专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]太阳能电池及其制造方法-CN200780044547.X无效
  • 伊坂隆行;舩越康志;小平真继 - 夏普株式会社
  • 2007-11-19 - 2009-09-30 - H01L31/04
  • 本发明提供一种太阳能电池(10),其中,在该太阳能电池(10)中形成的钝化膜(3)对于太阳能电池(10)中的硅基板表面(1)上的p区及n区中的任一区域均可发挥高度钝化效果。在该太阳能电池(10)中,在硅基板(1)上与受光面相反的面上形成了由氮化硅膜构成的第1钝化膜,该第1钝化膜的折射率在2.6以上。在该太阳能电池(10)中,优选在硅基板(1)和第1钝化膜之间形成含有氧化硅膜和/或氧化铝膜的第2钝化膜。并且,该太阳能电池(10)优选为下述的背结型太阳能电池——在硅基板(1)上与受光面相反的面上形成了pn结的太阳能电池。
  • 太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]太阳能电池及太阳能电池的制造方法-CN200910003203.5有效
  • 伊坂隆行;安彦义哉;殿村嘉章 - 夏普株式会社
  • 2005-10-13 - 2009-07-01 - H01L31/068
  • 本发明公开了一种太阳能电池及太阳能电池的制造方法。太阳能电池包括硅基板,在硅基板的后表面侧上的p型杂质扩散区和n型杂质扩散区;后表面侧钝化膜,形成于所述硅基板的后表面侧;光接收表面侧钝化膜,形成于所述硅基板的光接收表面上;抗反射膜,形成于所述光接收表面侧钝化膜上。所述光接收表面侧钝化膜的折射率高于所述抗反射膜的折射率。所述光接收表面侧钝化膜和所述抗反射膜分别由氮化硅膜制成。所述后表面侧钝化膜由氧化硅制成。根据本发明,可以提高太阳能电池的最大电功率。
  • 太阳能电池制造方法

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