专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种改良的液体制版机-CN201020026351.7无效
  • 刘后来 - 刘后来
  • 2010-01-08 - 2010-11-03 - B41D7/02
  • 本实用新型涉及一种改良的液体制版机,包括机体和安装有上盖的支架,述支架两侧分别通过轴承安装在机体内横向设置的水平转轴的两端,所述转轴一端伸出所述支架,其端部设置有一手柄;转轴上固设有凸轮,凸轮抵靠在固设在其下侧的支撑座上,所述机体与支架之间设有锁紧装置,当上盖盖在机体上后,正方向转动手柄,锁紧装置将支架与机体锁合在一起;当制版完成后,如果工作人员在掀开上盖时忘记反方向转动手柄,则锁紧装置依然处于锁合状态,阻止支架转动,无法将上盖掀开。因此,如果需要掀开上盖,必须反方向转动手柄,使得支架与机体脱离锁合状态,同时使上盖上移,从而增大上、下玻璃之间的间隙,避免了上、下玻璃相撞,起到了保护作用。
  • 一种改良液体制版机
  • [发明专利]纳米级电子光刻-CN200580002142.0无效
  • 陈勇 - 加利福尼亚大学董事会
  • 2005-01-12 - 2008-02-13 - B41D7/00
  • 一种纳米级光刻方法,其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上,该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时,在邻近掩模的导电区域的部分中,改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案,对衬底表面进行选择性处理,改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底,或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中,施加电荷的电极可以分为例如多个行和列,其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。
  • 纳米电子光刻
  • [实用新型]树脂版表面乳凸结构改良-CN200320127922.6无效
  • 张百辰 - 胜华科技股份有限公司
  • 2003-12-12 - 2005-07-27 - B41D7/00
  • 本实用新型公开了一种树脂版表面乳凸结构改良,其系于树脂版的表面成型多数规则排列的乳凸,各乳凸系与树脂版的轴线成平形排列,且任相邻三点的乳凸成三点等距排列,使任相邻二点的乳凸间的距离相等,以供各乳凸之间形成一含墨空间,而任相邻二点的乳凸间的位置形成较浅部份的含墨空间,任相邻三点的乳凸的重心位置则形成较深部份的含墨空间,各较浅部份的含墨空间的深度皆相同,但小于较深部份的含墨空间的深度。
  • 树脂表面结构改良
  • [实用新型]全封闭式铣版机-CN90225135.X无效
  • 谢仁隆 - 谢仁隆
  • 1990-12-22 - 1992-01-01 - B41D5/00
  • 本实用新型公开了一种带有全封闭装置的铣版机,是一种印刷制版机械,采用了在工作台2的两侧或四周加装动防护板9,在铣头7外壳上加装横梁10,横梁上装有两个盖11,两端装挡板12构成密闭的防护装置,解决了传统铣版机铣屑飞溅和飞版事故造成伤害的缺陷。具有构造简单、防护性能好的优点,适用各种单臂或龙门铣版机。
  • 封闭式铣版机
  • [实用新型]双向定位装版仪-CN90224884.7无效
  • 谢仁隆 - 谢仁隆
  • 1990-12-13 - 1991-10-16 - B41D5/00
  • 本实用新型公开了一种可以双向定位的装版仪,是一种印刷器材。其特征是在纵、横向导轨的一侧安装与纵、横导轨平行的杆,杆上装有纵、横定位块,利用定位块与纵横滑块的位置配合变化实现纵、横向定位、解决了传统装版仪靠肉眼定位效率低、误差大的缺陷。本实用新型的构造简单、装版效率高,准确性好又不损伤导轨,可广泛用于各种规格的印刷装版上。
  • 双向定位装版仪

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