[发明专利]一种碱性蚀刻液中铜离子的回收方法在审
申请号: | 202011346363.2 | 申请日: | 2020-11-26 |
公开(公告)号: | CN112626561A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 彭璟;雷仁华;邹文;周爱成 | 申请(专利权)人: | 苏州美源达环保科技股份有限公司 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12;C22B7/00;C22B15/00 |
代理公司: | 苏州根号专利代理事务所(普通合伙) 32276 | 代理人: | 仇波 |
地址: | 215400 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碱性 蚀刻 液中铜 离子 回收 方法 | ||
本发明公开了一种碱性蚀刻液中铜离子的回收方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、多次萃取处理;步骤S2、反萃取处理;步骤S3、补充电解添加剂;步骤S4、电解;所述电解添加剂包括如下按重量份的各组分制成:聚N‑甲基吡咯烷酮3‑5份、尿素1‑4份、β‑烟酰胺腺嘌呤二核苷酸0.5‑1.5份、吐温20 1‑3份。本发明公开的碱性蚀刻液中铜离子的回收方法能快捷、高效、安全地实现碱性蚀刻废液中铜离子的回收,其回收工艺简单,过程操作控制方便,无需专用设备,回收成本低,回收效率和效果好,不会产生二次污染,且通过电解工艺和添加剂的使用,使得回收的铜产品形态和品质好。能有效实现经济价值、社会价值和生态价值的良好结合。
技术领域
本发明涉及废液资源化处理和有色金属回收技术领域,尤其涉及一种碱性蚀刻液中铜离子的回收方法。
背景技术
近年来,印刷电路板是电子信息产业的基础,先进的科技产品都离不开印刷电路板。由于印刷电路板在蚀刻工艺过程中产生大量的蚀刻废液,其中含有大量对环境有害的成分,如铜离子等。因此,对废蚀刻液的处理一直是困扰企业的问题。
蚀刻液根据其PH不同,可以分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。对于碱性蚀刻液,其通常因铜离子浓度升高而降低蚀刻效果,此时这种蚀刻液也失去了蚀刻能力,蚀刻液便成为废液。蚀刻废液中含有大量的铜,若直接排放掉会造成资源浪费。现今对蚀刻废液的处理方法主要包括酸化法、碱化法和混合法,其中,酸化法是在蚀刻废液中加入工业盐酸,生成氢氧化铜沉淀,过滤洗涤后,生成物用硫酸溶解制成硫酸铜;碱化法则是向废液中加入氢氧化钠溶液,铜转化成氧化铜沉淀,用硫酸溶解后得到硫酸铜;混合法是用酸性蚀刻液中和碱性蚀刻液,生成碱式氯化铜沉淀,分离、洗涤后用浓硫酸溶解得到硫酸铜,冷却结晶可得硫酸铜晶体。上述三种方法均采用沉淀法分离铜,需要消耗大量的试剂,这不仅会产生大量的洗涤废水,而且产品的纯度不能得到保证。
专利CN 107354315 A公开了一种从AMOLED碱性蚀刻废液中回收铜的方法,包括以下步骤:(1)将碱性蚀刻废液与二乙基二硫代氨基甲酸铵加入第一搅拌罐中,加入水合肼还原剂,再加入催化剂,再向第一搅拌罐内加入萃取剂并搅拌均匀,搅拌之后将第一搅拌罐内溶液静置一段时间使其内溶液自动分层;(2)将第一搅拌罐中分层后的上层含铜离子的萃取剂加入第二搅拌罐内,向第二搅拌罐内加入硫酸溶液进行反萃取并搅拌第二搅拌罐内溶液,搅拌之后将第二搅拌罐内溶液静置一段时间使其自动分层;(3)将第二搅拌罐内的下层溶液在反应温度为50-100℃下,反应20-40min,再加入电解槽内进行直流电解得到单质铜,分离获得沉淀铜粉及滤液。然而,步骤(1)中催化剂采用钯盐或钌盐的溶液与镍盐的溶液或钴盐的溶液的混合构成的复合盐溶液,不仅价格昂贵,还会带来二次重金属污染。
发明内容
本发明目的是为了克服现有技术的不足而提供一种碱性蚀刻液中铜离子的回收方法,该回收方法能快捷、高效、安全地实现碱性蚀刻废液中铜离子的回收,其回收工艺简单,过程操作控制方便,无需专用设备,回收成本低,回收效率和效果好,不会产生二次污染,且通过电解工艺和添加剂的使用,使得回收的铜产品形态和品质好。能有效实现经济价值、社会价值和生态价值的良好结合。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种碱性蚀刻液中铜离子的回收方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、多次萃取处理:将欲处理的碱性蚀刻废液先加入第一萃取槽内,加入第一萃取液进行第一次萃取;接着将第一次萃取后的母液通入第二萃取槽内,加入第二萃取液进行第二次萃取;最后将第二次萃取后的母液通入第三萃取槽内,加入第三萃取剂进行第三次萃取;
步骤S2、反萃取处理:将经过S1多次萃取处理得到的富铜萃取剂集中加入反萃取槽内,加入反萃取剂进行反萃取;
步骤S3、补充电解添加剂:在经过步骤S2反萃取处理得到的富铜液中加入电解添加剂,混合均匀;
步骤S4、电解:将经过步骤S3得到的电解液输入至电解槽进行电解提铜。
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