[发明专利]一种在金属件微区域上制备含硅防腐涂层的方法

权利要求书

1.一种在精密元件的金属件微区域上制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

（1）将含硅有机物溶于乙醇溶液中得到前驱体溶液，备用；

（2）将金属件清洗后，用滤纸吸干表面水分，浸渍在步骤（1）制备的前驱体溶液中5-30min后，取出金属件，放置在通风橱中自然干燥，得到金属基底，备用；

（3）将步骤（2）制备的金属基底置于等离子体装置中，进行放电处理，得到防腐涂层；

所述步骤（1）中的前驱体中含硅有机物的体积浓度为0.1%~2%，所述乙醇溶液中乙醇的浓度为75%；所述步骤（2）中清洗使用超声波清洗机，超声时间10-30min；

所述步骤（3）中的等离子体装置包括：氩气瓶（1），三维移动装置（2），等离子体电源（3）和微电极（6）；

所述氩气瓶（1）通过流量调节阀与三维移动装置（2）连接，三维移动装置（2）上固定有微电极（6）；

所述的微电极（6）的直径为0.5~4 mm；

利用所述步骤（3）中的等离子体装置进行涂膜的步骤为：

将微电极（6）固定在三维移动装置（2）上，将金属基底（4）放在三维移动装置的配套底板（5）上，设置微电极（6）功率参数，设置三维移动装置（2）的移动方式，用三维移动装置（2）将微电极（6）移动到金属基底（4）的上方，打开氩气瓶（1）通氩气，利用流量调节阀调节流量，打开等离子体电源（3），进行放电处理，得到防腐涂层。

2.根据权利要求1所述制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述金属件为铸铁、无锡青铜、碳素钢、碳锰钢、镍钢、锰钼钢、铜锌合金、铜锡合金、铝合金、钛合金、镁合金中的一种。

3.根据权利要求1所述制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述步骤（1）中的含硅有机物为双（二甲基氨基）二甲基硅烷、十三氟代正辛基硅烷、四甲氧基硅氧烷、四乙氧基硅氧烷、六甲基二硅氧烷、四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、六甲基二硅氨烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、乙烯基三乙氧基硅烷、三甲氧基氢硅氧烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、三乙基乙烯基硅烷、六乙基环三硅氧烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、苯基三(三甲基硅氧烷基)硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、三苯基氯硅烷、甲基乙烯基二氯硅烷、三氟丙基三氯硅烷、三氟丙基甲基二氯硅烷、二甲基苯基氯硅烷、三丁基氯硅烷、苄基二甲基氯硅烷、六甲基二硅烷基胺、六甲基环三硅烷氨基、六甲基二硅氮烷、六甲基二硅醚中的一种。

4.根据权利要求1所述制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述微电极（6）功率参数为5-20w；所述三维移动装置（2）的移动方式为普通移动；所述调节流量是指调节流量为60%。

5.根据权利要求1所述制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述的微电极（6）位于金属基底（4）上方1~3 mm处。

6.根据权利要求1所述制备含硅防腐涂层的方法，其特征在于，所述放电处理时间为1~15 min。