“久留巢健人”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基片清洗装置-CN201780019840.4有效
发明人：天野嘉文;伊藤优树;久留巢健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-06 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式的基片清洗装置为一种利用刷子清洗基片的基片清洗装置，包括基片保持部、臂和供给部。基片保持部将基片以能够使该基片旋转地方式保持。臂经由轴将刷子以能够使该刷子旋转的方式支承。供给部对基片供给处理液。另外，刷子包括主体部、清洗体和液接收部件。主体部与轴连接。清洗体设置在主体部的下部，能够被按压于基片。液接收部件设置在主体部的外周部，从主体部的外周部突出。
清洗装置

[发明专利]基片液处理装置和基片液处理方法-CN202180041643.9在审
发明人：小原隆宪;久留巢健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-10 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供有利于抑制颗粒对基片的附着的基片液处理装置和基片液处理方法。使液供给喷嘴沿着包含第一移动位置和第二移动位置的喷嘴移动路径移动，第一移动位置是从液供给喷嘴向基片的处理面中的位于周缘部的第一释放部位释放处理液的位置，第二移动位置是从液供给喷嘴向处理面中的比第一释放部位靠近旋转轴的第二释放部位释放处理液的位置。第一液接收部的第一液接收面接收从配置于第二移动位置的液供给喷嘴释放且从处理面飞散的处理液的至少一部分。第二液接收部的第二液接收面接收从配置于第一移动位置的液供给喷嘴释放且从处理面飞散的处理液的至少一部分。
基片液处理装置方法

[发明专利]基板清洗装置-CN201710128384.9有效
发明人：天野嘉文;伊藤优树;久留巢健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种在将多个不同种类的清洗液向刷子供给的情况下、也能够进行良好的清洗处理的基板清洗装置。实施方式的基板清洗装置具备基板保持部、刷子、臂、喷出部以及引导构件。基板保持部将基板保持成可旋转。刷子具有：主体部；清洗体，其设置于主体部的下部，能够被按压于基板；空心部，其形成于主体部，上下两端开口。臂借助主轴将刷子的主体部支承成可旋转。喷出部设置于臂，可对多个种类的处理液进行切换而喷出。引导构件配置于喷出部与刷子之间，暂且接收从喷出部喷出来的处理液并向刷子的空心部引导。
清洗装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201910832975.3在审
发明人：毛利信彦;久留巢健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提高基板的清洗所涉及的处理效率。基板处理装置具有：基板保持部；处理液供给喷嘴，其向保持于基板保持部的基板供给处理液；液体接收杯，其接收供给到基板的所述处理液；处理室，其收纳液体接收杯且在上方具有开口部；遮蔽部，其遮蔽处理室的所述开口部中的、液体接收杯的外侧的区域；驱动部，其使液体接收杯在自遮蔽部分离的第1处理位置与遮蔽部的上方的第2处理位置之间移动；以及处理液引导部，其使落下到遮蔽部之上的处理液向下方落下。
处理装置方法

[外观设计]用于半导体制造装置的带有研磨部的洗涤刷-CN201730248387.7有效
发明人：篠原英隆;宫原理;久留巢健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2017-12-12 - 主分类号： 04-03 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称用于半导体制造装置的带有研磨部的洗涤刷。2．本外观设计产品的用途本产品是一种刷子，该刷子在半导体制造装置中用于去除在对基板曝光等产生不良影响的基板内面形成的凸部或基板内面的附着物，其底面外周具有研磨部，其内侧具有洗涤部。洗涤部由可弹性变形的合成树脂等形成。将本产品按压于基板内面，在研磨部和洗涤部与基板内面相接触的状态下旋转本产品，由此能够去除基板内面的研磨和由研磨产生的研磨屑等。3．本外观设计产品的设计要点在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片立体图。
用于半导体制造装置带有研磨洗涤

[外观设计]基板清洗具-CN201630060249.1有效
发明人：锦户修一;篠原英隆;久留巢健人;天野嘉文 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-03-04 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： 04-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：基板清洗具。2．本外观设计产品的用途：本物品是用于清洗半导体基板、液晶基板等基板的表面的基板清洗工具。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图。5．省略视图：设计1右视图和设计1左视图对称，因此省略设计1右视图。设计1仰视图与设计1俯视图对称，因此省略设计1仰视图。6．指定基本设计：设计1。
清洗

1
共 6 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top