[发明专利]太赫兹光量纳米瓷贴在审

专利信息
申请号: 202110309938.1 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN112876208A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 姜炳聿 申请(专利权)人: 姜炳聿
主分类号: C04B33/04 分类号: C04B33/04;C04B33/13;C03C8/14;C03C8/04;E04F13/14;E04F15/08
代理公司: 北京东灵通专利代理事务所(普通合伙) 61242 代理人: 李金豹
地址: 301700 天津市红*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 赫兹 纳米
【说明书】:

发明涉及瓷贴技术领域,具体涉及一种太赫兹光量纳米瓷贴,其包括:纳米光量聚能瓷主体,所述纳米光量聚能瓷主体顶部表面设有瓷釉层;所述纳米光量聚能瓷主体底部中央设有凹槽,所述凹槽内嵌设有太赫兹聚能芯片。本发明凭借太赫兹光量纳米聚能技术对所应用区域进行光波粒量加载,从而达到活化、离子化的效果,进而促进人体能量元素转化与摄入,并且其具有50年的光波粒量功能特性。

技术领域

本发明涉及瓷贴技术领域,具体涉及一种太赫兹光量纳米瓷贴。

背景技术

瓷片是一种陶质品,主要应用在装饰用途,由于其釉面配方种类的限制,按光泽来分类通常有亮光和亚光两种光泽效果,其中亮光釉面的光泽度在90-98°之间,亚光釉面的光泽度在10-30°之间。瓷片亮光产品目前市场上占主流,但柔光釉面产品因其平滑而不光亮慢慢受到广大消费者的喜爱。柔光釉面砖是相对于抛光砖而言的,柔光釉面砖能使照射到其表面的光产生散射效果,降低产品的反光率,使产品的质感更柔和、光感细腻润泽。另外传统的瓷片一般都仅用于装饰意义,功能比较单一,并且在装饰环境以及佩戴过程中,对人体没有任何保健效果。

发明内容

本发明提供一种太赫兹光量纳米瓷贴,凭借太赫兹光量纳米聚能技术对所应用区域进行光波粒量加载,从而达到活化、离子化的效果,进而促进人体能量元素转化与摄入,并且其具有50年的光波粒量功能特性。

为了达到上述目的,本发明提供如下技术方案:一种太赫兹光量纳米瓷贴,其包括:纳米光量聚能瓷主体,所述纳米光量聚能瓷主体顶部表面设有瓷釉层;所述纳米光量聚能瓷主体底部中央设有凹槽,所述凹槽内嵌设有太赫兹聚能芯片。

优选的,所述纳米光量聚能瓷主体按重量份计算,包括:硅酸锆8-15份,氧化锌1-5份,碧玺纳米粉8-20份,高岭土50-60份,钾长石20-35份,硅灰石10-20份,白云石2-5份;所述纳米光量聚能瓷主体还包括水,并且水与所述柔光砖面釉中的固体成分的质量比为4:10~6:10。

优选的,所述太赫兹聚能芯片按重量份计算,包括:托玛琳石20份、熔块80份;所述托玛琳石为镁铁锂电气石;所述熔块由以下质量分数的成分组成:硅的氧化物50%,铝的氧化物15%,锌的氧化物8%,钡的氧化物6%,钙的氧化物14%,镁的氧化物6%,钾的氧化物0.5%,钠的氧化物0.5%。

优选的,太赫兹光量纳米瓷贴的制作工艺包括如下步骤:

步骤一、按纳米光量聚能瓷主体的各组成原料的配比进行备料;

步骤二、将备料依次放入球磨机中进行球磨、喷雾、干燥得到硬质粉体,使颗粒直径控制在3万纳米级目;

步骤三、将硬质粉体加水形成泥料,并填于模具中进行压制;

步骤四、对定型的泥料进行脱模,后在850至1000摄氏度之间的炉温下进行一次烧结,一次烧结时长为2至3小时;

步骤五、对一次烧结制品上釉面,并将构成太赫兹聚能芯片的原料以泥料方式填入一次烧结制品底部的凹槽内进行二次烧结,二次烧结温度控制在750度至900摄氏度之间,二次烧结时长为5至6小时。

本发明有益效果为:通过构成纳米光量聚能瓷主体以及太赫兹聚能芯片的多种对人体有益元素成分,使得本产品中具有其释放的负离子,能净化其中空气、消除异味、活化细胞、预防疾病、摄入能量元素、改善体内微循环、增强免疫力,提供一定的保健作用。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明结构剖视图;

图2为本发明生产工艺流程图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于姜炳聿,未经姜炳聿许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110309938.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top