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[发明专利]多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法-CN202211113618.X在审
发明人： 上羽亮介;广濑晓;伊佐治俊辅;西村理惠子 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止描绘精度的下降的多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法。本实施方式的多带电粒子束描绘方法具备：在对载置于连续移动的工作台上的基板照射包括多个带电粒子束的多束的期间中，进行跟踪动作以使上述多束的偏转位置追随于上述工作台的移动的工序；以及在上述跟踪动作中将上述多束的各束向上述基板的描绘区域被分割为网格状后的多个矩形区域分别照射的工序；在对上述矩形区域被以规定尺寸分割为网格状后的多个像素的至少一部分分别以第1发射顺序照射上述各束后，以与上述第1发射顺序不同的第2发射顺序照射上述各束。
带电粒子束描绘装置方法

[发明专利]图案形成方法以及使用其的蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件-CN201480043085.X有效
发明人： 上羽亮介;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法以及使用其的蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件，所述图案形成方法依次包括：(i)在基板上形成第1负型图案的步骤；(iii)在所述基板的未形成有所述第1负型图案的膜部的区域中，埋设含有第2树脂的树脂组合物(2)来形成下层的步骤；(iv)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(3)在所述下层上形成上层的步骤；(v)对所述上层进行曝光的步骤；(vi)使用包含有机溶剂的显影液对所述上层进行显影，而在所述第1负型图案的表面所形成的面上形成第2负型图案的步骤；以及(vii)将所述下层的一部分去除的步骤。该图案形成方法可形成具有各种形状的层叠结构的微细的图案。
图案形成方法以及使用蚀刻电子元件制造

[发明专利]图案形成方法和各自使用它的电子器件制造方法和电子器件-CN201380034450.6有效
发明人：山中司;井口直也;上羽亮介;山本庆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。
图案形成方法各自使用电子器件制造

[发明专利]图案形成方法以及各自使用所述图案形成方法的用于制备电子器件的方法和电子器件-CN201380031179.0有效
发明人：杉山真一;山中司;上羽亮介;百田淳 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-07-05 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。
图案形成方法以及各自使用用于制备电子器件

[发明专利]图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件-CN201580007419.2在审
发明人： 上羽亮介;井口直也;山中司;丹吴直纮;白川三千纮;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-02-04 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：一种图案形成方法包括：(i)在基板上依次进行下述步骤(i-1)、下述步骤(i-2)及下述步骤(i-3)，而形成第1负型图案的步骤，(i-1)在基板上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)来形成第1膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、(i-2)对第1膜进行曝光的步骤、(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第1膜进行显影，而形成第1负型图案的步骤；(iii)至少在第1负型图案上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)来形成第2膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂；(v)对第2膜进行曝光的步骤；以及(vi)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第2膜进行显影，至少在第1负型图案上形成第2负型图案的步骤。
图案形成方法蚀刻电子元件制造

[发明专利]图案形成方法，在其中使用的组合物，用于制造电子器件的方法以及电子器件-CN201380030755.X在审
发明人：山本庆;上羽亮介 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-06-12 - 公布日： 2015-02-18 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：图案形成方法包括：(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物(I)形成第一膜的步骤，(ii)将所述第一膜曝光的步骤，(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤，(iv)通过使用特定组合物(II)在所述负型图案上形成第二膜的步骤，(v)增加在所述第二膜中存在的所述特定化合物的极性的步骤，以及(vi)通过使用含有有机溶剂的移除剂移除所述第二膜的特定区域的步骤。
图案形成方法其中使用组合用于制造电子器件以及

[发明专利]图案形成方法、使用所述图案形成方法制造电子器件的方法，以及电子器件-CN201280029823.6有效
发明人： 上羽亮介 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-06-08 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在基板中形成孔图案的图案形成方法，所述图案形成方法包括图案形成步骤，所述形成步骤各自按顺序包括步骤(1)至(6)：(1)通过使用含有以下各项的化学增幅型抗蚀剂组合物在所述基板上形成抗蚀剂膜：(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂和(B)能够在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(2)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第一线-间隙潜像；(3)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第二线-间隙潜像；(4)通过使用含有机溶剂的显影液将所述抗蚀剂膜显影以在所述抗蚀剂膜中形成孔图案群；(5)对具有所述抗蚀剂膜的所述基板施加蚀刻处理；和(6)移除所述抗蚀剂膜。
图案形成方法使用制造电子器件以及

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