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- [发明专利]专治起沫的大桶清洗剂-CN202011385551.6有效
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李帅谕;李学忠
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李帅谕
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2020-12-01
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2022-01-25
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C11D1/28
- 本发明涉及大桶清洗技术领域，尤其涉及专治起沫的大桶清洗剂，解决了现有技术中清洗剂也很难对塑料桶、铁桶进行有效的清洗，解决其起沫情况，且清洗剂的有效保存时间短暂的缺点，包括消泡剂、附着剂、第二溶剂及第一溶剂，所述消泡剂包括油性消泡剂，所述第一溶剂包括醋酸乙酯、碳酸酯、甲基椰油酰基牛磺酸钠、二甲基硅油、对香豆酸及水，所述第二溶剂包括二甲苯、甲醇及水。本发明利用组合使用，分隔放置的形式进行消泡剂、附着剂、第一溶剂及第二溶剂的存储，间接的提高该大桶清洗剂的有效保存时间，且利用对香豆酸降低第一溶剂的自身内部缓慢反应，对香豆酸可有效的利用第二溶剂来促进反应，提高保存时间的同时，加速清洗剂的反应速率。
- 专治大桶洗剂
- [发明专利]一种去胶液及其制备方法与应用-CN201810958228.X有效
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舒军
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江西宝盛半导体能源科技有限公司
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2018-08-22
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2021-02-05
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C11D1/28
- 本发明涉及半导体工业用清洗剂领域，尤其涉及一种去胶液及其制备方法与应用。该去胶液包括醇胺化合物、无机碱、水溶性有机溶剂、海藻糖、苯并三唑、渗透剂和水，上述去胶液配方合理，不易挥发，能完全去除光刻胶且不会腐蚀半导体基材。其制备方法包括：依次称取上述配方量的各原料组分，利用气动隔膜泵传送到反应釜中，经过定时循环搅拌使各原料组分混合均匀，采用精密过滤器过滤后即得，经检验合格后利用精密自动灌装机进行灌装。该制备方法全程自动化，不会引入杂质和污染，将其用于去除半导体基材上的光刻胶及其残留物，能达到很好的去除效果，不会对半导体基材产生腐蚀。
- 一种去胶液及其制备方法应用
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