[发明专利]具有透明工件表面模式的计量系统有效

专利信息
申请号: 202011504114.1 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN113008789B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: R.K.布莱尔 申请(专利权)人: 株式会社三丰
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/88
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邸万奎
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 透明 工件 表面 模式 计量 系统
【权利要求书】:

1.一种计量系统,包括:

光源;

透镜,其输入从被光源照射的工件的表面产生的图像光,并沿着成像光路传输所述图像光;

照相机,其接收沿着成像光路传输的图像光并提供工件的图像,其中,所述系统的聚焦位置被配置为在沿着Z高度方向靠近工件的聚焦范围内的多个位置上可变;

一个或多个处理器;以及

耦合到所述一个或多个处理器并存储程序指令的存储器,当所述程序指令由所述一个或多个处理器执行时,使得所述一个或多个处理器至少:

获取包括多个图像的图像堆栈,其中,所述图像堆栈的每个图像被获取为对应于聚焦范围内的不同Z高度,并且所述图像堆栈的每个图像包括工件的第一表面和工件的第二表面,第一表面是透明或半透明中的至少一个,第二表面通过第一表面至少部分可观察;

基于所述图像堆栈的图像确定多个聚焦曲线;

对于每个聚焦曲线,确定对应于第一表面的第一局部聚焦峰以及对应于第二表面的第二局部聚焦峰;

显示包括由用户根据用于选择第一表面或第二表面的选项来选择的第一选择表面的第一显示图像,其中第一选择表面是以下各项中的一个:

第一选择表面是第一表面,对于这种情况,基于第一局部聚焦峰而不基于第二局部聚焦峰,第一显示图像包括第一表面而不包括通过第一表面至少部分可观察的第二表面;或者

第一选择表面是通过第一表面至少部分可观察的第二表面,对于这种情况,基于第二局部聚焦峰而不基于第一局部聚焦峰,第一显示图像包括第二表面而不包括第一表面。

2.根据权利要求1所述的系统,其中,获取所述图像堆栈包括将图案投影到第一表面和第二表面上,这导致聚焦曲线中的至少一些局部聚焦峰比将在相同图像获取过程和条件但没有投影图案的情况下产生的局部聚焦峰高。

3.根据权利要求2所述的系统,其中,当所述程序指令由所述一个或多个处理器执行时,还使得所述一个或多个处理器在不利用所述图案投影的情况下获取第二图像堆栈,并且对于第二图像堆栈,第一局部聚焦峰被用于确定来自第二图像堆栈的什么图像数据对应于第一表面,其中,第一选择表面是第一表面,并且来自第二图像堆栈的对应于第一表面的图像数据被用于显示包括第一表面的第一显示图像。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,第一显示图像是包括第一选择表面的第一显示二维2D扩展景深EDOF图像。

5.根据权利要求4所述的系统,其中,当所述程序指令由所述一个或多个处理器执行时,还使得所述一个或多个处理器还基于与第一显示2D EDOF图像所基于的相同的局部聚焦峰来显示包括第一选择表面的第一显示三维3D图像。

6.根据权利要求1所述的系统,其中,第一显示图像是包括第一选择表面的第一显示3D图像。

7.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述程序指令由所述一个或多个处理器执行时,还使得所述一个或多个处理器基于应用于第一显示图像中的第一选择表面的一个或多个视频工具的操作来确定第一选择表面上的两个特征之间的尺寸。

8.根据权利要求7所述的系统,其中,所述一个或多个视频工具包括尺寸测量工具、点工具、框工具、圆工具或弧工具中的至少一个。

9.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述程序指令由所述一个或多个处理器执行时,还使得所述一个或多个处理器在不同时间显示第二选择表面的第二显示图像,第二选择表面由用户根据用于选择第一表面或第二表面的选项来选择,其中第二选择表面是以下各项中的一个:

当第一选择表面是第一表面时,第二选择表面是第二表面,对于这种情况,基于第二局部聚焦峰而不基于第一局部聚焦峰,第二显示图像包括第二表面而不包括第一表面;

当第一选择表面是第二表面时,第二选择表面是第一表面,对于这种情况,基于第一局部聚焦峰而不基于第二局部聚焦峰,第二显示图像包括第一表面而不包括第二表面。

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