[发明专利]用于与光热靶向治疗系统一起使用的温度传感装置和相关方法

权利要求书

1.一种用于测量被测表面的温度的温度测量系统的扫描仪装置，所述扫描仪装置包括：

1)第一温度传感器；以及

2)参考表面，所述参考表面包括集成在其中的第二温度传感器，

其中，所述第一温度传感器包括同时覆盖所述被测表面的至少一部分和所述参考表面的至少一部分二者的视场，

其中，所述第一温度传感器被配置成同时获取所述被测表面的所述部分和所述参考表面的所述部分二者的第一测量，以及

其中，将由所述第一温度传感器获取的所述参考表面的所述第一测量与由所述第二温度传感器获取的第二测量进行比较，以用于校准所述第一温度传感器。

2.根据权利要求1所述的扫描仪装置，其中，所述第一温度传感器是红外摄像机。

3.根据权利要求1所述的扫描仪装置，其中，所述第二温度传感器是接触传感器。

4.根据权利要求3所述的扫描仪装置，其中，所述接触传感器包括集成电路温度测量设备、电阻式温度检测器、热电偶和热敏电阻中的至少一个。

5.根据权利要求3所述的扫描仪装置，其中，所述第二温度传感器包括至少两个接触传感器。

6.根据权利要求1所述的扫描仪装置，其中，所述参考表面包括在其上的纹理。

7.根据权利要求6所述的扫描仪装置，其中，所述纹理被配置用于引导除了所述参考表面之外的任何外表面远离所述第一温度传感器的视场。

8.根据权利要求7所述的扫描仪装置，其中，所述纹理包括锯齿图案。

9.根据权利要求1所述的扫描仪装置，其中，所述参考表面特征在于参考发射率值近似等于所述被测表面的测量发射率值。

10.根据权利要求9所述的扫描仪装置，其中，所述参考表面是由所述参考发射率值表征的材料形成的。

11.根据权利要求9所述的扫描仪装置，其中，所述参考表面涂覆有由所述参考发射率值表征的材料。

12.根据权利要求1所述的扫描仪装置，其中，所述参考表面包括温度稳定机构。

13.根据权利要求1所述的扫描仪装置，还包括第二参考表面，所述第二参考表面包括集成在其中的第三温度传感器。

14.一种光热靶向治疗系统，用于瞄准嵌入介质中的发色团，所述光热靶向治疗系统包括：

控制器；

光热治疗单元；以及

温度测量系统，用于测量覆盖所述介质的至少一部分的被测表面的温度，

其中，所述控制器被配置用于使用所述光热治疗单元来施加治疗协议，

其中，所述温度测量系统包括1)第一温度传感器，和2)其中集成有第二温度传感器的参考表面，以及

其中，所述第一温度传感器包括覆盖所述被测量表面的至少一部分和所述参考表面的至少一部分二者的视场。

15.根据权利要求14所述的光热靶向治疗系统，其中，将由所述第一温度传感器获取的第一测量与由所述第二温度传感器获取的第二测量进行比较，以相对于所述第二温度测量校准所述第一温度测量。

16.根据权利要求15所述的光热靶向治疗系统，其中，在所述治疗方案期间在原位获取所述第一测量和所述第二测量。

17.根据权利要求16所述的光热靶向治疗系统，其中，第一测量和第二测量被所述控制器用于修改进行中的治疗协议。