[实用新型]一种用于滤光片生产的掩膜有效
申请号: | 202121468329.2 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN215181390U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 徐志根;范文生;闫志华 | 申请(专利权)人: | 北京同生科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 刘艳 |
地址: | 100000 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 滤光 生产 | ||
一种用于滤光片生产的掩膜,涉及掩膜技术领域,包括掩膜本体、定位分隔块、一号彩色单元和二号彩色单元;掩膜本体上设置多组凹槽单元;定位分割块设置在凹槽单元上,定位分割块侧面设置有反光层;一号彩色单元和二号彩色单元设置在凹槽单元上,且位于定位分割块反光层的周围。本实用新型通过在掩膜本体上设置定位分割块,提高掩膜在滤光片制作时,与彩色曝光片之间的定位效果;在定位分割块的侧面设置反光层,提高一号彩色单元和二号彩色单元的显色效果;定位分割块的最高处高于掩膜本体,保证了一号彩色单元和二号彩色单元不受磨损,提高掩膜的使用寿命。
技术领域
本实用新型涉及掩膜技术领域,尤其涉及一种用于滤光片生产的掩膜。
背景技术
滤光片是用来选取所需辐射波段的光学器件。滤光片的一个共性,就是没有任何滤光片能让天体的成像变得更明亮,因为所有的滤光片都会吸收某些波长,从而使物体变得更暗。为了保证彩色滤光片相邻的面板不与彩色滤光片接触,且保证与彩色滤光片相隔的距离相同,在制作彩色滤光片的过程中引入PS,柱状隔垫物位于彩色滤光片保护层一侧,用于支撑与彩色滤光片相邻的面板,使之不与彩色滤光片接触,且保证了显示器面板的厚度均匀,决定产品的最终品质和质量。
现有的掩膜的PS单元设置在提高彩色单元和滤光片的定位效果上性能欠佳;PS单元也可能导致彩色单元的反光效果较差,同时PS单元会导致彩色单元在滤光片制作过程中产生磨损,导致带有PS单元的掩膜实用性较差。
实用新型内容
(一)实用新型目的
为解决背景技术中存在的技术问题,本实用新型提出一种用于滤光片生产的掩膜,通过在掩膜本体上设置定位分割块,提高掩膜在滤光片制作时,与彩色曝光片之间的定位效果;在定位分割块的侧面设置反光层,提高一号彩色单元和二号彩色单元的显色效果;定位分割块的最高处高于掩膜本体,保证了一号彩色单元和二号彩色单元不受磨损,提高掩膜的使用寿命。
(二)技术方案
本实用新型提供了一种用于滤光片生产的掩膜,包括掩膜本体、定位分隔块、一号彩色单元和二号彩色单元;掩膜本体上设置多组凹槽单元;定位分割块设置在凹槽单元上,定位分割块侧面设置有反光层;一号彩色单元和二号彩色单元设置在凹槽单元上,且位于定位分割块反光层的周围。
优选的,一号彩色单元和二号彩色单元对应不同滤光色彩。
优选的,定位分割块的最高处位于掩膜本体的表面层上方。
优选的,掩膜本体采用柔软塑性材料。
优选的,掩膜本体设置在掩膜面板上。
优选的,掩膜面板设置为金属材料或塑性材料。
优选的,一号彩色单元设置多组,多组一号彩色单元分别设置在定位分割块的两端。
优选的,二号彩色单元设置多组,多组二号彩色单元分别设置在定位分割块的两端。
优选的,一号彩色单元和二号彩色单元间隔设置。
与现有技术相比,本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果:通过在掩膜本体上设置定位分割块,提高掩膜在滤光片制作时,与彩色曝光片之间的定位效果;在定位分割块的侧面设置反光层,提高一号彩色单元和二号彩色单元的显色效果;定位分割块的最高处高于掩膜本体,保证了一号彩色单元和二号彩色单元不受磨损,提高掩膜的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于滤光片生产的掩膜一种实施例的结构示意图。
图2为本实用新型提出的一种用于滤光片生产的掩膜一种实施例的局部结构示意图。
附图标记:1、掩膜本体;2、凹槽单元;3、定位分割块;4、一号彩色单元;5、二号彩色单元。
具体实施方式
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备