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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]显示装置的制造方法-CN202310312257.X在审
发明人：小龟平章;三村寿文 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式，显示装置的制造方法包括：在基板上形成包含第1下电极、第1上电极、和位于所述第1下电极与所述第1上电极之间的第1有机层的第1显示元件；形成覆盖所述第1显示元件的第1密封层；在所述第1密封层之上形成第1抗蚀剂；和通过包括使用含水的清洗液的所述基板的清洗的第1图案化工序，将所述第1密封层及所述第1显示元件中的从所述第1抗蚀剂露出的部分除去。
显示装置制造方法

[发明专利]显示装置及显示装置的制造方法-CN202310173566.3在审
发明人： 三村寿文;平田教行 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H10K50/844 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置及显示装置的制造方法。显示装置具备第1、第2下电极；有第1开口及第2开口的肋部；有在第1与第2开口之间配置在肋部上的下部、和配置在下部上并从下部的侧面突出的上部的隔壁；在第1开口处配置在第1下电极上包含第1发光层的第1有机层；在第2开口处配置在第2下电极上包含第2发光层的第2有机层；配置在第1有机层上并与隔壁的下部相接的第1上电极；配置在第2有机层上并与隔壁的下部相接的第2上电极；配置在第1上电极上方并与隔壁的下部相接的第1密封层；和配置在第2上电极上方并与隔壁的下部相接且与第1密封层分离的第2密封层，在第1下电极的正上方第1密封层的厚度为隔壁的下部的厚度的0.5倍以上小于2倍。
显示装置制造方法

[发明专利]显示装置-CN202310152982.5在审
发明人： 三村寿文;小龟平章;福田加一;武田笃;平田教行 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H10K50/844 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置。具备：第1、第2下电极；肋部，具有第1开口及第2开口；隔壁，具有在第1、第2开口之间配置在肋部之上的下部和配置在下部之上并从下部的侧面突出的上部；第1有机层，在第1开口中配置在第1下电极之上，包含第1发光层；第2有机层，在第2开口中配置在第2下电极之上，包含第2发光层；第1上电极，配置在第1有机层之上并与隔壁的下部相接；第2上电极，配置在第2有机层之上并与隔壁的下部相接；第1密封层，配置在第1上电极的上方，与隔壁的下部相接并向隔壁的上部之上延伸出；与第1密封层分离的第2密封层，配置在第2上电极的上方，与隔壁的下部相接并向隔壁的上部之上延伸出。
显示装置

[发明专利]显示装置的制造方法-CN202310083077.9在审
发明人： 三村寿文;小龟平章;石田有亲;福田加一 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式，在显示装置的制造方法中，准备在基板的上方形成有下电极、肋部和包含下部及上部的隔壁的处理基板，形成覆盖下电极的第1有机层、和与第1有机层分离并位于上部之上的第2有机层，形成位于第1有机层之上并与下部相接的第1上电极、和与第1上电极分离并位于第2有机层之上的第2上电极，形成位于第1上电极和第2上电极的上方并覆盖隔壁的封固层，形成覆盖封固层的一部分的抗蚀剂，以抗蚀剂为掩模进行各向异性干式蚀刻，减小从抗蚀剂露出的封固层的膜厚，以抗蚀剂为掩模，使用氟系气体与氧的混合气体进行各向同性干式蚀刻，将从抗蚀剂露出的封固层除去。
显示装置制造方法

[发明专利]显示装置的制造方法-CN202310067035.6在审
发明人：小龟平章;三村寿文;福田加一 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H10K50/805 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式，在显示装置的制造方法中，准备在基板的上方形成有下电极、肋部和包含下部及上部的隔壁的处理基板，形成覆盖所述下电极的第1有机层、和与所述第1有机层分离并位于所述上部之上的第2有机层，形成覆盖所述第1有机层并与所述下部相接的第1上电极、和与所述第1上电极分离并位于所述第2有机层之上的第2上电极，形成所述第1上电极、和位于所述第2上电极之上的封固层，形成覆盖所述封固层的一部分的抗蚀剂，以所述抗蚀剂为掩模进行各向异性干式蚀刻，减小从所述抗蚀剂露出的所述封固层的膜厚，以所述抗蚀剂为掩模进行各向同性干式蚀刻，将从所述抗蚀剂露出的所述封固层除去。
显示装置制造方法

[发明专利]阻气性层合体及其制备方法、电子器件用部件以及电子器件-CN201910180189.X有效
发明人： 三村寿文;铃木悠太;永绳智史 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2015-06-02 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明涉及阻气性层合体、其制备方法、由所述阻气性层合体构成的电子器件用部件和具备该电子器件用部件的电子器件，所述阻气性层合体具有：具有基材和改性促进层的基材单元，和在所述基材单元的改性促进层一侧形成的阻气层；所述阻气性层合体的特征在于：所述改性促进层在23℃下的弹性模量低于30GPa，所述基材单元在温度为40℃、相对湿度为90%下的水蒸气透过率为1.0g/(m2·天)以下，所述阻气层是对在所述基材单元的改性促进层一侧形成的含有聚硅氮烷系化合物的层的表面实施改性处理而形成的层。根据本发明，可提供阻气性和耐弯曲性优异的阻气性层合体等。
气性合体及其制备方法电子器件部件以及

[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法-CN201610207664.4有效
发明人： 三村寿文;佐藤敏浩 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2016-04-05 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置和显示装置的制造方法。本发明提供简化制造工序且可靠性高的显示装置。显示装置具备：像素电极，其针对多个像素中的每一个设有；公共像素电极，其被多个像素中的每一个共用，并设于像素电极之上；有机层，其设于各像素电极与公共像素电极之间；第一绝缘层，其设于公共像素电极之上；公共电位线，其在第一绝缘层、公共像素电极和有机层层叠起来区域，设于比有机层靠下层的位置；接触电极，其设于在公共电位线之上，贯穿第一绝缘层、公共像素电极和有机层的开孔部；第二绝缘层，其覆盖第一绝缘层和接触电极。
显示装置制造方法

[发明专利]阻气性层合体及其制备方法、电子器件用部件以及电子器件-CN201580029504.9有效
发明人： 三村寿文;铃木悠太;永绳智史 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2015-06-02 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明涉及阻气性层合体、其制备方法、由所述阻气性层合体构成的电子器件用部件和具备该电子器件用部件的电子器件，所述阻气性层合体具有：具有基材和改性促进层的基材单元，和在所述基材单元的改性促进层一侧形成的阻气层；所述阻气性层合体的特征在于：所述改性促进层在23℃下的弹性模量低于30GPa，所述基材单元在温度为40℃、相对湿度为90%下的水蒸气透过率为1.0g/(m²·天)以下，所述阻气层是对在所述基材单元的改性促进层一侧形成的含有聚硅氮烷系化合物的层的表面实施改性处理而形成的层。根据本发明，可提供阻气性和耐弯曲性优异的阻气性层合体等。
气性合体及其制备方法电子器件部件以及

[发明专利]金属氢氧化物的制造方法及ITO溅射靶的制造方法-CN201380026827.3无效
发明人：藤丸笃;三村寿文;门胁丰;虫明克彦 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2013-04-16 - 公布日： 2015-02-04 - 主分类号： C25B1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种无需进行电解液的废液处理，可得到与所需粒径一致的金属氢氧化物的高效批量生产金属氢氧化物的制造方法及ITO靶的制造方法。电解槽1内设置有层压疏水性的气体扩散层(20a)和亲水性的反应层(20b)而构成的气体扩散电极(20)，以在该电解槽内分区。在朝向分区后的电解槽的反应层的沉降槽(11)内放入电解液(S)，将铟(4)浸渍在电解液中。以气体扩散电极为阴极，以铟为阳极，在两电极间施加电压，且对朝向分区后的电解槽的气体扩散层的空气槽(10)内供氧并电解，使电解液中析出氢氧化铟。
金属氢氧化物制造方法 ito 溅射

[发明专利]光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法-CN201010298454.3有效
发明人：谷典明;中村久三;清田淳也;铃木寿弘;三村寿文 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2010-09-29 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。
光掩模坯光掩模以及制造方法

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