[发明专利]一种用于绝缘子的清洗装置和清洗系统

权利要求书

1.一种用于绝缘子的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括底座、弧形弹片和围绕所述底座设置的围板，其中：

所述弧形弹片包括固定设于所述底座的第一弧形片和第二弧形片，所述第一弧形片和所述第二弧形片之间形成喷射通道；

所述围板的内侧壁上设有用于挤压第一弧形片和/或第二弧形片的凸起结构，所述围板可旋转设于所述底座上，所述底座的底部设有连通所述喷射通道的进液通道，且所述底座或围板被旋转至预设位置时，所述凸起结构挤压所述第一弧形片和/或挤压所述第二弧形片。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一弧形片的凸面朝向所述围板的内侧壁，所述第二弧形片的凸面朝向所述第一弧形片的凹面。

3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括固定于所述第一弧形片和/或所述第二弧形片的支撑件，所述底座被旋转至预设位置时，所述凸起结构用于通过所述支撑件挤压相应的弧形片。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述凸起结构包括第一凸起和第二凸起，所述第一凸起和第二凸起，分别与所述第一弧形片和第二弧形片对应设置，所述第一凸起与所述支撑件挤压的一侧为内凹弧形面；所述第二凸起与所述支撑件挤压的一侧为内凹弧形面。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，

从所述清洗装置的俯视方向看，沿顺时针方向，所述第一凸起与相应支撑件挤压的一侧，与所述围板中心轴的距离逐渐减小，所述第二凸起与相应支撑件挤压的一侧，与所述围板中心轴的距离逐渐减小；

或者，

从所述清洗装置的俯视方向看，沿顺时针方向，所述第一凸起与相应支撑件挤压的一侧，与所述围板中心轴的距离先逐渐减小后逐渐增大，所述第二凸起与相应支撑件挤压的一侧，与所述围板中心轴的距离先逐渐减小后逐渐增大。

6.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述第一凸起和所述第二凸起的外形相同，其中：

所述第一凸起、所述第二凸起呈中心对称设置在所述围板的内侧壁上。

7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述内侧壁为圆柱形，所述底座为圆柱形，所述进液通道设于所述底座的中心。

8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一弧形片和第二弧形片一体形成，所述第一弧形片和所述第二弧形片之间的连接端上设有开孔；

所述底座上还设有与所述喷射通道连通的喷嘴，所述喷嘴伸入所述开孔中，且所述喷嘴位于所述喷射通道内。

9.根据权利要求3-8任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑件包括垂直固定设于所述第一弧形片上的第一支撑件，以及垂直固定设于所述第二弧形片上的第二支撑件。

10.一种清洗系统，其特征在于，所述清洗系统包括权利要求1-9任一项所述的清洗装置。