[发明专利]抗静电有机硅离型膜

说明书

本发明提供了抗静电有机硅离型膜，其中当该膜从粘合剂上被除去时提供了优异的抗静电特性而不产生静电副作用，获得了固化层与基底之间的优异粘附，并且固化层具有高的交联度，从而实现了稳定的离型特性。本发明的抗静电有机硅离型膜包括：基底膜；和至少设置在基底膜的一个表面上的抗静电有机硅离型组合物的固化层，其中固化层包括抗静电区域和有机硅离型区域，在抗静电区域中表现出有机硅离型特性的硅离子与表现出抗静电特性的硫化物离子之间的强度比(Si‑/S‑)小于1，在有机硅离型区域中所述强度比大于10。

技术领域

以下描述一般地涉及抗静电有机硅离型膜，并且更特别地涉及这样的抗静电有机硅离型膜，其中当该膜从粘合剂上被除去时提供了优异的抗静电特性而不产生静电副作用，获得了固化层与基底之间的优异粘附，并且固化层具有高的交联度，从而实现了稳定的离型特性。

背景技术

近来，随着半导体、电气和电子技术以及显示器的快速工业发展，在这些领域中越来越多地使用合成树脂或合成纤维，但是在加工期间出现静电的问题。

通常，在用于保护粘合剂层的离型膜的领域中，一直需要抗静电特性。常规地，已经为粘合剂层提供了抗静电特性以解决诸如当离型膜与粘合剂层分离时由静电引起的污染、剥离失败等的问题。然而，由于抗静电剂与粘合剂之间的不相容性，可能无法实现足够的抗静电效果。因此，在近来的制造过程中，除粘合剂层之外为离型层提供抗静电特性变得越来越普遍。

作为用于精密材料的离型膜所需的离型特性，需要以下特性：根据粘合剂的类型和使用目的在适当范围内的剥离力；高的粘合剂粘附率，用于确保粘附性不会因离型层转移至粘合剂层而降低；耐溶剂性，用于确保离型层不被粘合剂中使用的有机溶剂破坏；离型层与基底之间高的粘附性，用于防止离型层在加工期间通过摩擦而被擦掉，等等。此外，由于将粘合剂层制造为薄膜，并且使用离型膜作为粘合剂载体膜，因此还需要几乎不随温度和时间变化的稳定的离型特性。

现有的抗静电技术包括内部添加阴离子化合物、沉积金属化合物、涂覆导电无机颗粒、涂覆低分子离子化合物、涂覆导电聚合物等。基于这样的抗静电技术，通过在有机硅组合物中使用金属来生产抗静电离型膜。

然而，这样的常规技术的缺点在于，该技术在经济可行性方面不利，可能无法实现足够的抗静电性能，并且可能无法形成均匀的涂覆层。此外，当在抗静电组合物中使用离子化合物时，硅离型组合物的固化被抑制，使得可能无法获得稳定的离型特性，并且抗静电离型层与基底之间的粘附性低，使得离型层分离或者粘合性能降低。

此外，通常使用离线涂覆方法，其中抗静电层与离型层分开涂覆，以为这样的离型层提供抗静电特性。因此，在各自的涂覆过程期间，由于异物、划痕等而经常出现品质问题，从而导致高的生产成本。

因此，本发明的发明人发现，使用具有相容性优异的导电聚合物树脂和反应性优异的粘结剂化合物的混合物的用于生产离型膜的有机硅离型涂覆组合物通过一次涂覆过程可以生产抗静电有机硅离型膜，并且基于该发现完成了本发明。

[现有技术文献]

[专利文献]

(专利文献1)韩国特许专利公开第10-2015-0104477号

发明内容

技术问题

为了解决上述问题并为了满足上述要求而做出本发明，并且本发明的一个目的是提供通过在线制造方法而具有优异的抗静电特性的抗静电有机硅离型膜，使得当用作半导体、电气和电子设备以及显示器用的离型膜时，抗静电有机硅离型膜可以减少诸如当离型膜与粘合剂分离时由静电引起的污染、剥离失败等副作用。