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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202011346508.9在审
发明人：西山淳;池田文彦;野田隆广;井本直树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能够提高基片的电路图案的精度的基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括输送机构、改性装置和显影装置。输送机构平流地输送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。改性装置对由输送机构输送的基片进行抗蚀剂膜的改性处理。显影装置对进行了改性处理且由输送机构输送的基片进行显影处理。改性装置包括供给处理部、改性清洗处理部和改性干燥处理部。供给处理部将改性液供给到基片。改性清洗处理部对被供给了改性液的基片供给冲洗液，对基片进行清洗。改性干燥处理部从基片除去冲洗液，使基片干燥。
处理装置方法

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN201910395773.7在审
发明人：久保诚人;井本直树;八寻俊一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-13 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制在基片处理中发生不均的技术。实施方式的基片处理装置包括腔室、多个供气部和控制部。腔室用于收纳基片，能够在减压气氛在内部保持基片。供气部用于对腔室内供给气体。控制部分别控制多个供气部进行的气体的供给。控制部在使腔室内回到常压时，开始从多个供气部中的一个以上的供气部供给气体后，增加供给气体的供气部的数量。
供气部供给气体腔室基片处理装置室内基片处理减压气氛收纳常压

[发明专利]衬底交接装置以及衬底交接方法-CN201110272260.0无效
发明人：相马康孝;井本直树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-09-09 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： B65G47/52 文献下载
摘要：提供一种衬底交接装置以及衬底交接方法，不使用升降销以及升降销的升降机构从正交的方向将输送臂的叉子插入到辊式输送机上的衬底来将衬底交接到输送臂。具备辊式输送机和输送臂，该辊式输送机能够沿水平方向输送衬底，该输送臂具有叉子，该叉子能够沿水平、铅垂方向以及绕垂轴旋转自由地移动衬底，辊式输送机构成为将在驱动轴上适当地隔着间隔安装有驱动辊的驱动辊列以及在自由辊轴上适当地隔着间隔以旋转自由的方式安装有自由辊的自由辊列并列排列，具备将自由辊列移动到相邻的驱动辊列侧而在驱动辊列与自由辊列之间形成空间的自由辊驱动用气缸。在空间内从与输送方向正交的方向插入输送臂的叉子，将第一辊式输送机上的衬底交接到输送臂。
衬底交接装置以及方法

[发明专利]基板缓冲单元-CN201010003426.4无效
发明人：宫崎一仁;井本直树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-01-15 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供使在基板输送路径中向一个方向输送的基板暂时退避的基板缓冲单元，其能够高效率地进行缓冲空间的空气清洗，且能降低成本。该基板缓冲单元包括：箱状的架部(2)，设置在基板输送路径上，具有载置基板的载置部(6)，且能够将基板移动到脱离上述基板输送路径的规定位置；清洁空气供给部件(4)，设置在上述箱状的架部的上表面或者侧面，用于供给净化后的清洁空气；通风路径(5)，将上述清洁空气供给部件和上述架部的一侧面连接起来；自上述清洁空气供给部件供给来的清洁空气被从形成于上述箱状的架部的一侧面的空气导入口(7)供给到上述载置部，并被从设置在上述箱状的架部的与上述空气导入口相对侧的侧面的空气导出口(8)排出。
缓冲单元

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