[发明专利]基于共腔罗特曼透镜的毫米波十字扫描多波束阵列天线有效
申请号: | 202210236223.2 | 申请日: | 2022-03-11 |
公开(公告)号: | CN114512824B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 肖烁;班永灵;连继伟 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01Q21/00 | 分类号: | H01Q21/00;H01Q1/38 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 甘茂 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 共腔罗特曼 透镜 毫米波 十字 扫描 波束 阵列 天线 | ||
1.基于共腔罗特曼透镜的毫米波十字扫描多波束阵列天线,其特征在于,所述毫米波十字扫描多波束阵列天线采用由下层贴片、中层介质板与上层贴片构成的罗特曼透镜天线结构,所述毫米波十字扫描多波束阵列天线的拓扑结构由两组完全相同的子网络构成,每组子网络由馈源轮廓、透镜腔体、内阵列轮廓、波导传输线与外阵列轮廓组成,两组子网络正交设置、并于透镜腔体处构成封闭的共腔罗特曼透镜。
2.根据权利要求1所述基于共腔罗特曼透镜的毫米波十字扫描多波束阵列天线,其特征在于,所述共腔罗特曼透镜的透镜轮廓满足约束方程:
其中,F表示轴外焦距,L表示外阵列轮廓的长度,ηmax表示归一化处理后外阵列轮廓上的辐射单元天线到水平坐标轴的垂直距离的最大值;表示馈源轮廓上边缘与下边缘的垂直距离,表示内阵列轮廓上边缘与下边缘的垂直距离,C表示馈源轮廓下边缘与内阵列轮廓下边缘的水平距离。
3.根据权利要求1所述基于共腔罗特曼透镜的毫米波十字扫描多波束阵列天线,其特征在于,所述下层贴片、中层介质板与上层贴片从下往上依次层叠设置,所述下层贴片上对应每一组子网络的输入端分别设置有相同结构的过渡贴片,所述上层贴片上对应每一组子网络的输出端分别开设有相同结构的开槽辐射阵列。
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