[发明专利]一种培养装置

说明书

本申请实施例公开了一种培养装置。所述培养装置包括基底，所述基底表面包括至少两个培养区域，所述培养区域用于粘附培养物；所述培养区域内部的粗糙度与所述培养区域外部的粗糙度不同，以使得所述培养区域内部对培养物的粘附亲和力大于所述培养区域外部。

技术领域

本申请涉及生物培养技术领域，特别涉及一种培养装置。

背景技术

随着现代社会的不断发展，生物(如细胞、细菌、病毒等)的体外培养技术越来越受到人们的重视。以细胞为例，细胞培养是细胞生物学研究方法中重要和常用技术，通过细胞培养既可以获得大量细胞，又可以借此研究细胞的信号转导、细胞的合成代谢、细胞的生长增殖等。

发明内容

本申请实施例之一提供一种培养装置，包括基底，所述基底表面包括至少两个培养区域，所述培养区域用于粘附培养物；所述培养区域内部的粗糙度与所述培养区域外部的粗糙度不同，以使得所述培养区域内部对培养物的粘附亲和力大于所述培养区域外部。

在一些实施例中，所述基底表面具有亲水性，所述培养区域内部的粗糙度大于所述培养区域外部的粗糙度。

在一些实施例中，所述培养区域内部经过打磨处理或刻蚀处理，以使得所述培养区域内部的粗糙度大于所述培养区域外部的粗糙度。

在一些实施例中，所述刻蚀处理包括软刻蚀技术、激光刻蚀、等离子体刻蚀、电子束刻蚀和/或化学刻蚀。

在一些实施例中，所述培养区域内部表面具有亚微米至纳米级别的规整结构。

在一些实施例中，所述基底表面具有疏水性，所述培养区域内部的粗糙度大于所述培养区域外部的粗糙度，且所述培养区域内部表面具有亚微米至纳米级别的规整结构。

在一些实施例中，所述基底表面具有疏水性，所述培养区域内部的粗糙度小于所述培养区域外部的粗糙度，且所述培养区域外部表面为非规整结构。

在一些实施例中，所述培养区域外部经过打磨处理，以使得所述培养区域内部的粗糙度小于所述培养区域外部的粗糙度。

在一些实施例中，所述基底的材料为亲水材料。

在一些实施例中，所述培养区域内部经过改性处理，改性处理后的所述培养区域内部的亲水性强于所述培养区域外部，所述改性处理包括等离子体处理、射线辐照处理和/或电晕处理。

在一些实施例中，所述基底的材料为疏水材料。

在一些实施例中，所述培养区域内部经过改性处理，改性处理后的所述培养区域内部具有亲水性，所述改性处理包括等离子体处理、射线辐照处理和/或电晕处理。

在一些实施例中，所述基底的材料包括以下中的至少一种：玻璃、石英、硅、云母、PS、PMMA、PSU、PC、PP、PE、PETG、LDPE、HDPE、PET、PVDF、PTFE、PEG、PEO、PPG、PLA、PGA、PLGA、PDMS、PVA、COC、COP、PMP、苯乙烯/丁二烯共聚物、苯乙烯/丙烯腈共聚物、乙酸纤维素、硝酸纤维素、甲基丙烯酸羟乙酯、聚醚砜、双烯丙基二甘醇聚合物或尼龙66。

在一些实施例中，所述基底表面经亲水性物质或基团改性，所述亲水性物质或基团包括以下中的至少一种：胶原蛋白、纤粘连蛋白、层粘连蛋白、聚赖氨酸、明胶、透明质酸、壳聚糖、RGD多肽、DNA、赖氨酸、金属金、羟基、羧基、羰基、氨基、巯基、磺酸基、磷酸基、季铵基、醚键、羧酸酯、酰胺基或嵌段聚醚。

在一些实施例中，所述基底表面经疏水性物质或基团改性，所述疏水性物质或基团包括以下中的至少一种：白蛋白、含有双键的烃基、聚氧丙烯基、长链全氟烷基、聚硅氧烷基，或者含有芳基、酯、醚、胺或酰胺基团的烃基。

在一些实施例中，所述培养区域内部经过亲水性物质或基团改性。