[实用新型]用于锂膜成形的机构以及用于极片补锂的装置

权利要求书

1.一种用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，

用于锂膜成形的机构(3)包括辅助膜提供机构(31)、转移膜提供机构(32)、表面处理机构(33)、锂带提供机构(34)以及两个轧辊(35)，

辅助膜提供机构(31)位于两个轧辊(35)的上游，辅助膜提供机构(31)用于向两个轧辊(35)之间提供辅助膜(A)，辅助膜(A)包括第一隔离膜(S1)以及设置在第一隔离膜(S1)上的第一脱膜剂层(G1)，

转移膜提供机构(32)位于两个轧辊(35)的上游，转移膜提供机构(32)用于向两个轧辊(35)之间提供转移膜(T)，转移膜(T)包括第二隔离膜(S2)以及设置在第二隔离膜(S2)上的第二脱膜剂层(G2)，

锂带提供机构(34)位于两个轧辊(35)的上游，锂带提供机构(34)用于向两个轧辊(35)之间提供锂带(L0)，

表面处理机构(33)位于两个轧辊(35)的上游，表面处理机构(33)用于对进入两个轧辊(35)之前的辅助膜(A)的第一脱膜剂层(G1)或转移膜(T)的第二脱膜剂层(G2)去除，以使第一隔离膜(S1)或第二隔离膜(S2)中的相应部分的表面粗糙度增大，

两个轧辊(35)用于将辅助膜(A)与转移膜(T)连同锂带(L0)轧制，以将锂带(L0)轧制成锂箔(L1)，且使锂箔(L1)粘附在转移膜(T)上而形成锂膜(C)。

2.根据权利要求1所述的用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，表面处理机构(33)用于采用激光将第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)去除。

3.根据权利要求2所述的用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，

表面处理机构(33)包括计算机(331)、激光器(332)、准直镜(333)、全反镜(334)、反射镜(335)、聚焦透镜(336)以及CCD(337)；

激光器(332)通信连接于计算机(331)，激光器(332)用于发射激光束，发射的激光束能够经过准直镜(333)、全反镜(334)、反射镜(335)到达聚焦透镜(336)；

CCD(337)通信连接于计算机(331)，CCD(337)用于定位第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)的去除的位置；

计算机(331)通信连接激光器(332)和CCD(337)，计算机(331)用于调整激光束的强度。

4.根据权利要求1所述的用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，表面处理机构(33)用于采用砂纸(339)将第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)去除。

5.根据权利要求4所述的用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，

表面处理机构(33)包括计算机(331)、CCD(337)、机械臂(338)以及砂纸(339)；

机械臂(338)通信连接于计算机(331)，机械臂(338)用于将砂纸(339)压到第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)上，从而能够将第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)去除；

计算机(331)通信连接于机械臂(338)，计算机(331)用于控制砂纸(339)的处理时间和处理范围；

CCD(337)通信连接于计算机(331)，CCD(337)用于定位第一脱膜剂层(G1)或第二脱膜剂层(G2)的去除的位置。

6.根据权利要求1所述的用于锂膜成形的机构(3)，其特征在于，用于锂膜成形的机构(3)还包括辅助膜收取机构(36)，辅助膜收取机构(36)位于两个轧辊(35)的下游，辅助膜收取机构(36)用于收取穿过两个轧辊(35)之间的辅助膜(A)。