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[发明专利]材料光学常数的确定方法、材料数据库的扩展方法及装置-CN201910500995.0有效
发明人： 任梦昕;刘进超;张迪;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2019-06-11 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本申请涉及一种材料光学常数的确定方法、材料数据库的扩展方法及装置。所述材料光学常数的确定方法，包括获取椭偏测试参数向量，利用机器学习模型得出与所述椭偏测试参数向量对应的材料光学常数。所述机器学习模型包括椭偏测试参数向量和材料光学常数之间的映射关系。所述材料光学常数的确定方法利用所述机器学习模型实现对椭偏测试参数向量的自动化拟合。所述材料光学常数的确定方法使用的机器学习模型计算出材料的光学常数，不再依赖实验人员的经验，降低了对操作人员的要求，并且计算材料的光学常数时加快了数据曲线的拟合速度、提高了运算效率。
材料光学常数确定方法数据库扩展装置

[发明专利]一种铌酸锂超构表面的制备方法-CN202111032740.X在审
发明人： 任梦昕;靳春艳;兀伟;曹雷;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2021-09-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本申请提供一种铌酸锂超构表面的制备方法，通过在铌酸锂基材上沉积金属膜，作为聚焦离子束图形化和干法刻蚀中的掩膜，防止铌酸锂光栅结构顶端椭圆化；通过聚焦离子束图形化金属膜及铌酸锂基材，从而形成图形化的金属膜和图形化的铌酸锂基材，降低了工艺复杂性及工艺难度；通过干法刻蚀对图形化的铌酸锂基材去损，实现去除聚焦离子束图形化铌酸锂基材导致的铌酸锂光栅结构表层污染及非晶化；湿法去除图形化的金属膜，最终得到高光学质量的铌酸锂光栅。
一种铌酸锂超构表面制备方法

[发明专利]红外测量方法、装置、计算机设备和存储介质-CN202210282813.9在审
发明人： 任梦昕;兀伟;朱章航;张迪;蔡卫;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2022-03-22 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G01S17/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种红外测量方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。所述方法包括：检测待测场景下的和频光在不同偏振基的投影的强度信息；所述和频光为红外信号光和泵浦光发生和频过程产生的和频光；根据所述和频光在不同偏振基的投影的强度信息，确定所述和频光的偏振信息；根据所述和频光的偏振信息和穆勒矩阵，确定所述红外信号光的偏振信息；其中，所述穆勒矩阵是基于所述和频器对应的二阶非线性极化率和所述泵浦光的偏振信息构建；根据所述红外信号光的偏振信息确定所述待测场景中被测目标的检测信息。采用本方法能够提高对被测目标发现与识别的精度。
红外测量方法装置计算机设备存储介质

[发明专利]动态偏振度计及检测光的偏振态的方法-CN202210082001.X在审
发明人： 任梦昕;兀伟;龚圣超;王琛雄;孟弋林;孟祥谦;陈亦然;蔡卫;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G01J4/00 文献下载
摘要：本申请提供一种动态偏振度计及检测光的偏振态的方法。该动态偏振度计包括分光元件、检测元件、第一探测器、第二探测器和控制模块。其中，分光元件用于将入射光分为第一光束和第二光束；检测元件具有超构表面，设置于第二光束的光路上；第二光束透射超构表面后形成待检测透射光；第一探测器设置于第一光束的光路上，用于检测第一光束的功率；第二探测器设置于待检测透射光的光路上，用于检测待检测透射光的功率；控制模块包括数据处理单元，对测得的第一光束的功率和待检测透射光的功率进行处理得到入射光的偏振态参数。该偏振度计采用具有超构表面的检测元件使得装置体积小，结构简单，检测精度高。
动态偏振检测方法

[发明专利]一种激光诱导石墨烯微纳结构的加工方法及其系统-CN201710461601.6有效
发明人：张心正;许京军;石彬;徐晓丹;刘洋;任梦昕;蔡卫;吴强;伊瑞娜 -专利权人：南开大学
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： C01B32/194 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光诱导石墨烯微纳结构的加工方法及其系统，本方法首先制备氧化物‑石墨烯‑基底材料三明治结构样品；其次，样品通过激光直写系统进行加工；超过阈值光强的区域内石墨烯在激光诱导下和氧化物发生碳热还原反应而被破坏，其他部分的石墨烯则不会被破坏得以保留，从而形成石墨烯微纳结构。本发明方法及系统操作简单，不需要借助掩模板进行曝光，避免了离子束加工中二次溅射的问题，能实现高精度的石墨烯结构及图案的加工，加工分辨率可通过激光光斑大小和激光能量调控，有利于复杂结构石墨烯图案的快速加工及高质量石墨烯结构器件的制备，可广泛的推广应用。
一种激光诱导石墨烯微纳结构加工方法及其系统

[发明专利]确定材料二阶非线性极化率的系统及方法-CN201911213678.7有效
发明人： 任梦昕;马军军;陈嘉鑫;兀伟;蔡卫;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本申请涉及一种确定材料二阶非线性极化率的系统及方法。确定材料二阶非线性极化率的系统包括激光光源、偏振调制器、光线收集器、偏振探测器和控制器。所述控制器可以根据所述测试数据得出所述待测试样品的二阶非线性极化率。所述确定材料二阶非线性极化率的系统既可以直接测试百纳米级厚度的材料，又可以根据所述光学系统的测试结果绘制材料二阶非线性极化率拟合曲线。进一步，所述确定材料二阶非线性极化率的系统可以通过材料二阶非线性极化率拟合曲线得出不同的二阶非线性极化参数之间的比值关系和相位关系，避免了对绝对效率的多次测量。
确定材料非线性极化系统方法

[发明专利]一种分光器以及采用该分光器的光通讯系统和显示装置-CN201711396912.5有效
发明人：张迪;任梦昕;兀伟;高宁慧;禹宣伊;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光器以及采用该分光器的光通讯系统和显示装置。该分光器包括：一透光基底，与该透光基底的表面平行且相互垂直的两个方向分别定义为X方向和Y方向；以及多个设置于该基底表面的结构相同的微结构单元组，该多个设置于该基底表面的结构相同的微结构单元组在X方向和Y方向分别周期性设置，从而形成一超表面结构；其中，每个微结构单元组包括多个微结构单元，每个微结构单元包括多个平行且间隔设置的微纳米柱，每个微结构单元包括的所述多个微纳米柱的高度相同且横截面尺寸沿着排列方向梯度变化；且该多个微结构单元的梯度方向不同。
一种分光以及采用通讯系统显示装置

[发明专利]一种分光器以及采用该分光器的分光方法-CN201711396942.6有效
发明人：张迪;任梦昕;兀伟;高宁慧;禹宣伊;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： G02B6/125 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光器以及采用该分光器的分光方法。该分光器包括：一透光基底；设置于该透光基底表面的多个周期性的第一微结构单元，所述第一微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第一微纳米柱，所述多个第一微纳米柱的高度相同，且所述多个第一微纳米柱的横截面尺寸梯度变化；以及设置于该透光基底表面的多个周期性的第二微结构单元，所述第二微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第二微纳米柱，所述多个第二微纳米柱的高度相同，所述多个第二微纳米柱的横截面尺寸梯度变化，且所述多个第一微纳米柱的梯度与所述多个第二微纳米柱的梯度相同但相反；所述多个周期性的第一微结构单元和多个周期性的第二微结构单元交替设置。
一种分光以及采用方法

[发明专利]发光装置以及采用该发光装置的显示装置-CN201410423957.7有效
发明人： 任梦昕;李群庆;张立辉;陈墨;范守善 -专利权人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光装置，其包括一绝缘透明基底以及一发光材料层设置于该绝缘透明基底一表面，其中，进一步包括一设置于该绝缘透明基底与该发光材料层之间的金属超材料层，所述金属超材料层包括多个周期设置的超材料单元。通过超材料的等离子激元场在纳米尺度内实现对于电磁波性质的操控，可以实现对于发光装置发出的光的纳米尺度偏振起偏，从而直接发射偏振光。采用该发光装置的显示装置无需专门偏振元件，结构简单。
发光装置以及采用显示装置

[发明专利]发光装置以及采用该发光装置的显示装置-CN201410426400.9有效
发明人： 任梦昕;李群庆;张立辉;陈墨;范守善 -专利权人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光装置，其包括一第一电极、一第一半导体层、一活性层、一第二半导体层以及一第二电极；所述第一半导体层、活性层以及第二半导体层层叠设置；其中，所述第二电极为一设置于该第二半导体层表面的金属超材料层，所述金属超材料层为一连续的金属层，且该连续的金属层定义多个周期设置的开口从而形成多个周期设置的超材料单元；且所述金属超材料层与所述活性层之间的距离小于等于100纳米，该金属超材料层通过等离子体激元场共振实现对活性层发出的光的纳米级起偏，使该发光装置直接发出偏振光。采用该发光装置的显示装置无需专门偏振元件，结构简单。
发光装置以及采用显示装置

[发明专利]一种微结构阵列光学应变传感器设计及其制造方法-CN201510236182.7有效
发明人：兀伟;任梦昕;皮彪;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2015-05-08 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： G01B11/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微结构阵列的光学应变传感器设计及制造方法，首先在弹性体基底材料表面进行镀膜，利用微纳米加工方法在基底材料上制备具有光谱特征峰的微结构阵列；将制备好的器件固定在被测样品表面，利用光谱仪测量样品在形变前后及形变过程中的光谱，最终利用光谱特征峰的变化计算样品的形变量。本发明的微结构阵列光学应变传感器可以测量微小区域内形变量，且具有测量灵敏度高、检测速度快的优势。
一种微结构阵列光学应变传感器设计及其制造方法

[发明专利]一种微结构阵列光学位移传感器的制造方法及其用于检测微小位移的方法-CN201510445700.6有效
发明人：兀伟;任梦昕;皮彪;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2015-07-27 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种微结构阵列光学位移传感器的制造方法及其用于检测微小位移的方法，所述方法包括首先在基底材料表面进行镀膜，利用微纳米加工方法在基底材料上制备具有光谱特征峰的微结构阵列；将具有微结构阵列的基底固定于被测样品表面并利用光谱仪对样品表面的微结构进行光谱测量；移动位移传感器，记录光谱特征峰移动位置并计算位移量。所述方法制造的微结构阵列光学位移传感器可以测量微小区域内位移变化量，且具有测量灵敏度高、检测速度快的优势。
一种微结构阵列光学位移传感器制造方法及其用于检测微小

[发明专利]纳米级微结构的制备方法-CN201310209010.1有效
发明人：刘军库;任梦昕;张立辉;陈墨;李群庆;范守善 -专利权人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
申请日： 2013-05-30 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明涉及一种纳米级微结构的制备方法，其包括以下步骤提供一绝缘基底，在所述绝缘基底的一表面形成一导电层，所述导电层包括一石墨烯膜；在所述导电层上形成一掩模预制层；采用电子束曝光对所述掩模预制层进行图案化处理，形成一图形化的掩模层，所述图形化的掩模层包括多个凹部和多个凸部，位于凹部位置处的所述导电层暴露出来；通过干法刻蚀去除位于所述多个凹部位置处的所述导电层，暴露出所述绝缘基底的部分表面；形成一预制层至少覆盖所述暴露出来的绝缘基底表面；以及，去除所述掩模层以及所述导电层，在所述绝缘基底的表面形成纳米级微结构。
纳米微结构制备方法

[发明专利]一种实现微区光谱测量的光谱仪设计方法-CN201510236181.2在审
发明人： 任梦昕;兀伟;皮彪;蔡卫;张心正;许京军 -专利权人：南开大学
申请日： 2015-05-08 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种可实现微区光谱测量的光谱仪设计方法，其包括以下步骤：(1)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量该光谱仪可独立使用或联合显微镜使用。本发明利用小孔实现测量区域的选择，可以实现对于尺寸达微米甚至纳米量级样品的透射、反射、吸收及荧光光谱的测量。
一种实现光谱测量光谱仪设计方法

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