式(1)所示的具有钌‑硅键的单核钌络合物对于氢化硅烷化反应、氢化反应、羰基化合物的还原反应的这三种反应能够发挥优异的催化剂活性。(式中，R¹～R⁶相互独立地表示氢原子、可被X取代的、烷基、芳基、芳烷基等，或者R¹～R³的任一个与R⁴～R⁶的任一个的至少1组表示在一起的桥连取代基，X表示卤素原子、有机氧基等，L表示CO和膦以外的二电子配体，存在多个L的情况下，它们可彼此相同，也可不同，L为2个的情况下，它们可相互结合，n和m相互独立地表示1～3的整数，n+m满足3或4。)。
单核络合物使用有机合成反应

[发明专利]单核铁络合物和使用了该单核铁络合物的有机合成反应-CN201480011662.7有效
发明人：永岛英夫;砂田祐辅;堤大典;桥本彻;作田晃司 -专利权人：国立大学法人九州大学;信越化学工业株式会社
申请日： 2014-02-26 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： C07F19/00 文献下载
摘要：式(1)所示的、具有铁‑硅键的单核铁络合物对于氢化硅烷化反应、氢化反应、羰基化合物的还原反应这三种反应能够发挥优异的催化剂活性。(式中，R1～R6相互独立地表示氢原子、可被X取代的、烷基、芳基、芳烷基等，或者R1～R3的任一个与R4～R6的任一个的至少1组表示一起形成的桥连取代基，X表示卤素原子、有机氧基等，L表示CO以外的二电子配体，存在多个L的情况下，它们可彼此相同，也可不同，L为2个的情况下，它们可相互结合，n和m相互独立地表示1～3的整数，n+m满足3或4)。
单核络合物使用有机合成反应

[发明专利]化妆材料-CN201510036122.0有效
发明人： 作田晃司;赤羽绘美;池田辉喜 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2015-01-23 - 公布日： 2018-01-23 - 主分类号： A61K8/894 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种化妆材料，所述化妆材料的稳定性高，在涂抹时，由油相和水相获得的触感的变化程度大，并且直到触感发生变化为止的时间较长。为了解决上述问题，本发明提供一种化妆材料，其特征在于，其是交联型有机聚硅氧烷聚合物，并且是使在一个分子中具有两个以上的和硅原子键结的氢原子的有机氢聚硅氧烷、与在一个分子中具有两个以上脂肪族不饱和键的聚氧化烯和/或聚甘油进行反应而获得，并且，所述化妆材料含有(A)氧化烯单元和/或甘油单元含量为0.5～5.0质量％的聚合物、与(B)氧乙烯单元和/或甘油单元含量为5.0～20.0质量％的聚合物，并且，(A)聚合物与(B)聚合物的质量比为595～6040。
化妆材料

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