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[发明专利]感光性树脂组合物、感光性树脂覆膜、感光性干膜和图案形成方法-CN202280010886.0在审
发明人： 丸山仁;林久美子 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供感光性树脂组合物，其包含：(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的光致产酸剂、和(C)羧酸季铵化合物。
感光性树脂组合图案形成方法

[发明专利]含有硅亚苯基和聚醚结构的聚合物-CN201910405687.X有效
发明人： 丸山仁;加藤英人;菅生道博 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-05-16 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C08G77/60 文献下载
摘要：本发明涉及含有硅亚苯基和聚醚结构的聚合物，将在主链中含有硅亚苯基和聚醚结构的新型聚合物用于配制具有改善的可靠性的感光组合物。
含有苯基结构聚合物

[发明专利]含有机硅结构聚合物、感光树脂组合物、感光树脂涂层、感光干膜、层合体和图案形成方法-CN201810899840.4有效
发明人： 丸山仁;近藤和纪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-08-09 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明为含有机硅结构的聚合物、感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含分子中具有交联性基团或易交联反应的反应位点的含有机硅结构的聚合物的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成具有改进的基底粘合性、图案形成能力、耐开裂性、耐热性和作为保护膜的可靠性的感光性树脂涂层。
有机硅结构聚合物感光树脂组合涂层合体图案形成方法

[发明专利]含异氰脲酸和聚醚骨架的硅氧烷聚合物、感光性树脂组合物和图案形成方法-CN201911179203.0有效
发明人： 丸山仁;曾我恭子 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C08G77/46 文献下载
摘要：本发明为含异氰脲酸和聚醚骨架的硅氧烷聚合物、感光性树脂组合物和图案形成方法。提供了一种硅氧烷聚合物，其在主链中包含聚硅氧烷、硅亚苯基、异氰脲酸和聚醚骨架，并且在侧链中具有环氧基。涂覆包含该硅氧烷聚合物和光致产酸剂的感光性树脂组合物以形成膜，该膜可以使用波长变化宽的辐射来图案化。图案化膜具有高透明度和耐光性。
含异氰脲酸骨架硅氧烷聚合物感光性树脂组合图案形成方法

[发明专利]聚硅氧烷骨架聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体器件的制造-CN201911153444.8有效
发明人： 丸山仁;曾我恭子 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： C08G77/26 文献下载
摘要：本发明提供聚硅氧烷骨架聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体器件的制造。提供了聚合物，其在主链中包含聚硅氧烷、硅亚苯基、异氰脲酸和降冰片烯骨架并在侧链中具有环氧基团。涂覆包含该聚合物和光致产酸剂的感光性树脂组合物以形成膜，可使用具有大幅变化波长的辐照使膜图案化。图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。
聚硅氧烷骨架聚合物感光性树脂组合图案形成方法半导体器件制造

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法-CN201810104013.1有效
发明人： 丸山仁;近藤和纪;柳泽秀好 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-02-02 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法。将包括(A)有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和(B)在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸的光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基材上，以形成厚涂层，将该涂层曝光至辐射，烘焙，并显影以形成图案。所述树脂涂层能够形成精细图案并且具有改进的耐开裂性和其它膜性质，和可靠性。
感光性树脂组合涂层图案形成方法

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性树脂覆膜、感光性干膜及图案形成方法-CN202180010691.1在审
发明人： 丸山仁 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的烷基苯酚酚醛清漆树脂、及(C)光致产酸剂。(式中，R51为碳原子数1～9的饱和烃基。R52为碳原子数10～25的饱和烃基。n1和n2为满足0≤n11、0n2≤1、n1+n2＝1的数。m1为0～3的整数，m2为1～3的整数)。
感光性树脂组合图案形成方法

[发明专利]光敏性树脂组合物、光敏性树脂覆膜、光敏性干膜、图案形成方法及发光元件-CN202080083423.8在审
发明人： 丸山仁;大和田保 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2020-11-12 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明为一种光敏性树脂组合物，其特征在于，包含：(A)含有酸交联性基团的有机硅树脂、(B)光致酸产生剂及(C)量子点颗粒。由此本发明提供能够易于形成具有良好的耐热性、光刻分辨率、发光特性的覆膜的光敏性树脂组合物、使用该光敏性树脂组合物而得到的光敏性树脂覆膜、光敏性干膜及使用它们的图案形成方法、以及使用所述光敏性树脂组合物而得到的发光元件。
光敏树脂组合性干膜图案形成方法发光元件

[发明专利]判断装置及判断方法-CN202111226304.6在审
发明人： 丸山仁;清田贤也;藤森克纪 -专利权人：帝伯爱尔株式会社
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B29C45/40 文献下载
摘要：提前检测滑动不佳，从而防止模具的破损。判断装置(1)判断与注塑成型装置(2)的成型操作相关的可动部件(321、341)的位置，该判断装置(1)具备：真空压测量部(112)，其测量作为检测对象的可动部件与抵接部件(314、342)之间被抽真空后的真空压，其中，该可动部件在位于规定位置时与该抵接部件(314、342)抵接；以及位置判断部(113)，其基于由真空压测量部所测量出的真空压，判断可动部件的位置。
判断装置方法

[发明专利]含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法-CN201810998756.8有效
发明人：林久美子;丸山仁;近藤和纪;加藤英人 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-08-30 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C08G77/388 文献下载
摘要：本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物，其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层，适应微加工，并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工，以限定具有精细尺寸和垂直度的图案，并且变成固化涂层，该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性，且作为绝缘保护膜是可靠的。
含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂光敏树脂组合层叠图案形成方法

[发明专利]有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和制备方法-CN201810104003.8有效
发明人： 丸山仁;林龙人;近藤和纪;柳泽秀好 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2018-02-02 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： C08G73/22 文献下载
摘要：本发明为有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和制备方法。通过加成聚合制备包括式(1a)和(1b)的重复单元的有机硅改性的聚苯并噁唑树脂。R1至R4为C1‑C8一价烃基，m和n为0‑300的整数，R5为C1‑C8亚烷基或亚苯基，a和b为小于1的正数，a+b＝1，X1为式(2)的二价连接基。所述树脂是柔性的，可溶于有机溶剂并且易于使用。
有机硅改性树脂制备方法

[发明专利]含硅酮骨架高分子化合物、光固化性树脂组合物、光固化性干膜、积层体、及图案形成方法-CN201710209017.1有效
发明人： 丸山仁;近藤和纪;菅生道博 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C08G77/388 文献下载
摘要：本发明所要解决的问题在于，提供一种含硅酮骨架高分子化合物、包含该高分子化合物的光固化性树脂组合物、其光固化性干膜、使用它们的积层体、及图案形成方法，所述硅酮骨架高分子化合物能够以厚膜容易地实行微细图案的形成，并且，能够形成一种作为电性/电子零件保护用皮膜、或基板接合用皮膜等的可靠性优良的固化物层(固化皮膜)，其耐开裂性、及对于基板、电子零件或半导体元件等、尤其是对在电路基板中使用的基材的密接性等各种膜特性优良。本发明的解决问题的技术方案是一种含硅酮骨架高分子化合物，其由下述式(1)表示，包含硅酮骨架且重均分子量为3000～500000。
硅酮骨架高分子化合物光固化树脂组合性干膜积层体图案形成方法

[发明专利]感光性树脂组合物、图案形成方法和减反射膜-CN201911132148.X在审
发明人： 丸山仁;大和田保 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及感光性树脂组合物、图案形成方法和减反射膜。本发明提供了感光性树脂组合物，其包含(A)含酸可交联的基团的有机硅树脂，(B)光致产酸剂，和(C)中空二氧化硅。感光性树脂组合物具有令人满意的可靠性、挠曲性、光刻法分辨率和耐光性，同时保持减反射膜的功能。
感光性树脂组合图案形成方法减反射膜

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法-CN201910971851.3在审
发明人： 丸山仁 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。包含以下组分的感光性树脂组合物是储存稳定的：(A)含有环氧基和/或酚羟基的有机硅树脂，(B)光致产酸剂，和(C)选自二氮杂双环十一烯、二氮杂双环壬烯、二氮杂双环十一烯衍生物的有机盐和二氮杂双环壬烯衍生物的有机盐的固化促进剂。可以加工由此获得的感光性树脂涂层以形成精细尺寸的图案。树脂涂层具有改进的膜性质，包括耐化学品性、对基底的粘合性、机械性质、电绝缘性和耐铜迁移性，并且因此作为绝缘性保护膜完全可靠。
感光性树脂组合图案形成方法

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜和黑色矩阵-CN201910644009.9在审
发明人： 丸山仁;大和田保 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明为感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜和黑色矩阵。将包含(A)含酸可交联的基团的有机硅树脂、(B)炭黑和(C)光致产酸剂的黑色感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成保持令人满意的遮光性质的同时具有改进的关于粘合性和耐开裂性的可靠性、分辨率和柔韧性的感光性树脂涂层。
感光性树脂涂层感光性树脂组合物黑色感光性树脂感光性干膜光致产酸剂有机硅树脂组合物涂布柔韧性黑色矩阵耐开裂性遮光性质可交联粘合性分辨率基底炭黑改进

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