[发明专利]六孔球腔辐射驱动源确定方法和系统有效
申请号: | 202110367449.1 | 申请日: | 2021-04-06 |
公开(公告)号: | CN113284635B | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 蓝可;曹辉;陈耀桦 | 申请(专利权)人: | 北京应用物理与计算数学研究所 |
主分类号: | G21C17/00 | 分类号: | G21C17/00;G21B1/03 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 李莉丽;王琦 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 六孔球腔 辐射 驱动 确定 方法 系统 | ||
1.一种六孔球腔辐射驱动源确定方法,其特征在于,包括:
采用不含靶丸的六孔球腔,通过实验测取激光注入孔随时间及频率演化的缩孔行为、测取缩孔区等离子体的随时间及频率演化的辐射能流信息;所述六孔球腔为一球形腔体,且具有对应所述球形腔体一内接正六面体的面中心的六个激光注入孔;
采用不含靶丸的六孔球腔,通过实验获取随时间及频率演化的光斑形貌、光斑区随时间及频率演化的辐射能流信息,以及获取非光斑区随时间及频率演化的辐射能流信息;
利用所测光斑区、非光斑区、激光注入孔缩孔区的辐射能流信息以及所测随时间及频率演化的光斑形貌,并根据六孔球腔的尺寸,确定六孔球腔腔壁上各点的辐射能流;根据六孔球腔腔壁上各个点的辐射能流以及设定的虚拟靶丸的尺寸,计算得到六孔球腔内虚拟靶丸所感受到的辐射能流信息;并根据不同时间、不同频率上虚拟靶丸上辐射能流的最大值、最小值以及对空间平均的平均辐射能流,得到随时间和频率演化的虚拟靶丸的辐照不均匀度;其中,不同时间、不同频率上虚拟靶丸上的平均辐射能流根据光斑区、非光斑区、激光注入孔缩孔区随时间及频率演化的单位面积的辐射能流信息及其作为权重使用的对靶丸所张立体角进行加权求和计算得到;
根据球虚拟靶丸所感受到的辐射能流信息、腔壁的反照率、黑腔腔壁面积、激光注入孔面积、靶丸的反照率以及靶丸面积计算加了靶丸后球腔中的辐射能流与不加靶丸之前球腔中的辐射能流之比,得到辐射能流降比;所述靶丸位于所述六孔球腔的中心;
利用所述辐射能流降比以及虚拟靶丸所感受到的辐射能流信息及辐照不均匀度,得到六孔球腔中点火靶丸所感受的辐射驱动源。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用不含靶丸的六孔球腔,通过实验测取激光注入孔随时间及频率演化的缩孔行为、测取缩孔区等离子体的随时间及频率演化的辐射能流信息,包括:
将第一诊断设备放置于不含靶丸的六孔球腔的两个正对的激光注入孔中心连线上,通过实验测取激光注入孔随时间及频率演化的缩孔行为;将第二诊断设备放置于不含靶丸的六孔球腔的两个正对的激光注入孔中心连线上,通过实验测取缩孔区等离子体的随时间及频率演化的辐射能流信息。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用不含靶丸的六孔球腔,通过实验获取随时间及频率演化的光斑形貌、光斑区随时间及频率演化的辐射能流信息,以及获取非光斑区随时间及频率演化的辐射能流信息,包括:
采用不含靶丸的六孔球腔,将一个或两个第三诊断设备放置在六孔球腔外的不同设定位置,不同设定位置的第三诊断设备用于从不同的观测角度经由激光注入孔分别观测球腔内部没有被激光注入孔缩孔区等离子体遮挡的无遮挡光斑区的辐射场、被激光注入孔缩孔区等离子体遮挡的被遮挡光斑区的辐射场,通过实验测取随时间及频率演化的光斑形貌、无遮挡光斑区和被遮挡光斑区的随时间及频率演化的辐射能流信息;
采用不含靶丸的六孔球腔,将至少一个第四诊断设备放置在六孔球腔外的不同设定位置,不同设定位置的第四诊断设备用于从不同的观测角度经由激光注入孔分别观测球腔内部没有被激光注入孔缩孔区等离子体遮挡的无遮挡非光斑区和被激光注入孔缩孔区等离子体遮挡的被遮挡非光斑区的辐射场,通过实验测取非光斑区随时间及频率演化的辐射能流信息。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用不含靶丸的六孔球腔,通过实验获取随时间及频率演化的光斑形貌,包括:
将一个第三诊断设备设置在六孔球腔外的设定位置,通过所述设定位置的第三诊断设备从设定的观测角度经由激光注入孔测取球腔内部随时间及频率演化的光斑形貌;或者
将两个第三诊断设备设置在六孔球腔外的不同设定位置,通过不同设定位置的第三诊断设备从不同的观测角度经由激光注入孔分别测取球腔内部随时间及频率演化的两类光斑形貌。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述通过所述设定位置的第三诊断设备从设定的观测角度经由激光注入孔测取球腔内部随时间及频率演化的光斑形貌为:通过所述设定位置的第三诊断设备从设定的观测角度经由一设定的异形激光注入孔测取球腔内部随时间及频率演化的光斑形貌。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京应用物理与计算数学研究所,未经北京应用物理与计算数学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110367449.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。