[实用新型]用于极片补锂的装置

权利要求书

1.一种用于极片补锂的装置，极片(P0)包括集流体(P01)以及间断性地设置在集流体(P01)表面上的活性物质层(P02)，用于极片补锂的装置包括辊压机构(1)、极片提供机构(2)、锂膜提供机构(3)；

辊压机构(1)包括两个压辊(11)；

极片提供机构(2)位于两个压辊(11)的上游，极片提供机构(2)用于向两个压辊(11)之间提供极片(P0)；

锂膜提供机构(3)位于两个压辊(11)的上游，锂膜提供机构(3)用于提供锂膜(C)，锂膜(C)包括转移膜(T)和锂箔(L1)；

其特征在于，

用于极片补锂的装置还包括带材提供机构(4)；

带材提供机构(4)用于向转移膜(T)和与其对应一侧的压辊(11)之间提供带材(S)，带材(S)包括基材(S1)以及间断设置在基材(S1)上的附着层(S2)，附着层(S2)能够与极片(P0)的活性物质层(P02)对应；

辊压机构(1)用于压延带材(S)、锂膜(C)以及极片(P0)，以使锂膜(C)中的锂箔(L1)粘附到活性物质层(P02)上。

2.根据权利要求1所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，

用于极片补锂的装置还包括转移膜收取机构(5)，

转移膜收取机构(5)位于两个压辊(11)的下游，转移膜收取机构(5)用于将通过两个压辊(11)的转移膜(T)收取。

3.根据权利要求1所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，

锂膜提供机构(3)包括轧制机构(31)，轧制机构(31)用于使锂箔(L1)粘附在转移膜(T)上。

4.根据权利要求3所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，锂膜提供机构(3)还包括辅助膜提供机构(32)，辅助膜提供机构(32)位于轧制机构(31)的上游，辅助膜提供机构(32)用于向轧制机构(31)提供辅助膜(A)。

5.根据权利要求4所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，锂膜提供机构(3)还包括辅助膜收取机构(33)，辅助膜收取机构(33)位于轧制机构(31)的下游，辅助膜收取机构(33)用于收取穿过轧制机构(31)的辅助膜(A)。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，轧制机构(31)包括转移膜提供机构(311)、锂带提供机构(312)以及两个轧辊(313)，

转移膜提供机构(311)用于向两个轧辊(313)之间提供转移膜(T)，

锂带提供机构(312)用于向两个轧辊(313)之间提供锂带(L0)，

两个轧辊(313)用于轧制锂带(L0)以及转移膜(T)，以将锂带(L0)轧制成锂箔(L1)并使锂箔(L1)粘附在转移膜(T)上而形成锂膜(C)。

7.根据权利要求1所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，

带材提供机构(4)包括分别设置两个压辊(11)的上游和下游的带材放出机构(41)以及带材收取机构(42)，带材放出机构(41)用于向两个压辊(11)放出带材(S)，带材收取机构(42)用于收取穿过两个压辊的带材(S)。

8.根据权利要求1所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，基材(S1)和/或附着层(S2)具有弹性。

9.根据权利要求1所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，

用于极片补锂的装置还包括补锂极片收取机构(6)，

补锂极片收取机构(6)位于两个压辊(11)的下游，补锂极片收取机构(6)用于将活性物质层(P02)粘附有锂箔(L1)的极片(P0)收取。

10.根据权利要求2所述的用于极片补锂的装置，其特征在于，锂膜提供机构(3)、转移膜收取机构(5)以及带材提供机构(4)依据活性物质层(P02)设置在集流体(P01)一个或两个表面上而对应地设置为一组或两组。