[实用新型]冷转印膜复合装置

权利要求书

1.冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，包括冷转印辊(21)，还包括基膜辊(22)、镭射膜辊(23)、合膜辊组(24)，所述冷转印辊(21)的下方设置有胶池(25)，

所述基膜辊(22)、所述冷转印辊(21)、所述合膜辊组(24)依次设置且分别用于输出基膜(B)、将所述基膜(B)上转印胶水、将镭射膜(A)与所述基膜(B)合膜，所述镭射膜辊(23)用于将所述镭射膜(A)输送至所述合膜辊组(24)进行合膜，

所述冷转印辊(21)包括钢制辊体(211)，所述钢制辊体(211)的辊面上设置有第一镀层(212)，所述第一镀层(212)的表面形成有用于容纳胶水的胶水图案凹陷(213)。

2.根据权利要求1所述的冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，所述合膜辊组(24)包括下底辊(241)和上辊(242)，且两者之间形成用于镭射膜(A)和基膜(B)通入后合并的缝隙(243)，所述镭射膜(A)逐渐下降至所述缝隙(243)，所述基膜(B)逐渐上升至所述缝隙(243)，所述缝隙(243)位于所述上辊(242)的下部。

3.根据权利要求1所述的冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，所述镭射膜辊(23)为用于设置镭射膜卷(A0)的镭射膜辊(23)，所述基膜辊(22)为用于设置基膜卷(B0)或者用于导向刚印刷好图案的基膜(B)的基膜辊(22)。

4.根据权利要求1所述的冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，所述第一镀层(212)上设置有用于增加耐用性的第二镀层(214)。

5.根据权利要求4所述的冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，所述第一镀层(212)具体为铜镀层，所述第二镀层(214)具体为铬镀层或镍铬镀层。

6.根据权利要求4所述的冷转印膜复合装置(2)，其特征在于，所述胶水图案凹陷(213)的深度为20～40μm。