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[发明专利]水处理系统和超纯水制造系统以及水处理方法-CN202080071959.8有效
发明人：佐佐木庆介;中村勇规;高桥一重 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理系统，能够以简单的结构提高EDI的除硼效率。水处理系统(2)具有：EDI(25)，具备对含硼的被处理水进行脱盐的脱盐室(43)和供浓缩水流通的浓缩室(42、44)；和冷却单元(24)，对向脱盐室(43)供给的被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水进行冷却。或者，水处理系统(2)具有：EDI(25)，具备对含硼的被处理水进行脱盐的脱盐室(43)、供浓缩水流通的浓缩室(42、44)和供电极水流通的电极室(41、45)；冷却单元(24)，对被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水的温度进行调整；和控制单元(27)，基于被处理水、EDI(25)的处理水、浓缩水或电极水的温度来控制冷却单元(24)，使得将向脱盐室(43)供给的被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水的温度调整为10～23℃的范围。
水处理系统超纯水制造以及方法

[发明专利]水处理系统以及水处理方法-CN202080056641.2有效
发明人： 中村勇规;高桥一重;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-08-25 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B01D61/02 文献下载
摘要：一种水处理系统，具有：反渗透膜系统，该反渗透膜系统具有第一反渗透膜装置以及配置于第一反渗透膜装置的透过水侧的第二反渗透膜装置；水质测定单元，其配置于第二反渗透膜装置的透过水侧；以及管线变更单元，其根据所述水质测定单元的测定值，在将通水至第一反渗透膜装置且将第一反渗透膜装置的透过水通水至第二反渗透膜装置而得到透过水的管线、与将向第一反渗透膜装置及第二反渗透膜装置中的至少一者的通水旁通至旁通管线从而将向该至少一者的反渗透膜装置的通水进行截断的管线或者将第一反渗透膜装置及第二反渗透膜装置中的至少一者的浓缩水与透过水进行合流的管线之间进行变更。
水处理系统以及方法

[发明专利]纯水制造系统以及纯水制造方法-CN202180064366.3在审
发明人： 中村勇规;佐佐木庆介;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B01D61/12 文献下载
摘要：提供一种纯水制造系统以及纯水制造方法，能在实现处理水的水质的高纯度化的同时抑制制造成本的上升。纯水制造系统(1)包含反渗透膜装置(4)、配置于反渗透膜装置(4)的后级的电去离子水制造装置(5)以及对反渗透膜装置(4)的处理条件进行控制的控制装置(8)。控制装置(8)对反渗透膜装置(4)的处理条件进行控制，以使电去离子水制造装置(5)的特定的物质的去除率为阈值以下、且电去离子水制造装置(5)的处理水的特定的物质的浓度为规定值以下而电阻率为规定值以上。
纯水制造系统以及方法

[发明专利]水处理系统以及水处理方法-CN202080012978.3有效
发明人： 中村勇规 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-08-03 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：一种水处理系统，包括：对被处理水进行处理的反渗透膜装置(A)；对(A)的透过水进行处理的反渗透膜装置(E)；对装置(A)或装置(E)的浓缩水进行处理的反渗透膜装置(B)；对装置(E)或装置(A)的浓缩水进行处理的反渗透膜装置(C)；以及使装置(A～E)的浓缩水以及透过水分别向下游流通的各通水管线，能够切换各通水管线的连接，使得能够在使装置(E)的浓缩水向装置(B)流通而对装置(B)进行清洗的同时通过装置(C)对装置(A)的浓缩水进行处理，此外，能够在使装置(E)的浓缩水向装置(C)流通而对装置(C)进行清洗的同时通过装置(B)对装置(A)的浓缩水进行处理。
水处理系统以及方法

[发明专利]水处理装置、水处理方法、正渗透膜处理方法、正渗透膜处理系统及水处理系统-CN201980064798.7有效
发明人： 中村勇规;中野徹;泷口佳介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明提供能够以低成本处理含有溶解性二氧化硅和硬度成分中的至少1种的被处理水的水处理装置及水处理方法。一种水处理装置(1)，其对含有溶解性二氧化硅和硬度成分中的至少1种的被处理水进行处理，其具备：预处理装置(10)，其具备溶解性二氧化硅除去单元和硬度成分除去单元中的任一者；作为浓缩处理单元的反渗透膜处理装置(12)，上述浓缩处理单元对由预处理装置(10)得到的预处理水进行浓缩处理；以及正渗透膜处理装置(14)，其对由反渗透膜处理装置(12)得到的浓缩水进行正渗透膜处理，在预处理装置(10)中使用在正渗透膜处理装置(14)中使用过的稀释的驱动溶液。
水处理装置方法渗透处理系统

[发明专利]硼去除装置及方法、纯水制造装置以及纯水制造方法-CN202180034472.7在审
发明人：高桥一重;须藤史生;中村勇规;柴崎贤治;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：本发明提供一种降低被处理水中的硼浓度的硼去除装置及硼去除方法、降低了硼浓度的纯水的制造装置以及制造方法。本发明使用硼去除装置和使用该装置的硼去除方法，所述硼去除装置具有：第一电再生式去离子装置，其被供给被处理水；紫外线氧化装置，其被供给由所述第一电再生式去离子装置处理后的水；氧化物去除装置，其被供给由所述紫外线氧化装置处理后的水；以及第二电再生式去离子装置，其被供给由所述氧化物去除装置处理后的水。所述氧化物去除装置优选具备铂族金属催化剂，由所述氧化物去除装置处理后的水的过氧化氢浓度小于1ppb。
去除装置方法纯水制造以及

[发明专利]含低分子有机物的水的处理方法及处理系统-CN201780047216.5有效
发明人：高田明广;中村勇规 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种可以将含有低分子有机物的含低分子有机物水以高的截留率进行反渗透膜处理的含低分子有机物的水的处理方法及处理系统。本发明为一种含低分子有机物的水的处理方法，其包含将含有分子量200以下的低分子有机物的被处理水用反渗透膜进行处理的反渗透膜处理工序，反渗透膜为使含有溴系氧化剂和氨基磺酸化合物的稳定化次溴酸组合物与聚酰胺类的反渗透膜接触而进行了改性的膜。
分子有机物处理方法系统

[发明专利]反渗透膜处理系统和反渗透膜处理方法-CN201780067202.X有效
发明人： 中村勇规;高田明广 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：提供了一种反渗透膜处理系统和一种反渗透膜处理方法，用于通过两段以上反渗透膜进行处理，由此可以获得充分的水质改善效果。反渗透膜处理系统1设置有：第一反渗透膜处理装置12，其中，待处理的水通过第一反渗透膜以获得第一渗透水和第一浓缩水；和至少一个第二反渗透膜处理装置14，其中，第一渗透水通过第二反渗透膜以获得第二渗透水和第二浓缩水。第二反渗透膜的每1MPa有效压力的渗透通量低于第一反渗透膜的每1MPa有效压力的渗透通量，并且第二反渗透膜的每1MPa有效压力的渗透通量为0.5m3/m2/d以下。
反渗透处理系统方法

[发明专利]纯水制造装置及纯水的制造方法-CN202080020663.3在审
发明人： 中村勇规;高桥一重;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-02-13 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B01D61/08 文献下载
摘要：本发明提供使用RO‑EDI系统的新型的纯水制造装置。该纯水制造装置具备：第一反渗透膜装置，被供给被处理水；第二反渗透膜装置，被供给来自所述第一反渗透膜装置的透过水；电再生式去离子装置，被供给来自所述第二反渗透膜装置的透过水；盐水箱，被供给来自所述第一反渗透膜装置的浓缩水；和第三反渗透膜装置，与所述盐水箱连接，所述第二反渗透膜装置为高压型反渗透膜装置，向所述盐水箱供给选自由来自所述第二反渗透膜装置的浓缩水和来自所述电再生式去离子装置的浓缩水组成的组中的至少一种浓缩水，来自所述第三反渗透膜装置的透过水被供给到所述被处理水。
纯水制造装置方法

[发明专利]硼除去装置和硼除去方法、以及纯水制造装置和纯水的制造方法-CN202080020655.9在审
发明人：高桥一重;须藤史生;中村勇规;柴崎贤治;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-02-13 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： B01D61/44 文献下载
摘要：本发明提供一种由非处理水高效处理硼的装置和方法以及纯水制造装置和纯水的制造方法。本发明使用硼除去装置以及使用该装置的硼的除去方法，上述硼除去装置具有：低压型反渗透膜装置，其中，供给有被处理水；pH调整装置，其将来自上述低压型反渗透膜装置的透过水的pH调整为5.0～9.0；高压型反渗透膜装置，其中，供给有通过上述pH调整装置调整pH而得到的调整水；以及电去离子装置，其中，供给有来自上述高压型反渗透膜装置的透过水。优选来自上述高压型反渗透膜装置的透过水的钠浓度为200ppb以下，上述电去离子装置的处理水的硼浓度为50ppt以下。
除去装置方法以及纯水制造

[发明专利]反渗透膜的改性方法、反渗透膜、含硼水的处理方法以及分离膜的运行方法-CN201680011498.9有效
发明人：吉川浩;中村勇规 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2016-01-12 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： B01D71/56 文献下载
摘要：提供用于抑制反渗透膜的劣化、且改善反渗透膜的透过水质的反渗透膜的改性方法。一种反渗透膜的改性方法，使聚酰胺系反渗透膜与下述物质接触，所述物质为：溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物、和氨基磺酸化合物；或者，溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物、与氨基磺酸化合物的反应产物。
反渗透改性方法含硼水处理以及分离运行

[发明专利]纯水制造装置及其运转方法-CN201980074544.3在审
发明人：佐佐木庆介;日高真生;中村勇规 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明有效地利用无谓消耗的能量而实现节能。纯水制造装置(1)具有：膜过滤装置(2)，其具有将被处理水分离成透过水和浓缩水的反渗透膜或纳滤膜；水处理装置(3)，其处理被处理水、透过水以及浓缩水中的任一种；以及水力发电装置(5)，其设置于使来自膜过滤装置(2)的浓缩水流通的浓缩水管线(L3)，利用在浓缩水管线(L3)中流动的浓缩水的流动进行发电，将发电所得的电力供给到水处理装置(3)。
纯水制造装置及其运转方法

[发明专利]被处理水中的硼的去除方法、硼去除系统、超纯水制造系统以及硼浓度的测量方法-CN201980019974.5在审
发明人： 中村勇规;建持千佳 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2019-04-05 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：一种被处理水中的硼的去除方法，该硼去除方法包括：对所述被处理水进行反渗透膜处理的工序；对该反渗透膜处理的透过水的至少一部分进行阳离子去除处理的工序；以及测量该阳离子去除处理后的所述透过水中的硼浓度的工序，所述被处理水中的硼的去除方法中，基于所述硼浓度的测量值来控制如下(a)～(e)中的至少一个：(a)所述反渗透膜处理中的所述被处理水的回收率；(b)所述被处理水的温度；(c)所述被处理水的pH；(d)施加于所述反渗透膜处理的反渗透膜的所述被处理水的供给压力；以及(e)用于所述反渗透膜处理的反渗透膜的更换时期。
处理水中去除方法系统超纯水制造以及浓度测量方法

[发明专利]使用有反浸透膜的水处理系统及水处理方法-CN201780007732.5在审
发明人：铃木雄大;中村勇规;吉川浩 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2017-02-02 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理系统及水处理方法，其在使用2段以上的反浸透膜的水处理中，能够降低杀菌剂的添加量。本发明提供一种水处理系统及水处理方法，在至少使用第一段的第一反浸透膜装置(12)、及将第一反浸透膜装置(12)的透过水进行处理的第二段的第二反浸透膜装置(14)进行2段以上的反浸透膜处理的水处理系统(1)中，使第二段的第二反浸透膜装置(14)的浓缩水在第一段的第一反浸透膜装置(12)的供给水中循环而使用，在第二反浸透膜装置(14)的供给水中添加反浸透膜中的阻止率为70％以上的杀菌剂。
浸透膜装置水处理系统水处理杀菌剂水中膜处理浓缩水添加量透过水

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